JPH04328322A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、強磁性金属薄膜を磁性
層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より磁気記録の分野においては、ポ
リエステルやポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等
からなる非磁性支持体の上に、γ−Ｆｅ２　Ｏ３　、酸
化クロム等の磁性酸化物やＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等を主成分
とする磁性合金等の粉末を有機高分子材料からなるバイ
ンダー中に分散せしめた磁性塗料を塗布することにより
磁性層を形成した、所謂塗布型の磁気記録媒体が広く使
用されている。これに対して、高密度磁気記録への要求
の高まりとともに、金属あるいはＣｏ−Ｎｉ等の合金か
らなる磁性材料をメッキや真空薄膜形成技術（真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等）に
より直接ポリエステルフィルム等の非磁性支持体上に被
着して強磁性金属薄膜を成膜した、所謂蒸着型の磁気記
録媒体が知られている。この蒸着型の磁気記録媒体は、
抗磁力、角形比及び短波長域における電磁変換特性等に
優れていること、磁性層の薄膜化が可能であるために記
録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さいこと、或いは
磁性層中に非磁性材料であるバインダー等を含有しない
ために磁性材料の充填密度を高くできること等、数々の
利点を有している。このような蒸着型の磁気記録媒体を
真空蒸着法により製造する場合、メッキ法のように排液
処理を必要とすることがなく、製造工程が簡単である上
、膜の成膜速度を大きくすることが可能であることから
、非常に実用的と考えられる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記蒸着型
の磁気記録媒体においては、上述のように非磁性支持体
上に強磁性金属薄膜を成膜した後、この強磁性金属薄膜
上にカーボン膜やＳｉＯ２　膜等からなる保護膜が形成
されている。このように強磁性金属薄膜上に保護膜が形
成された構成とすることにより、磁気記録媒体の耐久性
を向上させることができる。ところが、上記保護膜を形
成する際に、この保護膜を被着させる基体の温度が低い
と保護膜の付着強度を十分に確保することができず、保
護膜本来の特性を満足に発揮させることができない。

【０００４】例えば、図２に示すように、大型のドラム
１１の外周面１１ａに沿って所定の方向（図中の矢印方
向）に走行される非磁性支持体１２の表面にルツボ１３
内の蒸発源１４から蒸発された強磁性金属材料を連続蒸
着させる、所謂巻取り式蒸着によって強磁性金属薄膜を
形成する場合には、良好な保護膜を形成することが困難
となる。即ち、この場合、上記非磁性支持体１２が蒸着
時の熱によって劣化するのを防止するために、上記ドラ
ム１１を冷却している。このため、この蒸着工程と連続
してスパッタを行って上記強磁性金属薄膜上に保護膜を
形成しようとすると、上記ドラム１１の冷却により上記
非磁性支持体１２、更にはこの非磁性支持体１２上の上
記強磁性金属薄膜の温度が低くされているので、保護膜
の付着力が不足し、実際の使用には耐ええない。

【０００５】一方、ハードディスク等の磁気記録媒体に
ついては、通常基板材料として熱伝導性に優れたアルミ
ニウム基板等が使用されるので、この基板を加熱するこ
とによって上述のような問題を回避することも可能であ
る。しかし、一般的な磁気テープでは、この方法を適用
することはできず、保護膜の耐久性の向上が望まれてい
る。そこで本発明は、上述の従来の実情に鑑みて提案さ
れたものであり、磁性層に対する保護膜の付着力の向上
を図り、良好な耐久性を有する磁気記録媒体の製造方法
を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の目的
を達成するために検討を重ねた結果、保護膜を形成する
直前に、ハロゲンランプ等により磁性層の表面を加熱す
れば、上記保護膜の付着強度が向上することを見出し、
本発明に至ったものである。即ち、本発明の磁気記録媒
体の製造方法は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形
成した後、この強磁性金属薄膜上に保護膜を形成する磁
気記録媒体の製造方法において、上記強磁性金属薄膜の
形成後で且つ上記保護膜の形成前に、上記強磁性金属薄
膜の表面を加熱することを特徴とするものである。

【０００７】本発明において、磁性層とされる強磁性金
属薄膜は、真空蒸着法により形成される。この真空蒸着
法としては、通常の真空蒸着法の他、電界、磁界、電子
ビーム照射等により蒸気流のイオン化、加速化等を行っ
て蒸発化学種の平均自由行程の大きい雰囲気にて非磁性
支持体上に薄膜を成膜させる方法等でも良い。本発明で
は、このような真空蒸着法のうち、典型的には巻取り式
蒸着法が採用される。上記巻取り式蒸着法とは、非磁性
支持体を所定の方向に移動させながら、この非磁性支持
体の表面に蒸発源から蒸発せしめられた磁性材料を供給
して蒸着を行う方法である。

【０００８】このような強磁性金属薄膜の成膜工程と連
続して、この強磁性金属薄膜上に保護膜が形成される。 保護膜を成膜する方法としては、スパッタ法が使用可能
であり、この場合に特に顕著な効果が得られる。この時
、上記強磁性金属薄膜に対してスパッタリングを行う直
前に、上記強磁性金属薄膜の表面を加熱する。これによ
り、上記保護膜は局部的に温度が高くされた強磁性金属
薄膜上に成膜されるようになるので、上記強磁性金属薄
膜に対する保護膜の付着強度を十分に確保することがで
き、耐久性の向上を図ることができる。上記強磁性金属
薄膜を加熱する手段としては、例えばハロゲンパンプ照
射、遠赤外線照射、或いは加熱効果の高い電子銃による
電子ビーム照射等が挙げられる。

【０００９】本発明において、上記強磁性金属薄膜を構
成する磁性材料としては、特に限定されるものではなく
、例えばＣｏ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ−
Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ等の従来公
知の強磁性金属材料が何れも使用可能である。上記保護
膜としては、例えばカーボン膜、ＳｉＯ２　膜、窒化ホ
ウ素膜、Ｃｒ膜、Ｎｉ膜、Ｃｏ酸化物膜、ＭｏＳ２　膜
等が使用可能である。この保護膜の成膜方法としては、
特に限定されないが、特にＣＶＤやスパッタにより保護
膜を成膜する場合は、得られた保護膜の付着力が弱いた
めに、本発明により大きな効果を期待することができる
。 また、上記非磁性支持体としては、通常この種の磁気記
録媒体において使用されるものが何れも使用可能である
。更に、本発明においては、必要に応じて、上記非磁性
支持体上に下塗り膜を形成する工程やバックコート層、
トップコート層等を形成する工程等を加えても良い。こ
の場合、下塗り膜、バックコート層、トップコート層等
の成膜条件は、通常この種の磁気記録媒体の製造方法に
適用される方法であれば良く、特に限定されない。

【００１０】

【作用】蒸着により非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を
成膜する際には、蒸着時の熱によって上記非磁性支持体
が劣化するのを防止するために、当該非磁性支持体を冷
却している。これに対して、上記強磁性金属薄膜上に保
護膜を形成する工程において、上記強磁性金属薄膜に対
する保護膜の接着力を十分に確保するためには、上記強
磁性金属薄膜の温度を高くすべきであることが知られて
いる。従って、強磁性金属薄膜を成膜するための蒸着工
程と保護膜を形成するためのスパッタ工程では、互いに
相反する条件が下地層に対して要求されている。そこで
、これら強磁性金属薄膜の成膜工程と保護膜の成膜工程
を連続して行うに際し、上記強磁性金属薄膜の成膜工程
後で且つ保護膜の成膜工程の直前に、上記強磁性金属薄
膜を加熱し、この強磁性金属薄膜の温度を局部的に高く
する。これにより、強磁性金属薄膜に対する保護膜の付
着強度が改善され、耐久性の向上が図られる。

【００１１】

【実施例】以下、本発明の好適な実施例について実験結
果にもとづき説明する。本実施例は、斜め蒸着により非
磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成した後、この強磁
性金属薄膜にハロゲンランプを照射し、同一ドラムを用
いてスパッタを行って上記強磁性金属薄膜上に保護膜を
形成した例である。先ず、図１に示すように、大型のド
ラム１の外周面１ａに非磁性支持体２を巻回させ、上記
ドラム１の回転に応じて上記非磁性支持体２を図中ａ方
向に移動させながら、ルツボ３内に充填された蒸発源（
Ｃｏ８０Ｎｉ２０）４からの蒸気流Ｙを上記非磁性支持
体２の表面の法線方向Ｘに対してある入射角θをなして
入射させて、上記非磁性支持体２上に強磁性金属薄膜８
を成膜する。この強磁性金属薄膜８の膜厚は、最終的に
２０００Åとなるようにする。

【００１２】上記非磁性支持体２は、その両端部がそれ
ぞれワインダー５，５に巻取られ、これらワインダー９
，９の回転により一方向に走行される。これにより、こ
の非磁性支持体２の表面に対して連続的に蒸着がなされ
る。上記ドラム１は、図示しない冷却手段によって冷却
される。これにより、このドラム１に巻回された上記非
磁性支持体２が冷却され、蒸着時の熱による上記非磁性
支持体２の劣化が防止される。ここで、上記ドラム１の
近傍には、マスク１２が配設される。これにより、上記
非磁性支持体２に対する蒸着は、上記非磁性支持体２の
表面が上記マスク１２から露出する領域においてなされ
、上記非磁性支持体２の表面が上記マスク１２で遮蔽さ
れる時点で終了される。従って、上記蒸気流Ｙの入射角
θは、上記非磁性支持体２の移動とともに高角度から低
角度に徐々に変化し、上記マスク５が配設された位置で
最小値をとる。この蒸気流Ｙの入射角θの最小値は４０
°に設定される。このように、上記蒸気流Ｙの入射角θ
を規制することにより、良好な蒸着効率を確保できると
同時に、磁気特性の向上を図ることができる。このよう
な蒸着工程は、上記ドラム１に巻回された非磁性支持体
２の走行方向に対して前半側において行われる。

【００１３】この蒸着工程に連続して、上記強磁性金属
薄膜８上に保護膜１０を形成するためのスパッタリング
を行う。このスパッタ工程は、遮蔽板５を境として上記
ドラム１に巻回された非磁性支持体２の走行方向に対し
て後半側で行われる。上記遮蔽板５は、板面が上記非磁
性支持体２の表面に対して鉛直方向になされるように配
設される。この遮蔽板５によって上記蒸発源４からの蒸
気流Ｙと後述のスパッタ粒子が仕切られる。従って、こ
れら蒸気流Ｙやスパッタ粒子が混合されることがなく、
各々の領域にて所望の組成を有する膜をそれぞれ形成す
ることができる。この遮蔽板５の近傍で、且つ上記ドラ
ム１に巻回された非磁性支持体２の走行方向に対して後
半側には、ハロゲンランプ６が配設され、このハロゲン
ランプ６からの光が上記遮蔽板５を通過した上記強磁性
金属薄膜８の表面に照射される。これにより、上記強磁
性金属薄膜８が加熱され、局部的に温度が高くされる。 なお、上記ハロゲンランプ６の照射時間や照射により設
定される温度等は、適宜選定されることが好ましい。そ
して、固定部材１１により支持されたカーボンをターゲ
ット７として用い、上記ハロゲンランプ６により加熱さ
れた上記強磁性金属薄膜８に対してスパッタリングを行
って、上記強磁性金属薄膜８上に保護膜１０を成膜する
。この時、上記強磁性金属薄膜８の温度が上述のハロゲ
ンランプ照射により高くされているので、この強磁性金
属薄膜８に対する上記保護膜１０の付着強度を十分に確
保することができる。

【００１４】このような磁気記録媒体の製造方法におい
て、上記ハロゲンランプによって加熱される強磁性金属
薄膜の温度を表１に示すように変化させて磁気テープを
作製し、得られた各磁気テープ（実施例１〜３）と上述
のハロゲンランプによる加熱を行わずに、強磁性金属薄
膜の成膜後、直ちに保護膜を形成した磁気テープ（比較
例）の耐久性をそれぞれ調べた。この結果を表１に示す
。上記耐久性は、８ｍｍビデオテープレコーダ（商品名
ＥＶ−Ｓ１，ソニー社製）によりスチルライフを測定し
、出力が３ｄＢ低下するまでに要した時間で評価を行っ
た。

【表１】

【００１５】表１に示すように、強磁性金属薄膜の温度
を高くすることにより、耐久性が著しく改善することが
判った。また、実施例１の結果から、強磁性金属薄膜の
温度が十分に高くないと、良好な耐久性を確保できない
ことが明らかである。

【００１６】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気記録媒体の製造方法においては、磁性層とされ
る強磁性金属薄膜上に保護膜を成膜する工程の直前に、
前記強磁性金属薄膜の温度が局部的に高くされるので、
この強磁性金属薄膜に対する上記保護膜を付着力を十分
に確保することができる。従って、耐久性に優れた磁気
記録媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法を示す断面図
である。

【図２】従来の巻取り式蒸着工程を示す断面図である。

【符号の説明】

２・・・非磁性支持体 ３・・・蒸発源 ５・・・マスク ６・・・ハロゲンランプ ７・・・ターゲット ８・・・強磁性金属薄膜 １０・・・保護膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形
   成した後、この強磁性金属薄膜上に保護膜を形成する磁
   気記録媒体の製造方法において、上記強磁性金属薄膜の
   形成後で且つ上記保護膜の形成前に、上記強磁性金属薄
   膜の表面を加熱することを特徴とする磁気記録媒体の製
   造方法。