JPH0451889B2 - - Google Patents
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- JPH0451889B2 JPH0451889B2 JP2095184A JP2095184A JPH0451889B2 JP H0451889 B2 JPH0451889 B2 JP H0451889B2 JP 2095184 A JP2095184 A JP 2095184A JP 2095184 A JP2095184 A JP 2095184A JP H0451889 B2 JPH0451889 B2 JP H0451889B2
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
(イ) 産業上の利用分野
本発明はVTR、テープレコーダ等に利用する
磁気テープ、或いはフロツピーデイスク装置等に
利用する磁気デイスクなどの磁気記録媒体の製造
方法に関する。 (ロ) 従来技術 磁気記録の稠密化に伴ない従来の塗布型に比べ
てより高密度記録が可能な記録媒体である金属薄
膜媒体、即ち基板上に磁性層を真空蒸着法、スパ
ツタリング法等の方法で付設する磁気記録媒体が
注目されている。 真空蒸着法により長手記録媒体（面内方向に磁
化容易軸をもつもの）を作成する為には高い保磁
力を得る目的で通常斜め蒸着法を用いる。これは
基板面の法線に対して一定角度以上傾いて磁性粒
子が基板に入射するようにして付設する方法であ
る。この方法で形成した膜は面内に強い異方性を
持ち、また保磁力も大きなものが得られる（特公
昭41−19389号公報参照）が、遮蔽板により粒子
の入射を制限しているため材料の利用効率が悪い
という欠点がある。 対向ターゲツト式スパツタ法（特開昭57−
100627号公報参照）は蒸着法に比べ膜の表面平滑
性に優れ、また材料の利用効率も優れている。し
かしながら、斜方入射による成膜方法ではないの
で、保磁力を上げるためにはスパツタリング時の
雰囲気ガス（例えばArガス）の圧力を上げる必
要がある。第２図はCo−Pt合金よりなる膜の成
膜時の雰囲気ガス圧と保磁力の関係を示す。この
様に、高い保磁力（例えば800エルステツド程度
以上）を有する膜を形成する為には雰囲気ガス圧
を10ミリトール以上に設定する必要がある。 しかし、雰囲気ガス圧が高くなるとスパツタ粒
子が基板に到達する間に雰囲気ガス（Ar）との
衝突が頻繁になり、エネルギーを失なうため基板
と磁性層の付着力が弱くなり磁気記録媒体の耐摩
耗性が劣化する。また、第７図に示す様に雰囲気
ガス圧の上昇に伴ない基板の歪みが大きくなり、
カーリングが激しくなるという欠点もある。尚、
図中の歪みの符号は磁性層を内側にするものを正
で示し、また、歪量（ε）は、｜ε｜＝（l0−
ｌ）／l0で示している。ここで、l0，ｌはテープ
状媒体の歪を受ける前、後の横幅である。 (ハ) 発明の目的 本発明は以上の点に鑑みなされたもので、製造
された磁気記録媒体の保磁力及び耐摩耗性が大き
く、またカーリングによる影響の小さい磁気記録
媒体の製造方法を提供しようとするものである。 (ニ) 発明の構成 本発明は、一組の磁性材よりなるターゲツトを
一定距離だけ空けて配置し、両ターゲツト間の空
間に隣接して配備されている基板に対して、前記
空間内に一定の雰囲気ガス圧を付与した状態で前
記ターゲツトからの粒子を付設する磁気記録媒体
の製造方法において、前記雰囲気ガス圧を第１ガ
ス圧に設定して第１磁性層を形成した後、この第
１磁性層の上に前記雰囲気ガス圧を第２ガス圧に
設定して第２磁性層を形成することを特徴とする
ものである。 本発明はガス圧の大きい雰囲気で膜厚の大きい
磁性層を形成し、またガス圧の小さい雰囲気で膜
厚の小さい磁性層を形成すること（形成の順序は
不問）を特徴とするものであり、膜厚の大きい磁
性層は主として大きい保磁力をもたせるように、
一方膜厚の小さい磁性層は主として耐摩耗性の向
上とカーリングの低減をもたらすように作用さ
せ、もつて磁気特性並びに機械特性の優れた磁気
記録媒体を提供する。 (ホ) 実施例 第１図は本発明方法に使用する装置の膜型図を
示すものである。図において、装置Ｓは対向ター
ゲツト式スパツタ装置であり、装置Ｔはテープ移
送装置である。 対向ターゲツト式スパツタ装置Ｓは通常にスパ
ツタ装置と同様、真空容器１と、該真空容器内を
排気する真空ポンプ等を含む排気系２と、該真空
容器内に所定のガス（例えばArガス）を導入し
て該真空容器内の圧力を所定のガス圧に設定する
ガス導入系３とを備えている。 一組の磁性材（Co−Pt合金）よりなる円板状
ターゲツト４，４は互に一定の間隔Ｐを空けてタ
ーゲツト面４ａ，４ａが対面するようにターゲツ
トホルダー５，５で支持されている。各ターゲツ
ト４，４の背面側には図示の極性の永久磁石６，
６が配備されていて、ターゲツト面４ａ，４ａに
直交する１方向磁界を、両ターゲツト間の空間Ｑ
内に付与するようにしている。又、各ターゲツト
４，４には電源７，７からの負電位がターゲツト
ホルダー５，５を介して付与され、放電される。
各ターゲツトホルダー５，５は真空容器１に対し
て絶縁スリーブ８，８によつて絶縁されている。 テープ移送装置Ｔは供給リール９と、キヤンロ
ーラ１０と、巻取リール１１とを備え、供給リー
ル９上のテープ（一般には基板）１２をキヤンロ
ーラ１０に周回させ、巻取リール１１に移送させ
るようにしている。キヤンローラ１０上のテープ
１２は上記ターゲツト４，４の間の空間Ｑに隣接
して配置されており、ターゲツト粒子のテープ移
送装置Ｔ側への拡散を制限する遮蔽板１３の窓１
３ａを通じてターゲツト粒子を受け付けるように
している。尚、キヤンローラ１０は紙面に垂直な
方向に回転軸を持つドラム状に形成されていて、
幅広なテープに対してスパツタ粒子を析出させる
ことができるように構成されている。更に幅広な
テープに対応させるため対向スパツタ装置を上記
回転軸方向に等間隔に複数個配置するようにして
もよい。 スパツタ装置Ｓは雰囲気ガス圧に応じて第２図
に示す保磁力を有するスパツタ粒子をテープ１２
上に一定スピードで析出させる。従い、テープ送
り速度を適当に制御することにより該析出による
成膜厚を任意に制御することができる。 先ずスパツタ装置Ｓの雰囲気ガス圧を20ミリト
ールに設定して第３図に示す如く基板２０上に第
１磁性層２１を形成し、いつたんテープ１２を巻
戻した後、今度は第１磁性層２１の上に１ミリト
ールの雰囲気ガス圧の下で第２磁性層２２を形成
する。第１表はこの実施態様における３つの実施
例と従来例の鉛筆引かき試験（JIS K5401に従
う）による試験結果、媒体の歪み、及び保磁力を
比較して示すものである。
磁気テープ、或いはフロツピーデイスク装置等に
利用する磁気デイスクなどの磁気記録媒体の製造
方法に関する。 (ロ) 従来技術 磁気記録の稠密化に伴ない従来の塗布型に比べ
てより高密度記録が可能な記録媒体である金属薄
膜媒体、即ち基板上に磁性層を真空蒸着法、スパ
ツタリング法等の方法で付設する磁気記録媒体が
注目されている。 真空蒸着法により長手記録媒体（面内方向に磁
化容易軸をもつもの）を作成する為には高い保磁
力を得る目的で通常斜め蒸着法を用いる。これは
基板面の法線に対して一定角度以上傾いて磁性粒
子が基板に入射するようにして付設する方法であ
る。この方法で形成した膜は面内に強い異方性を
持ち、また保磁力も大きなものが得られる（特公
昭41−19389号公報参照）が、遮蔽板により粒子
の入射を制限しているため材料の利用効率が悪い
という欠点がある。 対向ターゲツト式スパツタ法（特開昭57−
100627号公報参照）は蒸着法に比べ膜の表面平滑
性に優れ、また材料の利用効率も優れている。し
かしながら、斜方入射による成膜方法ではないの
で、保磁力を上げるためにはスパツタリング時の
雰囲気ガス（例えばArガス）の圧力を上げる必
要がある。第２図はCo−Pt合金よりなる膜の成
膜時の雰囲気ガス圧と保磁力の関係を示す。この
様に、高い保磁力（例えば800エルステツド程度
以上）を有する膜を形成する為には雰囲気ガス圧
を10ミリトール以上に設定する必要がある。 しかし、雰囲気ガス圧が高くなるとスパツタ粒
子が基板に到達する間に雰囲気ガス（Ar）との
衝突が頻繁になり、エネルギーを失なうため基板
と磁性層の付着力が弱くなり磁気記録媒体の耐摩
耗性が劣化する。また、第７図に示す様に雰囲気
ガス圧の上昇に伴ない基板の歪みが大きくなり、
カーリングが激しくなるという欠点もある。尚、
図中の歪みの符号は磁性層を内側にするものを正
で示し、また、歪量（ε）は、｜ε｜＝（l0−
ｌ）／l0で示している。ここで、l0，ｌはテープ
状媒体の歪を受ける前、後の横幅である。 (ハ) 発明の目的 本発明は以上の点に鑑みなされたもので、製造
された磁気記録媒体の保磁力及び耐摩耗性が大き
く、またカーリングによる影響の小さい磁気記録
媒体の製造方法を提供しようとするものである。 (ニ) 発明の構成 本発明は、一組の磁性材よりなるターゲツトを
一定距離だけ空けて配置し、両ターゲツト間の空
間に隣接して配備されている基板に対して、前記
空間内に一定の雰囲気ガス圧を付与した状態で前
記ターゲツトからの粒子を付設する磁気記録媒体
の製造方法において、前記雰囲気ガス圧を第１ガ
ス圧に設定して第１磁性層を形成した後、この第
１磁性層の上に前記雰囲気ガス圧を第２ガス圧に
設定して第２磁性層を形成することを特徴とする
ものである。 本発明はガス圧の大きい雰囲気で膜厚の大きい
磁性層を形成し、またガス圧の小さい雰囲気で膜
厚の小さい磁性層を形成すること（形成の順序は
不問）を特徴とするものであり、膜厚の大きい磁
性層は主として大きい保磁力をもたせるように、
一方膜厚の小さい磁性層は主として耐摩耗性の向
上とカーリングの低減をもたらすように作用さ
せ、もつて磁気特性並びに機械特性の優れた磁気
記録媒体を提供する。 (ホ) 実施例 第１図は本発明方法に使用する装置の膜型図を
示すものである。図において、装置Ｓは対向ター
ゲツト式スパツタ装置であり、装置Ｔはテープ移
送装置である。 対向ターゲツト式スパツタ装置Ｓは通常にスパ
ツタ装置と同様、真空容器１と、該真空容器内を
排気する真空ポンプ等を含む排気系２と、該真空
容器内に所定のガス（例えばArガス）を導入し
て該真空容器内の圧力を所定のガス圧に設定する
ガス導入系３とを備えている。 一組の磁性材（Co−Pt合金）よりなる円板状
ターゲツト４，４は互に一定の間隔Ｐを空けてタ
ーゲツト面４ａ，４ａが対面するようにターゲツ
トホルダー５，５で支持されている。各ターゲツ
ト４，４の背面側には図示の極性の永久磁石６，
６が配備されていて、ターゲツト面４ａ，４ａに
直交する１方向磁界を、両ターゲツト間の空間Ｑ
内に付与するようにしている。又、各ターゲツト
４，４には電源７，７からの負電位がターゲツト
ホルダー５，５を介して付与され、放電される。
各ターゲツトホルダー５，５は真空容器１に対し
て絶縁スリーブ８，８によつて絶縁されている。 テープ移送装置Ｔは供給リール９と、キヤンロ
ーラ１０と、巻取リール１１とを備え、供給リー
ル９上のテープ（一般には基板）１２をキヤンロ
ーラ１０に周回させ、巻取リール１１に移送させ
るようにしている。キヤンローラ１０上のテープ
１２は上記ターゲツト４，４の間の空間Ｑに隣接
して配置されており、ターゲツト粒子のテープ移
送装置Ｔ側への拡散を制限する遮蔽板１３の窓１
３ａを通じてターゲツト粒子を受け付けるように
している。尚、キヤンローラ１０は紙面に垂直な
方向に回転軸を持つドラム状に形成されていて、
幅広なテープに対してスパツタ粒子を析出させる
ことができるように構成されている。更に幅広な
テープに対応させるため対向スパツタ装置を上記
回転軸方向に等間隔に複数個配置するようにして
もよい。 スパツタ装置Ｓは雰囲気ガス圧に応じて第２図
に示す保磁力を有するスパツタ粒子をテープ１２
上に一定スピードで析出させる。従い、テープ送
り速度を適当に制御することにより該析出による
成膜厚を任意に制御することができる。 先ずスパツタ装置Ｓの雰囲気ガス圧を20ミリト
ールに設定して第３図に示す如く基板２０上に第
１磁性層２１を形成し、いつたんテープ１２を巻
戻した後、今度は第１磁性層２１の上に１ミリト
ールの雰囲気ガス圧の下で第２磁性層２２を形成
する。第１表はこの実施態様における３つの実施
例と従来例の鉛筆引かき試験（JIS K5401に従
う）による試験結果、媒体の歪み、及び保磁力を
比較して示すものである。
【表】
ここで、鉛筆硬度は5Hであり、記号〇，△，×
はそれぞれ変化なし、一部剥離、剥離を示してい
る。 第４図は他の実施態様により製造された磁気記
録媒体の断面図を示す。基板３０の上に第１磁性
層３１をスパツタ装置Ｓの雰囲気ガス圧を１ミリ
トールに設定して形成し、引続いてこの第１磁性
層３１の上に第２磁性層３２を雰囲気ガス圧を20
ミリトールに設定して形成したものである。第２
表はこの実施態様における３つの実施例における
第１表と同じ項目についての評価を示すものであ
る。
はそれぞれ変化なし、一部剥離、剥離を示してい
る。 第４図は他の実施態様により製造された磁気記
録媒体の断面図を示す。基板３０の上に第１磁性
層３１をスパツタ装置Ｓの雰囲気ガス圧を１ミリ
トールに設定して形成し、引続いてこの第１磁性
層３１の上に第２磁性層３２を雰囲気ガス圧を20
ミリトールに設定して形成したものである。第２
表はこの実施態様における３つの実施例における
第１表と同じ項目についての評価を示すものであ
る。
【表】
上記第１、第２実施態様ともに、磁性層の厚さ
が小さい方の磁性層（第１実施態様では第２磁性
層、第２実施態様では第１磁性層）の膜厚R1が
全体の膜厚R0に比べて十分に小さく例えば1/5以
下にすることが望ましい。膜厚の小さい磁性層は
雰囲気ガス圧が低い状態で形成されるから保磁力
が小さく、その影響が上記比率より大きくして行
くと発生し、第５図に示すような傾向のＢ−Ｈカ
ーブとなつてしまうからである。 第６図は更に他の実施態様になる磁気記録媒体
の断面図を示すものである。基板４０の上に第
１、第２、第３磁性層４１，４２，４３を形成す
るように、第１、第３磁性層４１，４３は雰囲気
ガス圧を１ミリトールに設定し、また中間の第２
磁性層４２は雰囲気ガス圧を20ミリトールに設定
してそれぞれ形成したものである。尚第１、第３
磁性層４１，４３の各膜厚R1，R3は等しく、か
つその和は全膜厚R0の１／５を超えないように構成 する。第３表はこの実施態様になる１つの実施例
と、比較例の耐摩耗性、歪み、保磁力Hcを対比
して示すものである。本実施例では耐摩耗性、及
び歪み特性が向上している。
が小さい方の磁性層（第１実施態様では第２磁性
層、第２実施態様では第１磁性層）の膜厚R1が
全体の膜厚R0に比べて十分に小さく例えば1/5以
下にすることが望ましい。膜厚の小さい磁性層は
雰囲気ガス圧が低い状態で形成されるから保磁力
が小さく、その影響が上記比率より大きくして行
くと発生し、第５図に示すような傾向のＢ−Ｈカ
ーブとなつてしまうからである。 第６図は更に他の実施態様になる磁気記録媒体
の断面図を示すものである。基板４０の上に第
１、第２、第３磁性層４１，４２，４３を形成す
るように、第１、第３磁性層４１，４３は雰囲気
ガス圧を１ミリトールに設定し、また中間の第２
磁性層４２は雰囲気ガス圧を20ミリトールに設定
してそれぞれ形成したものである。尚第１、第３
磁性層４１，４３の各膜厚R1，R3は等しく、か
つその和は全膜厚R0の１／５を超えないように構成 する。第３表はこの実施態様になる１つの実施例
と、比較例の耐摩耗性、歪み、保磁力Hcを対比
して示すものである。本実施例では耐摩耗性、及
び歪み特性が向上している。
【表】
(ヘ) 発明の効果
本発明は高保磁力を呈する磁性膜と耐摩耗性に
適する磁性膜とを備える磁気記録媒体を、スパツ
タ装置の雰囲気ガス圧を調整することで簡単に製
造することができる。また、この雰囲気ガス圧は
前者が10ミリトール以上、後者が１ミリトール以
下であり、基板に対するカーリングが相互に逆方
向に生ずるように作用して結果的にカーリング量
を膜厚の割に小さくすることができるという効果
がある。
適する磁性膜とを備える磁気記録媒体を、スパツ
タ装置の雰囲気ガス圧を調整することで簡単に製
造することができる。また、この雰囲気ガス圧は
前者が10ミリトール以上、後者が１ミリトール以
下であり、基板に対するカーリングが相互に逆方
向に生ずるように作用して結果的にカーリング量
を膜厚の割に小さくすることができるという効果
がある。
第１図は本発明方法に使用する装置の概略構成
図、第２図は雰囲気ガス圧と保磁力の関係を示す
特性図、第３図は第１実施態様による磁気記録媒
体の部分断面図、第４図は第２実施態様による磁
気記録媒体の部分断面図、第５図は膜厚の小さい
方の磁性層の膜厚が全磁性層の膜厚の1/5超にお
けるＢ−Ｈ特性図、第６図は更に他の実施例にな
る磁気記録媒体の部分断面図、第７図は雰囲気ガ
ス圧と歪みの関係を示す特性図である。 主な図番の説明、Ｓ……スパツタ装置、Ｔ……
テープ移送装置、４，４……一組のターゲツト、
２０，３０，４０……基板、２１，３１，４１…
…第１磁性層、２２，３２，４２……第２磁性
層、４３……第３磁性層。
図、第２図は雰囲気ガス圧と保磁力の関係を示す
特性図、第３図は第１実施態様による磁気記録媒
体の部分断面図、第４図は第２実施態様による磁
気記録媒体の部分断面図、第５図は膜厚の小さい
方の磁性層の膜厚が全磁性層の膜厚の1/5超にお
けるＢ−Ｈ特性図、第６図は更に他の実施例にな
る磁気記録媒体の部分断面図、第７図は雰囲気ガ
ス圧と歪みの関係を示す特性図である。 主な図番の説明、Ｓ……スパツタ装置、Ｔ……
テープ移送装置、４，４……一組のターゲツト、
２０，３０，４０……基板、２１，３１，４１…
…第１磁性層、２２，３２，４２……第２磁性
層、４３……第３磁性層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一組の磁性材よりなるターゲツトを一定距離
だけ空けて配置し、両ターゲツト間の空間に隣接
して配備されている基板に対して、前記空間内に
一定の雰囲気ガス圧を付与した状態で前記ターゲ
ツトからの粒子を付設する磁気記録媒体の製造方
法に於いて、前記雰囲気ガス圧を第１ガス圧にし
て第１磁性層を形成した後、この第１磁性層の上
に前記雰囲気ガス圧を前記第１ガス圧とは異なる
第２ガス圧にして第２磁性層を形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ２ 前記第１ガス圧は10ミリトール以上であり、
前記第２ガス圧は１ミリトール以下であることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録
媒体の製造方法。 ３ 前記第２磁性層の膜厚は前記第１磁性層と前
記第２磁性層の膜厚の和の1/5以下であることを
特徴とする特許請求の範囲第２項記載の磁気記録
媒体の製造方法。 ４ 前記第１ガス圧は１ミリトール以下であり、
前記第２ガス圧は10ミリトール以上であることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気記録
媒体の製造方法。 ５ 前記第１磁性層の膜厚は前記第１磁性層と前
記第２磁性層の膜厚の和の1/5以下であることを
特徴とする特許請求の範囲第４項記載の磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2095184A JPS60164930A (ja) | 1984-02-07 | 1984-02-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2095184A JPS60164930A (ja) | 1984-02-07 | 1984-02-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60164930A JPS60164930A (ja) | 1985-08-28 |
| JPH0451889B2 true JPH0451889B2 (ja) | 1992-08-20 |
Family
ID=12041496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2095184A Granted JPS60164930A (ja) | 1984-02-07 | 1984-02-07 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60164930A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NZ247668A (en) * | 1992-07-22 | 1995-03-28 | Appel Corp | Undergarment made from single piece blank with a crotch section that is stretchable in three different directions |
| JPH0796721B2 (ja) * | 1992-12-24 | 1995-10-18 | ソカイ株式会社 | ヒップアップショーツとその製造方法 |
-
1984
- 1984-02-07 JP JP2095184A patent/JPS60164930A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60164930A (ja) | 1985-08-28 |
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