JPH03237621A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高分子フィルム上に真空蒸着法により高密度
記録特性に優れた金属磁性薄膜を連続的に形成する磁気
記録媒体の製造方法に関するものである。

従来の技術 従来、磁気記録媒体としては高分子フィルム等の非磁性
基板上に磁性粉を塗布した塗布型のものが使用されて来
たが、より高い記録密度を達成するために、非磁性基板
上に金属薄膜をスパッタ法や真空蒸着法で形成した薄膜
型が実用化されつつある。薄膜型磁気記録媒体の中でも
、特にＣｏ基磁性薄膜を磁性層として形成した磁気記録
媒体が、優れた短波長記録特性のゆえに注目を集めてい
る。

Ｃｏ基磁性薄膜はスパッタ法や真空蒸着法（イオンブレ
ーティング法のように蒸発原子の一部をイオン化して膜
を堆積する方法も含む）により作成されるが、特に後者
の方法によれば高い堆積速度が達成でき、量産に適して
いる。

非磁性基板として高分子フィルムを用いて、真空蒸着法
により金属ｉ＠型磁気記録媒体を製造する方法としては
、高分子フィルムを円筒状キャンの周面に沿わせて走行
させつつ磁性層を蒸着する方法が最も優れている。第３
図にこのような方法を用いた真空蒸着装置の内部構造の
概略を示す。

高分子フィルム１は円筒状キャン２の周面に沿って走行
する。この高分子フィルム１上に蒸発源５によって磁性
層が形成される。３．４は高分子フィルムｌの供給ロー
ルあるいは巻き取りロールである。蒸発源５としては、
抵抗加熱蒸発源、誘導加熱蒸発源、電子ビーム蒸発源等
が考えられるが、高融点金属であるＣｏ基合金を高速で
蒸発させるためには、電子ビーム蒸発源を採用する必要
がある。蒸発源５と円筒状キャン２との間には、蒸発源
５から蒸発する蒸気が不要な部分に付着するのを防止す
るために、遮蔽板６が配置されている。遮蔽板６はＳで
示されるように開口している。

この開口部Ｓを通過した蒸気が高分子フィルム１上に付
着し、磁性層が形成される。

発明が解決しようとする課題 ＣｏとＣｒあるいはＣｏとＮｉとＣｒを同時に蒸発させ
て蒸着する場合に、その雰囲気中に酸素あるいは水が存
在すると、Ｃｒが選択的に酸化され、製造された磁気記
録媒体の記録再生特性が劣化する。

課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明は、高分子フィルム上
に直接あるいは下地層を介して真空蒸着法によりＣｏと
ＣｒあるいはＣｏとＮｉとＣｒを主成分とする金属磁性
薄膜を形成する際、蒸発部近傍でゲッター材料を冷却基
板に蒸着する。

作用 Ｃｒより酸化し易いゲッター材料を磁性材料の蒸発部近
傍で冷却基板に蒸着すると、ゲッター材料が選択的に酸
化され、Ｃｒの酸化を抑制することが出来る。

実施例 第１図に本発明の一実施例における磁気記録媒体の製造
方法に用いる真空蒸着装置の内部構造の概略を示す。基
本的な構成は第３図はぼ同様である。但し、蒸発源５の
近傍にゲッター材料の蒸発源７とゲッター材料を蒸着す
るための冷却基板８が配置されている。このような状態
で、磁性材料を蒸着する際にゲッター材料を蒸着すると
、ゲッター材料が選択的に酸化され、磁性材料の酸化が
抑制される。ゲッター材料の蒸発源７が磁性材料の蒸発
源５より比較的はなれていてゲッター材料の蒸気が高分
子フィルム１に到達しない場合には、磁性材料の蒸気流
とゲッター材料の蒸気流が同方向でよい、この場合には
種々のゲッター材料や蒸発源の方式が使用可能である。

しかし、より高いゲッター効果を得るためにはゲッター
材料の蒸発源７を磁性材料の蒸発源５のより近傍に配置
する必要がある。このような場合には、第１図に示すよ
うに磁性材料の蒸気流とゲッター材料の蒸気流とが逆方
向になるようにすることが重要である。

更に、両者の蒸気が混合しないように仕切り板９を設け
る必要がある。ゲッター材料を蒸着する基板は、ゲッタ
ー材料の再蒸発を防止するために必要である。ゲッター
材料の蒸気流を逆にする場合には、ゲッター材料として
は比較的低温で昇華し易いＭｇが都合がよい。また、蒸
発源７の方式としては第２図に示すような抵抗加熱式が
よい。第２図に示した蒸発源はケース１０の中にゲッタ
ー材料（ＭｇＮ３をいれる。ケース１０全体はヒーター
１１によって一様に加熱されており、しかも吹き出し口
１２が狭いため、ケース１０内におけるＭｇ蒸気の圧力
は高くなる。そして、吹き出し口１２からは自然蒸発よ
りもはるかに集束された蒸気が吹き出る。そのためゲッ
ター材料の蒸気と磁性材料の蒸気との混合をより防止す
ることができる。

次に、具体的な実施例について説明する。高分子フィル
ム１として膜厚８μｍのポリイミドフィルムを用い、第
１図に示す真空蒸着装置により金属磁性薄膜であるＣｏ
−Ｃｒ膜を形成した。Ｃ０Ｃｒ膜の膜堆積速度は０．５
μｍ／秒とし、膜厚は０．２μｍとした。ゲッター材料
の蒸発源７として第２図に示したものを用い、ゲッター
材料としてＭｇを用いた。まず、ゲッター材料の蒸発源
のヒーター１１に電流を流さない状態でＣｏ−Ｃｒ膜を
形成した（媒体Ａ）。この時の蒸着装置内の残留ガス圧
は１　ｘｘｏ−”ｒ　ｏ　ｒ　ｒであった。次に、ゲッ
ター材料の蒸発源のヒーター１１に電流を流しケース１
０を加熱した。時間と共に蒸着装置内の残留ガス圧が減
少し一定となった。この状態で再びｃｏ−Ｃｒ膜を形成
した（媒体Ｂ）。この時の蒸着装置内の残留ガス圧は１
　ｘｌｏ−”ｒ　ｏ　ｒ　ｒであった。

作製した媒体Ａ及びＢの１３０ｋＦＲＰＩ（１インチ当
り１３００００回の磁化反転のある記録状態）における
再生出力及びノイズを比較した結果、媒体Ａを基準（Ｏ
ｃｌＢ）とすると、本発明の製造方法で作製した媒体Ｂ
は再生出力が＋３ｄＢ、ノイズが一１ｄＢであった。従
って、本発明の媒体を用いることにより高いＳ／Ｎが得
られる。尚、評価の際の磁気ヘッドとしてはＭｎ−Ｚｎ
フェライトから威るギャップ長０．１５μｍのリングヘ
ッドを用いた。

以上の具体的実施例では、ボリイξドフィルム上にＣｏ
−Ｃｒ膜を蒸着する例について説明したが、ポリイミド
フィルム以外の高分子フィルムを用いても上記と同様で
ある。Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ１ｌを蒸着する場合も全く同様
である。

また、以上では高分子フィルム上に直接金属磁性薄膜を
蒸着する例を中心に述べたが、下地層が形成されている
高分子フィルムを基板として用いる場合も、本発明を適
用することが可能である。

発明の効果 本発明によれば、優れたＳＮ特性を有する高密度磁気記
録媒体を製造できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例における磁気記録媒体の製造
方法に用いる真空蒸着装置の内部構造の概略図、第２図
は本発明の一実施例における磁気記録媒体の製造方法に
用いるゲッター材料用蒸発源の断面の概略図、第３図は
従来法の一実施例における真空蒸着装置の内部構造の概
略図である。 １・・・・・・高分子フィルム、２・・・・・・円筒状
キャン、３．４・・・・・・供給ロールあるいは巻き取
りロール、５・・・・・・蒸発源（磁性材料用）、６・
・・・・・遮蔽板、７・・・・・・蒸発源（ゲッター材
料用）、８・・・・・・冷却基板、９・・・・・・仕切
り板、ＩＯ・・・・・・ケース、１１・・・・・・ヒー
ター１２・・・・・・吹き出し口、１３・・・・・・ゲ
ッター材料、Ｓ・・・・・・開口部。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）高分子フィルム上に直接あるいは下地層を介して
   真空蒸着法によりＣｏとＣｒあるいはＣｏとＮｉとＣｒ
   を主成分とする金属磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の
   製造方法であって、蒸発部近傍でゲッター材料を冷却基
   板に蒸着することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
   。
2. （２）ゲッター材料の蒸気流の向きを金属磁性材料の蒸
   気流の向きと逆にすることを特徴とする請求項（１）記
   載の磁気記録媒体の製造方法。
3. （３）ゲッター材料がＭｇである請求項（１）または（
   ２）のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。