JPS5849927B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS5849927B2 JPS5849927B2 JP16731479A JP16731479A JPS5849927B2 JP S5849927 B2 JPS5849927 B2 JP S5849927B2 JP 16731479 A JP16731479 A JP 16731479A JP 16731479 A JP16731479 A JP 16731479A JP S5849927 B2 JPS5849927 B2 JP S5849927B2
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- Japan
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- magnetic
- magnetic material
- vapor
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は強磁性金属薄膜層を記録層とする強磁性金属
薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関し、その目的とする
ところは特に磁気特性に優れた強磁性金属薄膜型磁気記
録媒体の製造方法を提供することにある。
薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関し、その目的とする
ところは特に磁気特性に優れた強磁性金属薄膜型磁気記
録媒体の製造方法を提供することにある。
強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、通常、プラスチック
フィルムまたは非磁性金属フィルムなどのフイルム状の
基板を真空蒸着装置内に取りつけた円筒状キャンの周側
面に沿って移動させ、この基板に強磁性材料を真空蒸着
することによってつくられているが、このような方法で
磁気特性に優れた強磁性金属薄膜型磁気記録媒体を得る
ためには、強磁性材料の蒸気を基板に対し斜め方向に差
し向けて、強磁性材料の磁化容易軸が膜面にできるだけ
平行になるように蒸着するのが望ましい。
フィルムまたは非磁性金属フィルムなどのフイルム状の
基板を真空蒸着装置内に取りつけた円筒状キャンの周側
面に沿って移動させ、この基板に強磁性材料を真空蒸着
することによってつくられているが、このような方法で
磁気特性に優れた強磁性金属薄膜型磁気記録媒体を得る
ためには、強磁性材料の蒸気を基板に対し斜め方向に差
し向けて、強磁性材料の磁化容易軸が膜面にできるだけ
平行になるように蒸着するのが望ましい。
そのため種々の斜め入射蒸着法が研究開発され、その一
例としてたとえば、真空槽内に非磁性材料蒸発源を配設
し、基板に対する非磁性材料の蒸気流の入射角が強磁性
材料の蒸気流の入射角より大きくなるように，強磁性材
料の蒸気流と非磁性材料の蒸気流とを同時に基板に差し
向けて蒸着する方法が提案されている。
例としてたとえば、真空槽内に非磁性材料蒸発源を配設
し、基板に対する非磁性材料の蒸気流の入射角が強磁性
材料の蒸気流の入射角より大きくなるように，強磁性材
料の蒸気流と非磁性材料の蒸気流とを同時に基板に差し
向けて蒸着する方法が提案されている。
ところが、この方法では強磁性材料の蒸気流の入射方向
のコントロールを、イオン化されていない非磁性材料の
蒸気でもって行なっているためこのコントロール用の非
磁性材料の蒸気流自体のコントロールに欠ける難点があ
り、又この非磁性材料の蒸気流はイオン化されていない
ためエネルギーが小さく、従って比較的エネルギーの大
きな強磁性材料の蒸気流を充分にコントロールすること
ができない。
のコントロールを、イオン化されていない非磁性材料の
蒸気でもって行なっているためこのコントロール用の非
磁性材料の蒸気流自体のコントロールに欠ける難点があ
り、又この非磁性材料の蒸気流はイオン化されていない
ためエネルギーが小さく、従って比較的エネルギーの大
きな強磁性材料の蒸気流を充分にコントロールすること
ができない。
さらにこの結果必然的に多量の非磁性材料の蒸気流が基
板に差し向けられることになり、強磁性材料を蒸着する
際、多量の非磁性材料が基板に付着するため磁気記録媒
体の最大磁束密度を低下する欠点がある。
板に差し向けられることになり、強磁性材料を蒸着する
際、多量の非磁性材料が基板に付着するため磁気記録媒
体の最大磁束密度を低下する欠点がある。
この発明はかかる欠点を改善するため種々検討を行なっ
た結果なされたもので、真空槽内に、円筒状キャンの周
側面に沿って移動する基板と、この基板の移動方向に沿
って順次に，基板と対向する強磁性材料蒸発源および非
磁性材料蒸発源を配設するとともに、非磁性材料蒸発源
と前記基板間に非磁性材料の蒸気をイオン化して基板に
導ひく電極を適数個配設し、真空雰囲気下で強磁性材料
の蒸気流とイオン化された非磁性材料の蒸気流とを同時
に前記基板に差し向けることによって蒸着効率を向上す
るとともに得られる磁気記録媒体の磁気特性を向上させ
たものである。
た結果なされたもので、真空槽内に、円筒状キャンの周
側面に沿って移動する基板と、この基板の移動方向に沿
って順次に，基板と対向する強磁性材料蒸発源および非
磁性材料蒸発源を配設するとともに、非磁性材料蒸発源
と前記基板間に非磁性材料の蒸気をイオン化して基板に
導ひく電極を適数個配設し、真空雰囲気下で強磁性材料
の蒸気流とイオン化された非磁性材料の蒸気流とを同時
に前記基板に差し向けることによって蒸着効率を向上す
るとともに得られる磁気記録媒体の磁気特性を向上させ
たものである。
この発明によれば、真空槽内に非磁性材料蒸発源を配設
するとともにさらにこの非磁性材料蒸発源と基板との間
に、非磁性材料の蒸気をイオン化して基板に導ひく電極
を適数個配設しているため非磁性材料の蒸気がイオン化
された高エネルギーの非磁性材料の蒸気流が得られるば
かりでなくイオン化によって電極での非磁性材料の蒸気
流のコントロールも容易となり、さらにこのイオン化さ
れた非磁性材料の蒸気流は電極間で収束されて基板に差
し向けられる。
するとともにさらにこの非磁性材料蒸発源と基板との間
に、非磁性材料の蒸気をイオン化して基板に導ひく電極
を適数個配設しているため非磁性材料の蒸気がイオン化
された高エネルギーの非磁性材料の蒸気流が得られるば
かりでなくイオン化によって電極での非磁性材料の蒸気
流のコントロールも容易となり、さらにこのイオン化さ
れた非磁性材料の蒸気流は電極間で収束されて基板に差
し向けられる。
従って強磁性材料の蒸気流はこの高エネルギーのイオン
化された非磁性材料の蒸気流によって容易かつ充分にコ
ントロールされ、効率のよい蒸着が行なわれる。
化された非磁性材料の蒸気流によって容易かつ充分にコ
ントロールされ、効率のよい蒸着が行なわれる。
その上このような効率のよい蒸着が行なわれる結果、基
板に差し向けられるイオン化された非磁性材料の蒸気の
量も少なくてよく、従って得られる磁気記録媒体の最大
磁束密度も低下せず、磁気特性に優れた強磁性金属薄膜
型磁気記録媒体が得られる。
板に差し向けられるイオン化された非磁性材料の蒸気の
量も少なくてよく、従って得られる磁気記録媒体の最大
磁束密度も低下せず、磁気特性に優れた強磁性金属薄膜
型磁気記録媒体が得られる。
以下、図面を参照しながらこの発明について説明する。
第１図は真空蒸着装置の断面図を示したものであり、１
は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系２により真空に
保持される。
は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系２により真空に
保持される。
３は真空槽１の中央部に配設された円筒状キャンであり
、プラスチックフイルム等の基板４は原反ロール５より
ガイドローラ６を介してこの円筒状キャン３の周側面に
沿って移動し、カイドローラ７を介して捲き取り口ール
８に捲きとられる。
、プラスチックフイルム等の基板４は原反ロール５より
ガイドローラ６を介してこの円筒状キャン３の周側面に
沿って移動し、カイドローラ７を介して捲き取り口ール
８に捲きとられる。
この間円筒状キャン３の周側面に沿って移動する基板４
に対向して真空槽１の下底中央部に配設された強磁性材
料蒸発源９で強磁性材料１０が加熱蒸発され、蒸気流Ａ
が基板４に差し向けられて蒸着が行なわれるが、このと
き同時に真空槽１の下底左側端部に配設された非磁性材
料蒸発源１１で非磁性材料１２が加熱蒸発され、蒸発さ
れた蒸気が矢印Ｂに示すように非磁性材料蒸発源１１の
上方に配設されたイオン化用電極１３でイオン化され、
さらにイオン化用電極１３と基板４間に配設された収束
案内用電極１４に案内されて基板４に差し向けられる。
に対向して真空槽１の下底中央部に配設された強磁性材
料蒸発源９で強磁性材料１０が加熱蒸発され、蒸気流Ａ
が基板４に差し向けられて蒸着が行なわれるが、このと
き同時に真空槽１の下底左側端部に配設された非磁性材
料蒸発源１１で非磁性材料１２が加熱蒸発され、蒸発さ
れた蒸気が矢印Ｂに示すように非磁性材料蒸発源１１の
上方に配設されたイオン化用電極１３でイオン化され、
さらにイオン化用電極１３と基板４間に配設された収束
案内用電極１４に案内されて基板４に差し向けられる。
従って強磁性材料の蒸気流Ａはこのイオン化された非磁
性材料の蒸気流によってコントロールされる。
性材料の蒸気流によってコントロールされる。
１５および１６は絶縁導入端子であり、１７は収東案内
用電極１４の電源、１８はイオン化用電極１３の高闇波
電源である。
用電極１４の電源、１８はイオン化用電極１３の高闇波
電源である。
また１９は強磁性材料蒸発源９と非磁性材料蒸発源１１
との間に立設された防着板であり、非磁性材料蒸発源１
１で加熱蒸発されたイオン化される前の非磁性材料の蒸
気が基板４に至るのを防止するためのものである。
との間に立設された防着板であり、非磁性材料蒸発源１
１で加熱蒸発されたイオン化される前の非磁性材料の蒸
気が基板４に至るのを防止するためのものである。
なお非磁性材料の蒸気のイオン化はフィラメントによる
加熱によって行なってもよい。
加熱によって行なってもよい。
このようにこの発明においては、非磁性材料蒸発源１１
と基板４との間にイオン化用電極１３および収束案内用
電極１４を配設して、非磁性材料の蒸気をイオン化する
とともにこの蒸気を収束してイオン密度を高めながら基
板４に差し向けるため、強磁性材料の蒸気流Ａの入射方
向を容易かつ充分にコントロールすることができ効率的
な蒸着が行なえる。
と基板４との間にイオン化用電極１３および収束案内用
電極１４を配設して、非磁性材料の蒸気をイオン化する
とともにこの蒸気を収束してイオン密度を高めながら基
板４に差し向けるため、強磁性材料の蒸気流Ａの入射方
向を容易かつ充分にコントロールすることができ効率的
な蒸着が行なえる。
また非磁性材料の蒸気流はイオン化されているため収束
案内用電極１４でのコントロールも容易で、さらに高エ
ネルギーであるため少量の蒸気で充分な効果を発揮し、
得られる強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の磁気特性を向
上する。
案内用電極１４でのコントロールも容易で、さらに高エ
ネルギーであるため少量の蒸気で充分な効果を発揮し、
得られる強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の磁気特性を向
上する。
非磁性材料蒸発源１１で加熱蒸発される非磁性材料とし
てはインジウム、ビスマス、アルミニウム、銅などが好
適なものとして使用され、これら非磁性材料の蒸気はイ
オン化用電極１３でイオン化されたのち、収束案内用電
極１４によって基板４に差し向けられるが、その入射方
向は、強磁性材料１０の基板４に対する蒸気線Ｃに対し
ての入射角αカ６０゜〜９０’の範囲となるようにして
差し向けるのが好ましく、入射角αが６ｏ゜より小さい
場合には所期の効果が得られず、９０’より大きくなる
と円筒状キャンにより、イオン化されたガスがさえぎら
れ、所定の効果を充分に発揮できなくなる恐れがある。
てはインジウム、ビスマス、アルミニウム、銅などが好
適なものとして使用され、これら非磁性材料の蒸気はイ
オン化用電極１３でイオン化されたのち、収束案内用電
極１４によって基板４に差し向けられるが、その入射方
向は、強磁性材料１０の基板４に対する蒸気線Ｃに対し
ての入射角αカ６０゜〜９０’の範囲となるようにして
差し向けるのが好ましく、入射角αが６ｏ゜より小さい
場合には所期の効果が得られず、９０’より大きくなる
と円筒状キャンにより、イオン化されたガスがさえぎら
れ、所定の効果を充分に発揮できなくなる恐れがある。
基板としては、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド
等一般に使用されている高分子成形物からなるプラスチ
ックフィルムおよび銅などの非磁性金属からなる金属フ
ィルムが使用され、また強磁性金属薄膜層を形戒する強
磁性材料としては、コバルト、ニッケル、鉄などの金属
学体の他、これらの合金あるいは酸化物およびＣｏ−Ｐ
、Ｃｏ−Ｎｌ−Ｐなど一般に真空蒸着に使用される強磁
性材料が使用される。
等一般に使用されている高分子成形物からなるプラスチ
ックフィルムおよび銅などの非磁性金属からなる金属フ
ィルムが使用され、また強磁性金属薄膜層を形戒する強
磁性材料としては、コバルト、ニッケル、鉄などの金属
学体の他、これらの合金あるいは酸化物およびＣｏ−Ｐ
、Ｃｏ−Ｎｌ−Ｐなど一般に真空蒸着に使用される強磁
性材料が使用される。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例 １
約９μ厚のポリエステルベースフィルムに表面処理（ア
ルゴンガス、ボンバード処理）を施こした後、これを真
空蒸着装置に装填し、真空蒸着装置内を約１０−７トー
ルにまで真空排気した。
ルゴンガス、ボンバード処理）を施こした後、これを真
空蒸着装置に装填し、真空蒸着装置内を約１０−７トー
ルにまで真空排気した。
次いで強磁性材料蒸発源からコバルト金属の蒸気流をポ
リエステルベースフィルムに差し向けると同時に、真空
蒸着装置内に配設した非磁性材料蒸発源でアルミニウム
を加熱蒸発させ、イオン化して、コバルトの蒸気線に対
して入射角８０’でポリエステルベースフィルムに差し
向け、コバルト金属を０．３μの膜厚になるように蒸着
して強磁性金属薄膜層を形成し、これを所定の巾に裁断
して磁気テープをつくった。
リエステルベースフィルムに差し向けると同時に、真空
蒸着装置内に配設した非磁性材料蒸発源でアルミニウム
を加熱蒸発させ、イオン化して、コバルトの蒸気線に対
して入射角８０’でポリエステルベースフィルムに差し
向け、コバルト金属を０．３μの膜厚になるように蒸着
して強磁性金属薄膜層を形成し、これを所定の巾に裁断
して磁気テープをつくった。
実施例 ２
実施例１において、非磁性材料蒸発源で加熱蒸発する非
磁性材料を、アルミニウムから銅に代えた以外は実施例
１と同様にして磁気テープをつくった 実施例 ３ 実椎例１において、非磁性材料蒸発源で加熱蒸発する非
磁性材料を、アルミニウムからインジウムに代えた以外
は実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
磁性材料を、アルミニウムから銅に代えた以外は実施例
１と同様にして磁気テープをつくった 実施例 ３ 実椎例１において、非磁性材料蒸発源で加熱蒸発する非
磁性材料を、アルミニウムからインジウムに代えた以外
は実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
比較例 １
実施例１において、非磁性材料蒸発源でのアルミニウム
の加熱蒸発を省いた以外は実施例１と同様にして磁気テ
ープをつくった。
の加熱蒸発を省いた以外は実施例１と同様にして磁気テ
ープをつくった。
比較例 ２
実施例１において、非磁性材料蒸発源で加熱蒸発したア
ルミニウムをイオン化することなしに基板に差し向けた
以外は実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
ルミニウムをイオン化することなしに基板に差し向けた
以外は実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
各実捲例および各比較例で得られた磁気テープについて
保磁力（Ｈｃ ）および最大磁束密度（Ｂｓ）を測定し
た。
保磁力（Ｈｃ ）および最大磁束密度（Ｂｓ）を測定し
た。
下表はその結果である。
上表から明らかなように、この発明の製造方法によって
得られた磁気テープ（実施例１〜３）は、従来の製造方
法によって得られた磁気テープ（比較例１および２）に
比し、いずれも保磁カが高く、又最犬磁束密度は比較例
１で得られた磁気テープより若干低下するものの比較例
２で得られた磁気テープより大きく、このことからこの
発明の製造方法によって得られた磁気テープは磁気特性
が優れていることがわかる。
得られた磁気テープ（実施例１〜３）は、従来の製造方
法によって得られた磁気テープ（比較例１および２）に
比し、いずれも保磁カが高く、又最犬磁束密度は比較例
１で得られた磁気テープより若干低下するものの比較例
２で得られた磁気テープより大きく、このことからこの
発明の製造方法によって得られた磁気テープは磁気特性
が優れていることがわかる。
第１図はこの発明の製造方法を実施するために使用する
蒸着装置の概略断面図である。 １・・・・・・真空槽、３・・・・・・円筒状キャン、
４・−・・・・基板、９・・・・−・強磁性材料蒸発源
、１０・・・・・・強磁性材料、１１・・・・・・非磁
性材料蒸発源、１２・−・・・・非磁性材料、１３・・
・・・・イオン化用電極、１４・・・・・・収束案内用
電極、Ａ・・・・・・強磁性材料の蒸気流。
蒸着装置の概略断面図である。 １・・・・・・真空槽、３・・・・・・円筒状キャン、
４・−・・・・基板、９・・・・−・強磁性材料蒸発源
、１０・・・・・・強磁性材料、１１・・・・・・非磁
性材料蒸発源、１２・−・・・・非磁性材料、１３・・
・・・・イオン化用電極、１４・・・・・・収束案内用
電極、Ａ・・・・・・強磁性材料の蒸気流。
Claims (1)
- １ 真空槽内に，円筒状キャンの周側面に沿って移動す
る基板と、この基板の移動方向に沿って順次に、基板と
対向する強磁性材料蒸発源および非磁性材料蒸発源を配
設するとともに、非磁性材料蒸発源と前記基板間に非磁
性材料の蒸気をイオン化して基板に導ひく電極を適数個
配設し、真空雰囲気下で強磁性材料の蒸気流とイオン化
された非磁性材料の蒸気流とを同時に前記基板に差し向
けて基板上に強磁性金属薄膜層を形成することを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16731479A JPS5849927B2 (ja) | 1979-12-22 | 1979-12-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16731479A JPS5849927B2 (ja) | 1979-12-22 | 1979-12-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5690431A JPS5690431A (en) | 1981-07-22 |
| JPS5849927B2 true JPS5849927B2 (ja) | 1983-11-08 |
Family
ID=15847444
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16731479A Expired JPS5849927B2 (ja) | 1979-12-22 | 1979-12-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5849927B2 (ja) |
-
1979
- 1979-12-22 JP JP16731479A patent/JPS5849927B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5690431A (en) | 1981-07-22 |
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