JPS6220138A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気ディスク、磁気テープ等の磁気記録媒体の
製造方法に関するものである。

従来の技術 近年、磁気記録の高密度化に適した強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体が注目されている。

かかる磁気記録媒体を製造する上で最も重要な工程のひ
とつとして磁性層の蒸着形成工程が挙げられる。

これに用いられる従来の製造装置を第３図に示す。

第３図において、１は真空容器、２は巻出し軸、３〜６
はガイドローラ、７，８は張力調整ローラ、９は蒸着ロ
ーラ、１ｏは巻取シ軸、１１は蒸発源、１２は金属蒸気
、１３は静電除去装置、１４は高分子フィルム等の基板
である。

次に従来の製造方法を説明する。第３図において、巻出
し軸２に巻かれている高分子フィルムを蒸着ローラ９を
経由して巻取り軸１０に巻取る。

この場合、真空容器１内を真空にした状態で分圧を制御
しながら蒸発源１１を高温に加熱し、強磁性体を加熱し
て得られる金属蒸気１２を、斜め蒸着又は垂直蒸着して
磁気記録層の形成を行う。

蒸着ローラは電子ビーム蒸着を基礎とする場合は、非磁
性体で構成されるのが普通で、ステンレス鋼を用い、硬
質クロムメッキして研磨仕上げしたものが良く用いられ
る。また、蒸着ローラの代りに、回転ベルトまたは彎曲
した固定の支持体が提案され、一部で検討されている。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記した構成の基板支持体を用いて蒸着、
特に電子ビーム蒸着法と組み合わせて得られた磁気記録
媒体は、保存環境によって、磁気記録媒体の平坦性が経
時的に劣化するという問題があった。

本発明は上記問題点に鑑み、平坦性の経時安定性の優れ
た磁気記録媒体を大量に得ることの出来る方法を提供す
るものである。

問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体の製造
方法は１表面が窒化ボロン（以下ＢＮと称する）層で構
成された基板支持体に沿わせて高分子フィルムを移動さ
せながら磁気記録層を電子ビーム蒸着するようにしたも
のである。

作　　用 本発明は上記した構成によって、高分子フィルムとＢＮ
層との間の摩擦が極めて小さいため、蒸着時に熱を受け
た時に高分子フィルムに収縮が起こっても、自然に縮む
ことができるのと、電子ビーム蒸着で起こる二次電子、
−次電子等で高分子フィルムが帯電して蒸着ローラーに
密着する作用もＢＮが半導電的であるから、垂直応力が
緩和され、高分子フィルムが自然に縮むための運動を阻
害しないため高分子フィルムに内部応力の残留が小さく
なることで、経時的に平坦性が変化することを少なくす
ることが出来ることになる。

実施例 以下１本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。第１図は本発明の第１の実施例に用いた蒸着装置
の要部構成図である。第１図で１５は高分子フィルム、
１６は基板支持体で、円筒キャン１７とＢＮ層１８から
成るものである。１９は電子ビーム蒸発源、２ｏはマス
ク、２１はスリット、２２はガイドローラ、２３は静電
除去器、２４は巻出し軸、２５は巻取り軸である。

第１図の装置を用いて、Ｃｏ−０ｒ垂直磁化膜を形成し
た。

厚み１０μｍのポリエチレンナフタレートフィルムを用
い、直径５０ｃｒｎの非磁性のステンレス製の円筒キャ
ン上に、２μｍスパッタ法でヘキサゴナルのＢＮを形成
したものを基板支持体とし、該支持体（表面粗さ０．０
７３　）に沿わせて、フィルムを１６ｍ／＝ｗで移動さ
せながら、入射角を６．７度以内の垂直に近い成分のＣ
ｏ−Ｃｒ（Ｃｒ；２０ｗｔ％）蒸気を用い、０．２μｍ
、垂直保磁力６２０（Ｏｓ）の垂直磁化膜を形成した。

比較例として、ＢＮ層を形成しない代りに、硬質クロム
メッキを２μｍ施した基板支持体を用いた場合をとりあ
げた。

支持体温度、真空度はどちらも１１０度Ｃ９２Ｘ　１０
−７Ｔｏｒｒで同じ条件とした。

この両者を８羽幅のテープとして、初期の平坦性を同一
にし、以降平坦性の評価を再生エンベロープの最小値と
最大値の割合で示した。記録波長は０．６μｍで、磁気
ヘッドはｏ、１６μｍギャップ長のリング型のフェライ
トヘッドを用いた。また、Ｓ／Ｈの安定性は初期値比較
であるが、任意のテープを選んで、　Ｉ　Ｑ６７７を長
、１０巻の平均値である。

上表より本発明の方法で得られた磁気テープは。

特殊環境で長時間保存しても、平坦性の変化によシ起こ
る再生エンベロープ波形の変化が殆んどみられないのと
、Ｓ／Ｎの安定性に於ても優れている。これは、高分子
フィルムが基板支持体表面ですべることができるために
、収縮が自然に起こり。

残留応力が殆んど無視できることから、磁気特性も均一
になることからきていると考えられるもので、高密度記
録を進める上で大きな利点となる点である。

第２図は本発明の第２の実施例に用いた蒸着装置の要部
構成図である。第２図で、２６は高分子フィルム、２了
は基板支持体で、内部に温調用の媒体循環境をもつ蒸気
流３１に面する側が曲率２．６ｍの平板形のステンレス
製支持体２８と、少なくとも蒸気流３１と面する側に４
．２μｍのへキサゴナル（約９チ面心立方格子が混在し
ている）型の結晶型のＢＮスパッタ膜２９をもつもので
ある。３０は電子ビーム蒸発源（最大出力２０　ＫＶ。

ｅｏＫＷ）、３１はＣｏ−Ｃｒ（Ｃｒ：２０ｗｔ％）蒸
気流、３２はマスク、３３はスリット、３４はガイドロ
ーラ、３５は静電除去器、３６は巻出し軸、３７は巻取
り軸である。

この装置を用いて、前述の第１の実施例と同じ材料で８
Ｈ幅の磁気テープを得た。ここでの比較例は、ＢＮ層の
代シに硬質クロムメッキを４．２μｍ施した基板支持体
を用いた。

先の第１の実施例と一番大きな違いは、基板支持体が固
定している点で、高分子フィルムと基板支持体との滑り
がドロップアウトにも影響することが予測されるので、
実施例に加えて、ドロップアウトも評価した。記録波長
は０．６μｍ　（周波数５ＭＨｚ）で１Ｑμ要、−１ｏ
ｄＢ以上のドロップアウトを任意の位置で１Ｑ６ｍＸ１
０巻での１分間当り換算の平均値と最大値で比べた。

磁気特性は６１５（Ｏｅ）でＣｏ−Ｃｒ厚は０．２ｐｍ
。

この膜を得るフィルムの巻取り速度は、　３　ｇ　ｍｌ
＝と、第１の実施例より量産性において優れている。

上表より明らかなように１本発明によれば、第１の実施
例と同等の優れた磁気テープを２倍以上の巻取り速度で
得られるのに比べて、比較例では。

ドロップアウトが異常に多く、平坦性の維持も悪い。こ
れはいずれも、高分子フィルムと基板支持体の滑りが悪
いためで９表面を観察すると、スリ傷が比較例には多量
にみられることがらもうなずけることである。

なお、第１．第２の実施例で垂直磁化膜の形成について
説明したが、Ｃｏ−Ｎｉ　−０等の斜め蒸着膜の形成に
用いても同様の効果がある。

ＢＮはヘキサゴナル型結晶が好ましいが、３０％までな
ら面心立方格子が混在していてもよい。

また、回転ベルトについてもＢＮの利用が有効である。

発明の効果 以上のように本発明によれば、経時的に平坦性の変化が
極めて少なく、磁気特性の均一で、Ｓ／Ｎ安定性、ドロ
ップアウトに優れた高密度記録用の磁気記録媒体が大量
に得られるといったすぐれた効果が得られるものである
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例で用いた蒸着装置の要部
構成図、第２図は本発明の第２の実施例で用いた蒸着装
置の要部構成図、第３図は従来の蒸着装置の要部構成図
である。 １５．２６・・川・高分子フィルム、１８．２９・・・
・・・ＢＮ層、１９．３０・・・・・・電子ビーム蒸発
源。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空中で基板支持体に沿わせて高分子フィルム上に磁性
   体蒸気を電子ビーム加熱法にて形成して蒸着する方法に
   あって、前記基板支持体の表面が窒化ボロン層で構成さ
   れていることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。