JPH0227732A - 低抵抗配線接続加工方法 - Google Patents
低抵抗配線接続加工方法Info
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- JPH0227732A JPH0227732A JP17740688A JP17740688A JPH0227732A JP H0227732 A JPH0227732 A JP H0227732A JP 17740688 A JP17740688 A JP 17740688A JP 17740688 A JP17740688 A JP 17740688A JP H0227732 A JPH0227732 A JP H0227732A
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- JP
- Japan
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- wiring
- wirings
- low resistance
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- Pending
Links
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- 238000012986 modification Methods 0.000 claims 1
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- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 3
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体集積回路に関し、特に、配線間の接続
に関する。
に関する。
従来この種の配線間の接続は、第３図に示すように、集
束イオンビーム加工装置及び集束レーザ光を用いて行な
われている。はじめに、イオンビーム及びレーザ光によ
り接続する２本の配線１．１′に穴３を開ける。次にこ
の２つの穴３０間に、タングステン及びモリブデン等の
膜２を形成して２つの穴３の周辺を含んだ２つの穴３の
間の配線を行なっていた。
束イオンビーム加工装置及び集束レーザ光を用いて行な
われている。はじめに、イオンビーム及びレーザ光によ
り接続する２本の配線１．１′に穴３を開ける。次にこ
の２つの穴３０間に、タングステン及びモリブデン等の
膜２を形成して２つの穴３の周辺を含んだ２つの穴３の
間の配線を行なっていた。
上述した従来の配線接続加工は、接続したいそれぞれの
配線部分にそれぞれ１個の小さな穴を開けていたので、
従来の配線と新しい配線の間の接触抵抗が高くなるとい
う欠点があった。
配線部分にそれぞれ１個の小さな穴を開けていたので、
従来の配線と新しい配線の間の接触抵抗が高くなるとい
う欠点があった。
本発明の目的は配線と新しい配線をコンタクトを使用し
て接続する際の接続抵抗を低くすることを提供すること
にある。
て接続する際の接続抵抗を低くすることを提供すること
にある。
本発明の低抵抗配線接続加工は、ＬＳＩ配線終７後の配
線パターンの修正で配線と追加配線の抵抗が非常に高く
大きさを自由にコンタクトを取ることをゆるされた追加
配線において、修正の対象となる複数本の配線にコンタ
クトをそれぞれとり、新しい配線を追加することにより
、配線パターンの接続を行なう場合、配線する前に配線
の間をエツチングしておき、配線のコンタクトを縦横に
数多くとることによって低抵抗配線を得るものである。
線パターンの修正で配線と追加配線の抵抗が非常に高く
大きさを自由にコンタクトを取ることをゆるされた追加
配線において、修正の対象となる複数本の配線にコンタ
クトをそれぞれとり、新しい配線を追加することにより
、配線パターンの接続を行なう場合、配線する前に配線
の間をエツチングしておき、配線のコンタクトを縦横に
数多くとることによって低抵抗配線を得るものである。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例の全体平面図である。
ｌ、１′は修正対象の配線であり、２本の配線を電気が
流れるように接続する。配線１，１′の接続は集束イオ
ンビーム加工装置及び集束レーザ光を用いて行なわれる
。はじめにイオンビーム及びレーザ光により接続する２
本の配線１，１′をエツチングにより、それぞれ１０個
づつ穴（コンタクト）３を開ける。次にこれら２つの穴
３の間にタングステン及びモリブランの膜２を穴３がす
べて含まれるように広く形成する。また新規配線する前
に接続する配線間をエツチングすることにより、配線の
厚さ方向にも新規配線が接触され配線間が低抵抗になる
。
流れるように接続する。配線１，１′の接続は集束イオ
ンビーム加工装置及び集束レーザ光を用いて行なわれる
。はじめにイオンビーム及びレーザ光により接続する２
本の配線１，１′をエツチングにより、それぞれ１０個
づつ穴（コンタクト）３を開ける。次にこれら２つの穴
３の間にタングステン及びモリブランの膜２を穴３がす
べて含まれるように広く形成する。また新規配線する前
に接続する配線間をエツチングすることにより、配線の
厚さ方向にも新規配線が接触され配線間が低抵抗になる
。
第２図は本発明の他の実施例の全体平面図である。修正
対象の２本の配線１，１′間に電流が流れるように接続
するコンタクト穴３は、上の配線１で１０コとり、下の
配線１′で６コとっている。
対象の２本の配線１，１′間に電流が流れるように接続
するコンタクト穴３は、上の配線１で１０コとり、下の
配線１′で６コとっている。
また新規配線２は、他の配線ｌ、１′と交差しないよう
に１字形にしである。このように多くのコンタクト穴３
をとることにより接触抵抗を下げ、修正配線の抵抗が低
くなるようにした。また第１図の実施例に比べ、新規配
線２を丁字形にしたために、従来から有る他の配線と交
差しないようにできるという利点がある。
に１字形にしである。このように多くのコンタクト穴３
をとることにより接触抵抗を下げ、修正配線の抵抗が低
くなるようにした。また第１図の実施例に比べ、新規配
線２を丁字形にしたために、従来から有る他の配線と交
差しないようにできるという利点がある。
以上説明したように、本発明は、配線パターンの追加配
線修正で配線と追加配線の抵抗が非常に高く、数多く自
由にコンタクトを取ることをゆるされた追加配線におい
て、配線する前に接続する配線間をエツチングしておき
、配線のコンタクトを縦横に数多くとることによって、
低抵抗配線が与られるという効果がある。
線修正で配線と追加配線の抵抗が非常に高く、数多く自
由にコンタクトを取ることをゆるされた追加配線におい
て、配線する前に接続する配線間をエツチングしておき
、配線のコンタクトを縦横に数多くとることによって、
低抵抗配線が与られるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す平面図、第２図は本発
明の他の実施例を示す平面図、第３図は従来例を示す平
面図である。 ■・・・・・・配線、２・・・・・・新規配線、３・・
・・・・コンタクト穴。 代理人 弁理士 内 原 晋
明の他の実施例を示す平面図、第３図は従来例を示す平
面図である。 ■・・・・・・配線、２・・・・・・新規配線、３・・
・・・・コンタクト穴。 代理人 弁理士 内 原 晋
Claims (1)
- 集積回路の配線終了後の配線パターンの修正で配線と追
加配線の抵抗が非常に高く自由な大きさにコンタクトを
取ることをゆるされた追加配線において、修正の対象と
なる複数本の配線にコンタクトをそれぞれとり、新しい
配線を追加することにより、配線パターンの接続を行な
う場合、配線する前に接続する配線間をエッチングして
おき、配線のコンタクトを縦横に数多くとることによっ
て低抵抗配線を与られることを特徴とする低抵抗配線接
続加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17740688A JPH0227732A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 低抵抗配線接続加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17740688A JPH0227732A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 低抵抗配線接続加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0227732A true JPH0227732A (ja) | 1990-01-30 |
Family
ID=16030376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17740688A Pending JPH0227732A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 低抵抗配線接続加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0227732A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05508748A (ja) * | 1991-05-14 | 1993-12-02 | フルオロウェア・インコーポレーテッド | 傾斜ボックス |
| US5378496A (en) * | 1992-12-03 | 1995-01-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing magnetic recording medium |
-
1988
- 1988-07-15 JP JP17740688A patent/JPH0227732A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05508748A (ja) * | 1991-05-14 | 1993-12-02 | フルオロウェア・インコーポレーテッド | 傾斜ボックス |
| US5378496A (en) * | 1992-12-03 | 1995-01-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of manufacturing magnetic recording medium |
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