JPS59162622A - 垂直磁気記録体並にその製造法 - Google Patents
垂直磁気記録体並にその製造法Info
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- JPS59162622A JPS59162622A JP58036653A JP3665383A JPS59162622A JP S59162622 A JPS59162622 A JP S59162622A JP 58036653 A JP58036653 A JP 58036653A JP 3665383 A JP3665383 A JP 3665383A JP S59162622 A JPS59162622 A JP S59162622A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
最近、高密度記録の可能な新しい磁気記録方式として一
垂直磁気記録方式と光磁気記録方式が注目され、研究さ
れているが、これら方式に用いられる媒体は、垂直方向
に磁気異方性を備え且つＫｕ、≧２πＭｓ”或はｎ Ｑ
Ｌ ＞ ＨＯ／／ ｌ Ｂ ｒ ４＞ＢｒＮの゛条件
を満足したいわゆる垂直磁化膜を使用する必要がある。
垂直磁気記録方式と光磁気記録方式が注目され、研究さ
れているが、これら方式に用いられる媒体は、垂直方向
に磁気異方性を備え且つＫｕ、≧２πＭｓ”或はｎ Ｑ
Ｌ ＞ ＨＯ／／ ｌ Ｂ ｒ ４＞ＢｒＮの゛条件
を満足したいわゆる垂直磁化膜を使用する必要がある。
従来、知られているように、ＯＯはＨＯＰ構造のＯ軸方
向に大きな結晶磁気異方性を有して居り、この性質を利
用して垂直磁化膜を得ようとすると、■膜面に対して０
軸がほとんど垂直になるように結晶配向していること
■稍晶磁気異方性Ｋｕが薄膜の垂直方向の反磁界２πＭ
ｓ２より大きいことの２つの条件を満足させる必要があ
る。しかしＯｏ薄膜では、飽和磁化ＭｓＶ）値が大きい
ため、前記■の条件が満たされておらず、垂直磁化膜と
はならない。
向に大きな結晶磁気異方性を有して居り、この性質を利
用して垂直磁化膜を得ようとすると、■膜面に対して０
軸がほとんど垂直になるように結晶配向していること
■稍晶磁気異方性Ｋｕが薄膜の垂直方向の反磁界２πＭ
ｓ２より大きいことの２つの条件を満足させる必要があ
る。しかしＯｏ薄膜では、飽和磁化ＭｓＶ）値が大きい
ため、前記■の条件が満たされておらず、垂直磁化膜と
はならない。
本発明は、か＼る点に鑑み１新しい０ｏ−０形式の垂直
磁化膜をもつ垂直磁気記録体を提供するもので、非磁性
基材面に、直接、又は軟磁性薄膜層を介してＯＯ〜１５
〜５０ａｔ％Ｏの組成から成る垂直磁化膜を備えたこと
を特徴とする。
磁化膜をもつ垂直磁気記録体を提供するもので、非磁性
基材面に、直接、又は軟磁性薄膜層を介してＯＯ〜１５
〜５０ａｔ％Ｏの組成から成る垂直磁化膜を備えたこと
を特徴とする。
更に第２発明は、上記の新規な垂直磁気記録体の製造法
を提供するもので、非磁性基材面に、又は予めその面に
形成した軟磁性＃膜層の面に１実質上垂直に入射するよ
うにＯＯ原子を真空蒸着させると同時に０．ガスを導入
して、０ｏ−１５＝ｓｏａｔ％０の組成から成る垂直磁
化膜を形成するようにしたことを特徴とする。
を提供するもので、非磁性基材面に、又は予めその面に
形成した軟磁性＃膜層の面に１実質上垂直に入射するよ
うにＯＯ原子を真空蒸着させると同時に０．ガスを導入
して、０ｏ−１５＝ｓｏａｔ％０の組成から成る垂直磁
化膜を形成するようにしたことを特徴とする。
次に本発明の実施例につき説明する。
第１図は、本発明を実施する真空蒸着装置を示し、真空
ポンプに１側に於て接続する容器（１）内に回転冷却キ
ャン（２）とその直下に電子ビーム蒸発源（３）を設け
、その上部両側に巻解しローラー（４）と巻取りローラ
ー（５）とを配設し、該ローラー（４）に巻きつけた非
磁性基材として、例えば、ロール状のＰＥＴテープ基材
［Ｌを、冷却キャン（２）０周面をそ■回動と共に回動
走行しローラー（５）に巻き取られるようにした。本発
明によれば、容器＋ｕ内に酸素を導入するための供給管
（６）を備える。図示の例では、これを走行テープ３面
の近傍で開口する長手のものとした。（７）は鳥蒸尭源
直上に対向する冷却キャン（２）の最下面を空して水平
に配置した防着板を示し、これにより、蒸発源（３）か
らの蒸発ｃｏ原子がテープ基材に対して実質上垂直に入
射蒸着するようにした。
ポンプに１側に於て接続する容器（１）内に回転冷却キ
ャン（２）とその直下に電子ビーム蒸発源（３）を設け
、その上部両側に巻解しローラー（４）と巻取りローラ
ー（５）とを配設し、該ローラー（４）に巻きつけた非
磁性基材として、例えば、ロール状のＰＥＴテープ基材
［Ｌを、冷却キャン（２）０周面をそ■回動と共に回動
走行しローラー（５）に巻き取られるようにした。本発
明によれば、容器＋ｕ内に酸素を導入するための供給管
（６）を備える。図示の例では、これを走行テープ３面
の近傍で開口する長手のものとした。（７）は鳥蒸尭源
直上に対向する冷却キャン（２）の最下面を空して水平
に配置した防着板を示し、これにより、蒸発源（３）か
らの蒸発ｃｏ原子がテープ基材に対して実質上垂直に入
射蒸着するようにした。
本装置を使用し、先づ、１×１０ トール以下まで容
器（１）内を排気した後、蒸発材料す、即ちＣＯを電子
ビーム加熱により一定速度で蒸発させ、１方該供Ｍ Ｗ
＋６）より、０．ガスを導入させて一定速度で走行す
るテープ基材１面に垂直蒸着を行ないＧｏ−０蒸着膜を
得るが、この場合、０、ガスの導入を種々の分圧になる
ようにＯよガス導入量を種々変化させて各種組成割合の
Ｃ０−０蒸着膜をもつ磁気記録体を製造した。その膜厚
は、テープ基材の走行速度を変化させる等で１ｏｏｏＸ
〜１００００λの範囲に作成した。か−る種々の００−
０組成をもつ蒸着膜につき磁気特性を測定し、第ｚｌＸ
ＪＡ＋ Ｂ、ｏに示すＣ０−０組成と磁気特性の関係を
得た。この結果から分かるように、Ｏ成分が増加すると
共に垂直方向の保磁力ＨＯふと残留磁束密度Ｂｒ↓が上
昇し、Ｏが１５ ａｔ％以上になると両者とも面内の保
磁力Ｈａ、、と残留磁束密度Ｂｒ、、より大きくなり、
垂直磁化膜が得られる。然し乍ら０が５０ ａｔ％を越
えると、飽和磁化Ｍ８の値がｃノとなり磁性を失なって
しまう。第６図は、本発明の代表的な０ｏ−５６ａｔ％
０組成から成る垂直磁化膜のヒステリシス曲線を示し、
完全な垂直磁化膜になっていることが分る。
器（１）内を排気した後、蒸発材料す、即ちＣＯを電子
ビーム加熱により一定速度で蒸発させ、１方該供Ｍ Ｗ
＋６）より、０．ガスを導入させて一定速度で走行す
るテープ基材１面に垂直蒸着を行ないＧｏ−０蒸着膜を
得るが、この場合、０、ガスの導入を種々の分圧になる
ようにＯよガス導入量を種々変化させて各種組成割合の
Ｃ０−０蒸着膜をもつ磁気記録体を製造した。その膜厚
は、テープ基材の走行速度を変化させる等で１ｏｏｏＸ
〜１００００λの範囲に作成した。か−る種々の００−
０組成をもつ蒸着膜につき磁気特性を測定し、第ｚｌＸ
ＪＡ＋ Ｂ、ｏに示すＣ０−０組成と磁気特性の関係を
得た。この結果から分かるように、Ｏ成分が増加すると
共に垂直方向の保磁力ＨＯふと残留磁束密度Ｂｒ↓が上
昇し、Ｏが１５ ａｔ％以上になると両者とも面内の保
磁力Ｈａ、、と残留磁束密度Ｂｒ、、より大きくなり、
垂直磁化膜が得られる。然し乍ら０が５０ ａｔ％を越
えると、飽和磁化Ｍ８の値がｃノとなり磁性を失なって
しまう。第６図は、本発明の代表的な０ｏ−５６ａｔ％
０組成から成る垂直磁化膜のヒステリシス曲線を示し、
完全な垂直磁化膜になっていることが分る。
上記の製法に於て、Ｏｏの蒸発速度を変化させて本発明
の０ｏ−１５〜５０ａｔ％０組成の膜を得るには、０．
ガス導入蓋も適当に変化させるようにする。この関係は
、基材への両原子の入射頻度にほぼ比例しているので１
００蒸発量が増加すると０７分圧を増加させる必要があ
る。第２図０から明らかなように、本発明のｏｏ−１５
〜５０ ａｔ％０組成から成る垂直磁化膜は、垂直方向
の保磁力Ｈａ↓の値は４００〜１０００Ｄｅ程度で、垂
直磁気記録体としては最も良好な値である。
の０ｏ−１５〜５０ａｔ％０組成の膜を得るには、０．
ガス導入蓋も適当に変化させるようにする。この関係は
、基材への両原子の入射頻度にほぼ比例しているので１
００蒸発量が増加すると０７分圧を増加させる必要があ
る。第２図０から明らかなように、本発明のｏｏ−１５
〜５０ ａｔ％０組成から成る垂直磁化膜は、垂直方向
の保磁力Ｈａ↓の値は４００〜１０００Ｄｅ程度で、垂
直磁気記録体としては最も良好な値である。
従来の０ｏ−Ｏｒ組成から成る垂直磁化膜をもつ磁気記
録体は１蒸着法によるときは、２００〜５００℃に基板
を加熱した条件下でこの加熱基板にＯｏとＯｒの原子を
蒸着せしめることが必須である。これに対し、本発明に
よれば、基材を加熱する必要なく、水冷キャンで基材を
積極的に冷却し一才未加熱の常温の場合でも垂直磁化膜
が得られ、従来のように、基材材質が耐熱性のものに限
定されポリイミドフィルム等の高価なプラスチックフィ
ルムしか使用できない不利を解消し、基材の材料は限定
されず、耐熱性のない材料、安価なＰＥＴフィルム等で
も使用でき有利である。本発明は、基材を冷却しな・し
νで常温でも又、加熱した状態でも良好な垂直磁化膜が
得られる。
録体は１蒸着法によるときは、２００〜５００℃に基板
を加熱した条件下でこの加熱基板にＯｏとＯｒの原子を
蒸着せしめることが必須である。これに対し、本発明に
よれば、基材を加熱する必要なく、水冷キャンで基材を
積極的に冷却し一才未加熱の常温の場合でも垂直磁化膜
が得られ、従来のように、基材材質が耐熱性のものに限
定されポリイミドフィルム等の高価なプラスチックフィ
ルムしか使用できない不利を解消し、基材の材料は限定
されず、耐熱性のない材料、安価なＰＥＴフィルム等で
も使用でき有利である。本発明は、基材を冷却しな・し
νで常温でも又、加熱した状態でも良好な垂直磁化膜が
得られる。
又、従来０ｏ−Ｏｒ垂直磁化膜では、蒸着法で作成しよ
うとすると、Ｏｒ組成の制御が困難で長時間に亘り均一
な垂直磁化膜を得ることが困難で、又カーリングが非常
ｒ激しく生ずるに対し、本発明によれば、ＣＯの蒸着速
度と０．ガス導入量を一定に保てば良いので、極めて容
易に長時間に亘って均一な垂直磁化膜基材上に形成でき
、又カーリングをほとんど生じないので、フロッピーデ
ィスク、磁気テープへの応用には極めて有利である。
うとすると、Ｏｒ組成の制御が困難で長時間に亘り均一
な垂直磁化膜を得ることが困難で、又カーリングが非常
ｒ激しく生ずるに対し、本発明によれば、ＣＯの蒸着速
度と０．ガス導入量を一定に保てば良いので、極めて容
易に長時間に亘って均一な垂直磁化膜基材上に形成でき
、又カーリングをほとんど生じないので、フロッピーデ
ィスク、磁気テープへの応用には極めて有利である。
本発明のＣ０−０薄膜が垂直磁化特性を発生する原因は
充分明らかでないが次のように考えられる。
充分明らかでないが次のように考えられる。
即ち、基材面に対して垂直に００原子を入射させて蒸着
すると、垂直方向にＨＯＰ構造の０軸を配向した柱状粒
子構造の薄膜が作成される。
すると、垂直方向にＨＯＰ構造の０軸を配向した柱状粒
子構造の薄膜が作成される。
この際、真空容器内に０．ガスを導入すると、蒸着ｃｏ
原子の１部が酸化され、００４：１０或はこれに近い酸
化物全同時に析出し、００粒子の周囲をその非強磁性酸
化物で覆った膜構造になるものと考えられる。従って、
この００柱状粒子は、結晶異方性の他に形状磁気異方性
も加わって居り、垂直磁気異方性を向上させている。以
上のような１部酸化の膜構造になると、膜全体の平均の
飽和磁化の値は低下するので、Ｋｕ工逼２πＭｓ２と云
う条件が満足され、垂直磁化特性が得られていると考え
られる。又、００柱状粒子の粒径は、数百久〜数千λ程
度と考えられ１金属機粒状になっているので、高い保磁
力も得られる。
原子の１部が酸化され、００４：１０或はこれに近い酸
化物全同時に析出し、００粒子の周囲をその非強磁性酸
化物で覆った膜構造になるものと考えられる。従って、
この００柱状粒子は、結晶異方性の他に形状磁気異方性
も加わって居り、垂直磁気異方性を向上させている。以
上のような１部酸化の膜構造になると、膜全体の平均の
飽和磁化の値は低下するので、Ｋｕ工逼２πＭｓ２と云
う条件が満足され、垂直磁化特性が得られていると考え
られる。又、００柱状粒子の粒径は、数百久〜数千λ程
度と考えられ１金属機粒状になっているので、高い保磁
力も得られる。
本発明の上記Ｃ０−０垂直磁化膜には、他の元素を微量
に混入することは差支えない。又ＯＯｒ固溶する元素で
ＨＯＰ構造に害を与えない元素、例えばＯｒ、 Ｖ、
Ｍｏ、 Ｗ、 Ｒｈ、 Ｔｉ、 Ｒｅ等の微量の混入も
差支えない。
に混入することは差支えない。又ＯＯｒ固溶する元素で
ＨＯＰ構造に害を与えない元素、例えばＯｒ、 Ｖ、
Ｍｏ、 Ｗ、 Ｒｈ、 Ｔｉ、 Ｒｅ等の微量の混入も
差支えない。
又、垂直磁気記録方式においては、垂直磁化膜と非磁性
基材面との間にパーマロイ、Ｆｅ、Ｏｏ。
基材面との間にパーマロイ、Ｆｅ、Ｏｏ。
０ｏ−Ｚｒ非晶質膜等の比較的軟質磁性を示し、飽和磁
化の大きい磁性体の薄膜を介在させると、記録電流を小
さくでき又再生出力を増大できるので、本発明によれば
、予め、非磁性基材面に軟磁性薄膜層を形成した後、そ
のＮ膜層の上面に、例えば、上記の実施例に従い、所定
のＯ。
化の大きい磁性体の薄膜を介在させると、記録電流を小
さくでき又再生出力を増大できるので、本発明によれば
、予め、非磁性基材面に軟磁性薄膜層を形成した後、そ
のＮ膜層の上面に、例えば、上記の実施例に従い、所定
のＯ。
−０組成の垂直磁化膜を形成することにより、該軟磁性
薄膜層の介入した本発明垂直磁気記録体を製造すること
ができる。
薄膜層の介入した本発明垂直磁気記録体を製造すること
ができる。
又１本発明は、フロッピーディスクに応用する場合、そ
の基材の片面又は両面に、直接又は該軟磁性薄膜層の介
在した前記所定のＧｏ−０組成の垂直磁化膜を形成した
本発明の垂直磁気記録体を製造するようにしてもよい。
の基材の片面又は両面に、直接又は該軟磁性薄膜層の介
在した前記所定のＧｏ−０組成の垂直磁化膜を形成した
本発明の垂直磁気記録体を製造するようにしてもよい。
このように本発明によるときは、ａｏ−１５〜５０ ａ
ｔ％０組成から成る００−ｏ組成の薄膜により良好な垂
直磁化膜をもつ垂直磁気記録体が得られ、その製造法は
、非磁性基材面に、直接又は軟磁性薄膜層を介して、Ｏ
ｏを蒸着する際、０、ガスを導入して上記所定の０Ｏ−
０組成の垂直磁化膜を形成するようにしたので、従来の
０ｏ−Ｏｒ垂直磁化膜の製造と異なり、均一な垂直磁化
膜を長時間に亘り作成でき、能率良く大量生産でき、又
基材を加熱する必要がなく、常温で安価な基材を使用し
ても良好な垂直磁化膜が得られる等の効果を有する。−
ｔ％０組成から成る００−ｏ組成の薄膜により良好な垂
直磁化膜をもつ垂直磁気記録体が得られ、その製造法は
、非磁性基材面に、直接又は軟磁性薄膜層を介して、Ｏ
ｏを蒸着する際、０、ガスを導入して上記所定の０Ｏ−
０組成の垂直磁化膜を形成するようにしたので、従来の
０ｏ−Ｏｒ垂直磁化膜の製造と異なり、均一な垂直磁化
膜を長時間に亘り作成でき、能率良く大量生産でき、又
基材を加熱する必要がなく、常温で安価な基材を使用し
ても良好な垂直磁化膜が得られる等の効果を有する。−
第１図は、本発明の製造法を実施する装置の１例の裁断
側面線図、第２図Ａ、Ｂ、Ｏは各種００−０組成と磁気
特性との関係を示す図、第６図は、本発明垂直磁化膜の
１例のヒステリシス曲線図を示す。 （１）・・・容 器 ａ・・・テープ基材 （３）・・
・蒸発源ｂ・・・蒸発材料Ｏｏ ’（４１（５１・・
・ローラー （６）・・・酸素ガス供給管 （７）・・
・防着板 特許出願人 日本真空技術株式会社 外１石
側面線図、第２図Ａ、Ｂ、Ｏは各種００−０組成と磁気
特性との関係を示す図、第６図は、本発明垂直磁化膜の
１例のヒステリシス曲線図を示す。 （１）・・・容 器 ａ・・・テープ基材 （３）・・
・蒸発源ｂ・・・蒸発材料Ｏｏ ’（４１（５１・・
・ローラー （６）・・・酸素ガス供給管 （７）・・
・防着板 特許出願人 日本真空技術株式会社 外１石
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 非磁性基材面に、直接、又は軟磁性薄膜層を介し
て０ｏ−１５〜５０ ａｔ％０の組成から成る垂直磁化
膜を備えたことを特徴とする垂直磁気記録体。 λ 非磁性基材面に、又は予めその面に形成した軟磁性
薄膜層の面に、実質上垂直に入射するようにＯｏ原子を
真空蒸着させると同時に０艷ガスを導入して、０ｏ−１
５〜５０ａｔ％０の組成から成る垂直磁化膜を形成する
ようにしたことを特徴とする垂直磁気記録体の製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58036653A JPS59162622A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | 垂直磁気記録体並にその製造法 |
| EP84301530A EP0122030B1 (en) | 1983-03-08 | 1984-03-08 | A magnetic recording member and a manufacturing method for such a member |
| DE8484301530T DE3465647D1 (en) | 1983-03-08 | 1984-03-08 | A magnetic recording member and a manufacturing method for such a member |
| US07/412,535 US5024854A (en) | 1983-03-08 | 1989-09-22 | Method of manufacturing perpendicular type magnetic recording member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58036653A JPS59162622A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | 垂直磁気記録体並にその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59162622A true JPS59162622A (ja) | 1984-09-13 |
| JPS6255207B2 JPS6255207B2 (ja) | 1987-11-18 |
Family
ID=12475810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58036653A Granted JPS59162622A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | 垂直磁気記録体並にその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59162622A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS615425A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6199924A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS63291214A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-11-29 | Sony Corp | 垂直磁気記録媒体 |
| JPS647319A (en) * | 1987-03-30 | 1989-01-11 | Hitachi Maxell | Magnetic recording medium |
| US5942342A (en) * | 1993-03-10 | 1999-08-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Perpendicular recording medium and magnetic recording apparatus |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5654635A (en) * | 1979-10-08 | 1981-05-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Vertical magnetic recording medium |
| JPS5724022A (en) * | 1980-07-16 | 1982-02-08 | Toshiba Corp | Production of magnetic recording substance |
| JPS5729770A (en) * | 1980-07-25 | 1982-02-17 | Nakaya Shoji Kk | Hinge |
| JPS57113417A (en) * | 1980-12-29 | 1982-07-14 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS59140629A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-13 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-03-08 JP JP58036653A patent/JPS59162622A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS59140629A (ja) * | 1983-01-31 | 1984-08-13 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
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| JPS6199924A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS647319A (en) * | 1987-03-30 | 1989-01-11 | Hitachi Maxell | Magnetic recording medium |
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| US5942342A (en) * | 1993-03-10 | 1999-08-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Perpendicular recording medium and magnetic recording apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6255207B2 (ja) | 1987-11-18 |
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