JPH0451888B2 - - Google Patents
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- JPH0451888B2 JPH0451888B2 JP59176166A JP17616684A JPH0451888B2 JP H0451888 B2 JPH0451888 B2 JP H0451888B2 JP 59176166 A JP59176166 A JP 59176166A JP 17616684 A JP17616684 A JP 17616684A JP H0451888 B2 JPH0451888 B2 JP H0451888B2
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Classifications
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
（産業上の利用分野）
本発明は磁気記録媒体の製造方法に関し、より
詳細にはビデオテープ等として使用される非バイ
ンダー型の磁気記録媒体の製造方法に関するもの
である。 （従来技術） 従来より磁気記録媒体としては、有機バインダ
ー中に分散させた粉末磁性材料を非磁性基体上に
塗布し乾燥させてなる塗布型のものが広く使用さ
れてきている。しかしながら、従来の塗布型磁気
記録媒体は、磁性材料として強磁性金属よりも飽
和磁化の小さい金属酸化物を主として用いている
ため高密度記録には適しておらず、また製造工程
が複雑であり、溶剤回収あるいは公害防止のため
に大規模な附帯設備を有するという欠点を有して
いる。 これに対し、近年高密度記録への要求の高まり
と共に真空蒸着、スパツタリング、イオンプレー
テイング等のペーパーデポジシヨン法あるいは電
気メツキ、無電気メツキ等のメツキ法により形成
される強磁性薄膜を磁気記録層とする、バインダ
ーを使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記
録媒体が実用化されるに到つた。非バインダー型
磁気記録媒体においては塗布型磁気記録媒体に使
用される金属酸化物よりも飽和磁化の大きな強磁
性金属をバインダーのごとき非磁性物質を含有し
ない状態で薄膜として形成させることが可能であ
るため、塗布型と比較して高保磁力化および薄層
化が達成でき、しかも製造工程が簡略化され、有
機溶媒による公害も防止されるという利点を有し
ている。特に非バインダー型磁気記録媒体記録層
はその厚さを塗布型よりも一桁小さな値とするこ
とが可能であるため、高密度記録用磁気記録媒体
として注目されている。 しかしながら、非バインダー型磁気記録媒体の
磁性薄膜は腐蝕されやすいため、該記録媒体は塗
布型磁気記録媒体と比較して耐候性および耐錆性
が劣つている。特にビデオテープ等として使用さ
れる磁気記録媒体は記録・再生時に該媒体表面が
磁気ヘツドで擦られるため、極めて軽度であつて
も錆が該媒体表面上に存在しているヘツドに目詰
りが生じ、この結果、媒体およびヘツドが傷つく
ことになる。さらに錆の程度が甚しくなると磁性
薄膜が剥離して、記録されていた情報の消失を招
くこともある。 さらに、非バインダー型磁気記録媒体に係る問
題として耐久性がある。すなわち、VTRにおけ
るスチル耐久性において非バインダー型磁気記録
媒体は塗布型磁気記録媒体に劣つているため、そ
の改良が実用上切望されている。 こうした非バインダー型磁気記録媒体の耐候
性、耐久性を改良する方法として、イオンプレー
テングにより表面窒化処理を施す方法（特開昭50
−33806号）、スパツタにより窒化硅素膜を設ける
方法（特開昭53−30304号）、磁性膜を窒素ガス等
の雰囲気中での放電にさらして非磁性表面層を形
成する方法（特開昭53−85403号）、磁性金属薄膜
上に窒化された金属薄膜を設ける方法（特開昭54
−143111号）等が知られているが耐候性、耐久性
の改良が不十分で効果を得るには膜厚を大きくせ
ねばならぬ等の欠点があつた。非磁性保護膜は膜
厚が大きいと電磁変換特性上劣化が著しく非バイ
ンダー型磁気記録媒体の特徴が失われてしまう。 このような状況の下で、窒化鉄を主成分とする
磁性薄膜を有する磁気記録媒体（ヨーロツパ特許
8328号、特開昭59−87809号等）は耐候性に優れ
ていることから注目されており、さらに耐久性お
よび磁気特性についての改良が進められている。 窒化鉄薄膜を有する磁気記録媒体は窒素雰囲気
中において鉄もしくは鉄化合物を非磁性基体上に
蒸着せしめることにより形成することが可能であ
るが、通常、単にノズルから窒素ガスを蒸着装置
内に導入しても窒素粒子のエネルギーが蒸着粒子
のエネルギーよりも１桁以上も小さいために窒化
鉄が充分に生成されにくく、従来の磁性薄膜のよ
うに効率的に製造することは容易ではなかつた。 （発明の目的） 本発明の目的は上記従来技術の問題点に鑑み、
耐候性および耐久性に優れた窒化鉄薄膜を有する
磁気記録媒体を効率的に製造することのできる製
造方法を提供することにある。 （発明の構成） 本発明による磁気記録媒体の製造方法はイオン
ビーム発生源によりイオン化した窒素イオンと高
周波放電によりイオン化した鉄の蒸発粒子を用い
て窒化鉄薄膜を非磁性基体上に蒸着することを特
徴とするものである。 本発明において、イオンビーム発生源としては
熱電子励起型、マイクロウエーブ励起型等、窒素
ガス粒子を実質的にイオン化できるものである限
り任意の手段を使用することができる。また、イ
オンビームの照射は基体に付着する前の蒸発粒子
を含むのであれば、いずれの位置で行なつてもよ
い。 本発明に使用される高周波放電源も鉄を実質的
にイオン化できるものである限り任意の手段とす
ことができる。 本発明における窒化鉄薄膜は好ましくは組成で
30〜75atomic％の鉄成分および５〜40atomic％
の窒素成分を含有する薄膜であつて、必ずしも鉄
成分がすべて窒化させていなくてもよく、金属鉄
が一部含有されていてもよく、また鉄成分の一部
は酸化されていてもよい。 本発明に用いられる非磁性基体としてはポリエ
チレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカ
ーボネート、ポリエチレンナフタレートのような
プラスチツクベースの基体が好ましい。 本発明における磁性薄膜上に潤滑剤層を用いて
もよく、潤滑剤としては、炭素数12〜18個の脂肪
酸（R1COOH、R1は炭素数11〜17のアルキルま
たはアルケニル基）；前記脂肪酸の金属塩；シリ
コンオイル；炭素数２〜20個の一塩基性脂肪酸と
炭素数３〜12個の一価のアルコールから成る脂肪
酸エステル類から選ばれた少なくとも１種を含有
するもの等が使用される。上記潤滑剤は磁性膜上
に0.5〜20mg／m2存在せしめるのがよく、潤滑剤
の塗布は必要に応じて磁性膜上、あるいは支持体
裏面に塗布して潤滑剤を磁性膜上へ転写させるよ
うにしても良い。 本発明の磁気記録媒体においては、必要に応じ
支持体裏面にいわゆるバツク層を設けてもよい。 また、磁性金属蒸着膜と支持体との間に有機あ
るいは無機物からなる層を設けてもよい。 （実施例） 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に
説明するが、本発明は以下の実施例に限定される
ものではない。 実施例 １ 第１図にその要部を示した巻取式蒸着装置を用
いて、9.5μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフ
イルム上に斜方入射イオンプレーテイング法によ
り窒化鉄薄膜を形成して磁気テープを作成した。
その手順を以下に示す。 第１図に示す蒸着装置１において、帯状基体２
（すなわちポリエチレンテレフタレートフイルム）
をクーリングキヤン３に沿つて搬送した。適当な
加熱手段により加熱されたルツボ６内に蒸着材料
８として鉄をチヤージし、蒸発粒子を発生させ
た。一方、蒸着装置１内に窒素ガスを導入して、
PN2＝２×10-3〜８×10-5Torrとし、窒素粒子の
一部はイオンビーム発生源５によりイオン化して
窒素イオンビーム１０とした。鉄の蒸発粒子の一
部は高周波（RF）放電コイル７によりイオン化
して鉄イオンビーム９とした。高周波放電コイル
７は13.56MHzの高周波が1.2KW印加されるよう
に蒸着装置１外でマツチングボツクス（図示せ
ず）を経て電源（図示せず）と接続した。このよ
うにして得た鉄イオンビーム９および窒素イオン
ビーム１０を帯状基体２にイオンプレーテイング
した。なお、遮蔽マスク４によりイオンプレーテ
イング入射角は60゜に設定した。 このようにして得られた磁気テープの耐候性、
耐久性および磁気特性を測定した。耐候性は発露
型ウエザーメーター（山崎精機研究所Ｅ−12WG
型）に24時間保存後の錆の発生状況を５段階評価
により判定した。耐久性についてはVHS型VTR
にてテープを10分間スチルモードにかけた後、磁
性膜面のヘツドの傷発生状況を顕微鏡観察し、こ
れも５段階評価により判定した。磁気特性は試料
振動型磁束計（東英工業VSM−３型）で測定し
た。結果は下表のとおりである。比較のために強
磁性薄膜型磁気テープとしてよく用いられるCo0.
8Ni0.2強磁性薄膜磁気テープについての結果も下
表に合せて示した。Co0.8Ni0.2強磁性薄膜磁気テ
ープは実施例１と同様の蒸着装置を用いて、同一
入射角で実施した。ただし、蒸着はRFコイルに
よるイオンプレーテイングおよびイオンビームの
照射を行なわずにピアス式の電子銃を用いて行な
つた。
詳細にはビデオテープ等として使用される非バイ
ンダー型の磁気記録媒体の製造方法に関するもの
である。 （従来技術） 従来より磁気記録媒体としては、有機バインダ
ー中に分散させた粉末磁性材料を非磁性基体上に
塗布し乾燥させてなる塗布型のものが広く使用さ
れてきている。しかしながら、従来の塗布型磁気
記録媒体は、磁性材料として強磁性金属よりも飽
和磁化の小さい金属酸化物を主として用いている
ため高密度記録には適しておらず、また製造工程
が複雑であり、溶剤回収あるいは公害防止のため
に大規模な附帯設備を有するという欠点を有して
いる。 これに対し、近年高密度記録への要求の高まり
と共に真空蒸着、スパツタリング、イオンプレー
テイング等のペーパーデポジシヨン法あるいは電
気メツキ、無電気メツキ等のメツキ法により形成
される強磁性薄膜を磁気記録層とする、バインダ
ーを使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記
録媒体が実用化されるに到つた。非バインダー型
磁気記録媒体においては塗布型磁気記録媒体に使
用される金属酸化物よりも飽和磁化の大きな強磁
性金属をバインダーのごとき非磁性物質を含有し
ない状態で薄膜として形成させることが可能であ
るため、塗布型と比較して高保磁力化および薄層
化が達成でき、しかも製造工程が簡略化され、有
機溶媒による公害も防止されるという利点を有し
ている。特に非バインダー型磁気記録媒体記録層
はその厚さを塗布型よりも一桁小さな値とするこ
とが可能であるため、高密度記録用磁気記録媒体
として注目されている。 しかしながら、非バインダー型磁気記録媒体の
磁性薄膜は腐蝕されやすいため、該記録媒体は塗
布型磁気記録媒体と比較して耐候性および耐錆性
が劣つている。特にビデオテープ等として使用さ
れる磁気記録媒体は記録・再生時に該媒体表面が
磁気ヘツドで擦られるため、極めて軽度であつて
も錆が該媒体表面上に存在しているヘツドに目詰
りが生じ、この結果、媒体およびヘツドが傷つく
ことになる。さらに錆の程度が甚しくなると磁性
薄膜が剥離して、記録されていた情報の消失を招
くこともある。 さらに、非バインダー型磁気記録媒体に係る問
題として耐久性がある。すなわち、VTRにおけ
るスチル耐久性において非バインダー型磁気記録
媒体は塗布型磁気記録媒体に劣つているため、そ
の改良が実用上切望されている。 こうした非バインダー型磁気記録媒体の耐候
性、耐久性を改良する方法として、イオンプレー
テングにより表面窒化処理を施す方法（特開昭50
−33806号）、スパツタにより窒化硅素膜を設ける
方法（特開昭53−30304号）、磁性膜を窒素ガス等
の雰囲気中での放電にさらして非磁性表面層を形
成する方法（特開昭53−85403号）、磁性金属薄膜
上に窒化された金属薄膜を設ける方法（特開昭54
−143111号）等が知られているが耐候性、耐久性
の改良が不十分で効果を得るには膜厚を大きくせ
ねばならぬ等の欠点があつた。非磁性保護膜は膜
厚が大きいと電磁変換特性上劣化が著しく非バイ
ンダー型磁気記録媒体の特徴が失われてしまう。 このような状況の下で、窒化鉄を主成分とする
磁性薄膜を有する磁気記録媒体（ヨーロツパ特許
8328号、特開昭59−87809号等）は耐候性に優れ
ていることから注目されており、さらに耐久性お
よび磁気特性についての改良が進められている。 窒化鉄薄膜を有する磁気記録媒体は窒素雰囲気
中において鉄もしくは鉄化合物を非磁性基体上に
蒸着せしめることにより形成することが可能であ
るが、通常、単にノズルから窒素ガスを蒸着装置
内に導入しても窒素粒子のエネルギーが蒸着粒子
のエネルギーよりも１桁以上も小さいために窒化
鉄が充分に生成されにくく、従来の磁性薄膜のよ
うに効率的に製造することは容易ではなかつた。 （発明の目的） 本発明の目的は上記従来技術の問題点に鑑み、
耐候性および耐久性に優れた窒化鉄薄膜を有する
磁気記録媒体を効率的に製造することのできる製
造方法を提供することにある。 （発明の構成） 本発明による磁気記録媒体の製造方法はイオン
ビーム発生源によりイオン化した窒素イオンと高
周波放電によりイオン化した鉄の蒸発粒子を用い
て窒化鉄薄膜を非磁性基体上に蒸着することを特
徴とするものである。 本発明において、イオンビーム発生源としては
熱電子励起型、マイクロウエーブ励起型等、窒素
ガス粒子を実質的にイオン化できるものである限
り任意の手段を使用することができる。また、イ
オンビームの照射は基体に付着する前の蒸発粒子
を含むのであれば、いずれの位置で行なつてもよ
い。 本発明に使用される高周波放電源も鉄を実質的
にイオン化できるものである限り任意の手段とす
ことができる。 本発明における窒化鉄薄膜は好ましくは組成で
30〜75atomic％の鉄成分および５〜40atomic％
の窒素成分を含有する薄膜であつて、必ずしも鉄
成分がすべて窒化させていなくてもよく、金属鉄
が一部含有されていてもよく、また鉄成分の一部
は酸化されていてもよい。 本発明に用いられる非磁性基体としてはポリエ
チレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース、ポリカ
ーボネート、ポリエチレンナフタレートのような
プラスチツクベースの基体が好ましい。 本発明における磁性薄膜上に潤滑剤層を用いて
もよく、潤滑剤としては、炭素数12〜18個の脂肪
酸（R1COOH、R1は炭素数11〜17のアルキルま
たはアルケニル基）；前記脂肪酸の金属塩；シリ
コンオイル；炭素数２〜20個の一塩基性脂肪酸と
炭素数３〜12個の一価のアルコールから成る脂肪
酸エステル類から選ばれた少なくとも１種を含有
するもの等が使用される。上記潤滑剤は磁性膜上
に0.5〜20mg／m2存在せしめるのがよく、潤滑剤
の塗布は必要に応じて磁性膜上、あるいは支持体
裏面に塗布して潤滑剤を磁性膜上へ転写させるよ
うにしても良い。 本発明の磁気記録媒体においては、必要に応じ
支持体裏面にいわゆるバツク層を設けてもよい。 また、磁性金属蒸着膜と支持体との間に有機あ
るいは無機物からなる層を設けてもよい。 （実施例） 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に
説明するが、本発明は以下の実施例に限定される
ものではない。 実施例 １ 第１図にその要部を示した巻取式蒸着装置を用
いて、9.5μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフ
イルム上に斜方入射イオンプレーテイング法によ
り窒化鉄薄膜を形成して磁気テープを作成した。
その手順を以下に示す。 第１図に示す蒸着装置１において、帯状基体２
（すなわちポリエチレンテレフタレートフイルム）
をクーリングキヤン３に沿つて搬送した。適当な
加熱手段により加熱されたルツボ６内に蒸着材料
８として鉄をチヤージし、蒸発粒子を発生させ
た。一方、蒸着装置１内に窒素ガスを導入して、
PN2＝２×10-3〜８×10-5Torrとし、窒素粒子の
一部はイオンビーム発生源５によりイオン化して
窒素イオンビーム１０とした。鉄の蒸発粒子の一
部は高周波（RF）放電コイル７によりイオン化
して鉄イオンビーム９とした。高周波放電コイル
７は13.56MHzの高周波が1.2KW印加されるよう
に蒸着装置１外でマツチングボツクス（図示せ
ず）を経て電源（図示せず）と接続した。このよ
うにして得た鉄イオンビーム９および窒素イオン
ビーム１０を帯状基体２にイオンプレーテイング
した。なお、遮蔽マスク４によりイオンプレーテ
イング入射角は60゜に設定した。 このようにして得られた磁気テープの耐候性、
耐久性および磁気特性を測定した。耐候性は発露
型ウエザーメーター（山崎精機研究所Ｅ−12WG
型）に24時間保存後の錆の発生状況を５段階評価
により判定した。耐久性についてはVHS型VTR
にてテープを10分間スチルモードにかけた後、磁
性膜面のヘツドの傷発生状況を顕微鏡観察し、こ
れも５段階評価により判定した。磁気特性は試料
振動型磁束計（東英工業VSM−３型）で測定し
た。結果は下表のとおりである。比較のために強
磁性薄膜型磁気テープとしてよく用いられるCo0.
8Ni0.2強磁性薄膜磁気テープについての結果も下
表に合せて示した。Co0.8Ni0.2強磁性薄膜磁気テ
ープは実施例１と同様の蒸着装置を用いて、同一
入射角で実施した。ただし、蒸着はRFコイルに
よるイオンプレーテイングおよびイオンビームの
照射を行なわずにピアス式の電子銃を用いて行な
つた。
【表】
このように本発明による方法で製造した磁気記
録媒体は従来のサンプルと比較して、耐候性なら
びに耐久性に優れることが認められた。 （発明の効果） 本発明の方法はイオンビーム発生源により窒素
粒子をイオン化すると共に高周波放電により鉄の
蒸発粒子をイオン化することにより、窒化鉄の生
成を促進し、その結果、耐候性および耐久性に優
れた窒化鉄薄膜を有する磁気記録媒体を効率良く
製造することを可能にしたものであり、その実用
上のメリツトは大きい。
録媒体は従来のサンプルと比較して、耐候性なら
びに耐久性に優れることが認められた。 （発明の効果） 本発明の方法はイオンビーム発生源により窒素
粒子をイオン化すると共に高周波放電により鉄の
蒸発粒子をイオン化することにより、窒化鉄の生
成を促進し、その結果、耐候性および耐久性に優
れた窒化鉄薄膜を有する磁気記録媒体を効率良く
製造することを可能にしたものであり、その実用
上のメリツトは大きい。
図面は本発明の実施例に使用された装置の要部
を示す概略図である。 １…巻取式蒸着装置、２…帯状支持体、３…ク
ーリングキヤン、４…遮蔽マスク、５…イオンビ
ーム発生源、６…ルツボ、７…高周波放電コイ
ル、８…蒸着材料、９…鉄イオンビーム、１０…
窒素イオンビーム。
を示す概略図である。 １…巻取式蒸着装置、２…帯状支持体、３…ク
ーリングキヤン、４…遮蔽マスク、５…イオンビ
ーム発生源、６…ルツボ、７…高周波放電コイ
ル、８…蒸着材料、９…鉄イオンビーム、１０…
窒素イオンビーム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 窒素雰囲気内で鉄の蒸気流を形成せしめ、該
蒸気流中の鉄蒸発粒子と窒素粒子と共に非磁性基
体上に蒸着せしめて該基体上に窒化鉄薄膜を形成
することからなる磁気記録媒体の製造方法におい
て、 前記窒素粒子をイオンビーム発生手段によりイ
オン化し、かつ前記鉄蒸発粒子を高周波放電によ
りイオン化することを特徴とする製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176166A JPS6154039A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US06/901,976 US4724156A (en) | 1984-08-24 | 1986-09-02 | Method of manufacturing magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176166A JPS6154039A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6154039A JPS6154039A (ja) | 1986-03-18 |
| JPH0451888B2 true JPH0451888B2 (ja) | 1992-08-20 |
Family
ID=16008815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59176166A Granted JPS6154039A (ja) | 1984-08-24 | 1984-08-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4724156A (ja) |
| JP (1) | JPS6154039A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5250327A (en) * | 1986-04-28 | 1993-10-05 | Nissin Electric Co. Ltd. | Composite substrate and process for producing the same |
| JPH0770058B2 (ja) * | 1987-04-16 | 1995-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法及び製造装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4495242A (en) * | 1981-04-02 | 1985-01-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1984
- 1984-08-24 JP JP59176166A patent/JPS6154039A/ja active Granted
-
1986
- 1986-09-02 US US06/901,976 patent/US4724156A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6154039A (ja) | 1986-03-18 |
| US4724156A (en) | 1988-02-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |