JPH0341899B2 - - Google Patents
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- JPH0341899B2 JPH0341899B2 JP21692384A JP21692384A JPH0341899B2 JP H0341899 B2 JPH0341899 B2 JP H0341899B2 JP 21692384 A JP21692384 A JP 21692384A JP 21692384 A JP21692384 A JP 21692384A JP H0341899 B2 JPH0341899 B2 JP H0341899B2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は移動する高分子成形物などのテープ状
非磁性基体に磁性薄膜を真空蒸着法により形成せ
しめて磁気記録媒体を製造する方法に関する。さ
らに磁気特性および電磁変換特性の改良された磁
気記録媒体の製造方法に関する。 〔従来技術〕 従来より磁気記録媒体としては、非磁性基体上
にγ−Fe2O3、Coをドープしたγ−Fe2O3、
Fe3O4、CoをドープしたFe3O4、γ−Fe2O3と
Fe3O4のベルトライド化合物、Coをドープしたベ
ルトライド化合物、CrO2等の酸化物磁性粉末あ
るいはFe、Co、Ni等を主成分とする合金磁性粉
末等の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、エポキ
シ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バインダー中
に分散せしめ、塗布、乾燥させる塗布型のものが
広く使用されてきている。 近年高密度磁気記録への要求の高まりと共に、
真空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテング
等の方法により形成される強磁性金属薄膜はバイ
ンダーを使用しない、いわゆる金属薄膜型の磁気
記録媒体として注目を浴びており実用化への努力
がなされてきている。 従来の塗布型の磁気記録媒体では主として飽和
磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ていると共に、磁性層中の磁性材料の体積含有率
が30〜50%にすぎないため高出力高密度記録媒体
としては限界になつてきている。さらにその製造
工程も複雑で溶剤回収あるいは公害防止のための
大きな付帯設備を必要とするという欠点を有して
いる。金属薄膜型磁気記録媒体では酸化物磁性材
料より大きな飽和磁化を有する強磁性金属を有機
バインダーの如き非磁性物質を介在させぬ状態で
極めて薄い薄膜として形成できるという利点を有
する。高密度磁気記録化につれて記録再生磁気ヘ
ツドのギヤツプ長も1.0μmを切る時代になつてい
るが、それに伴つて磁気記録層への記録深さも浅
くなる傾向があり、磁性膜の厚み全部が磁気信号
の記録に利用され得る金属薄膜型磁気記録媒体は
高出力高密度記録媒体として極めてすぐれてい
る。金属薄膜型磁気記録媒体のうちでも膜の形成
を真空蒸着により行なう方法は膜の形成速度の速
いこと、製造工程が簡単であることあるいは排液
処理を必要としないドライプロセスであること等
の利点を有する。中でも特に磁性金属の蒸発ビー
ムを非磁性基体表面に斜めに入射させて蒸着する
斜方入射真空蒸着法は工程および装置機構が比較
的簡単であると同時に良好な磁気特性を有する膜
が得られるため実用化上ずぐれている。 テープ状非磁性基体に蒸着により磁性薄膜を形
成せしめて磁気テープを製造する際には、特開昭
54−19200号、特開昭53−87706号に示されている
ように移動するテープ状非磁性基体に電子ビーム
の照射加熱により蒸発せしめられた磁性材料の蒸
気流を差し向け蒸着する方法が用いられる。この
ようにして製造される蒸着型磁気記録媒体は従来
の塗布型磁気記録媒体に比し高出力が得られるこ
とから8mmVTR用磁気テープあるいはデイジタ
ルオーデオ用磁気テープとして極めて有望であ
る。蒸着型の磁気記録媒体においてはノイズを低
下させS/Nさらに改良するために磁性材料の蒸
着の際に酸素等の酸化性ガスを導入する方法が取
られているが、これによると磁気特性、特に
(dB/dH)naxが低下するためにこの改良が望まれて いた。さらに従来の電子ビーム加熱法による蒸着
型磁気記録媒体ではビデオ信号等の特に高周波信
号の記録再生波のエンベロープが充分でなくこの
改良も望まれていた。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、上記の欠点を改良した蒸着法
による金属薄膜型磁気記録媒体、すなわち磁気特
性、特に(dB/dH)naxの改良された金属薄膜型磁気 記録媒体の製造方法を提供することにある。さら
に本発明の目的は電磁変換特性、特に再生信号の
エンベロープのすぐれた蒸着法による金属薄膜型
磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。 〔発明の構成〕 本発明は真空雰囲気内にて連続して移動するテ
ープ状非磁性基体に、電子ビームの走査加熱によ
り蒸発せしめられた磁性材料の蒸気を差し向け該
非磁性基体上に蒸着磁性薄膜を形成せしめて磁気
記録媒体を製造する方法において、該非磁性基体
の移動速度をυ(m/分)、該非磁性支持体幅方向
と略平行な磁性材料蒸発源上の電子ビームの走査
幅をω(m)とした時、電子ビームの走査周波数
2ωυ(Hz)以上とすることを特徴とする磁気記録
媒体の製法に関する。 第1図は、本発明による磁気記録媒体製造方法
を実施するための装置の一例を示している。適当
な真空排気系を備えてなる真空槽(図示せず)内
に配設されたシリンダー状冷却キヤン11に沿つ
てテープ状非磁性基体12が搬送される。冷却キ
ヤン11の下方には磁性金属材料13を加熱蒸発
させるためのルツボ14が配置されており、磁性
金属材料13は電子銃15からの電子ビーム16
の照射により加熱される。加熱蒸発された磁性金
属材料の蒸気流は冷却キヤン11の表面に沿つて
移動するテープ状非磁性基体12の表面に達し蒸
着磁性薄膜が形成される。本発明においてテープ
状非磁性基体の移動速度とは、テープ状非磁性基
体表面への磁性金属材料の蒸着が行なわれる領域
における上記テープ状基体の移動する速度を指
す。第1図においてテープ状非磁性基体12の表
面が磁性金属材料の蒸気流にさらされる領域にお
けるテープ状非磁性基体12の移動速度υ〔m/
分〕が本発明におけるテープ状非磁性基体の移動
速度である。電子ビーム16はテープ状非磁性基
体12の幅方向と略平行にルツボ14の磁性金属
材料13を走査照射されるが、その際の電子ビー
ム走査のテープ状非磁性基体12幅方向に沿つて
の走査長を本発明における走査幅ω(m)と定義
する。本発明者等はテープ状非磁性基体の移動速
度と電子ビーム走査幅について種々検討の結果、
テープ状非磁性基体の移動速度をυ(m/分)、上
記電子ビーム走査幅をω(m)とした時、電子ビ
ームの走査周波数を2ωυ(Hz)以上、特に好まし
くは4ωυ(Hz)以上として製造された磁気記録媒
体は磁気特性がすぐれると共に電磁変換特性にす
ぐれた蒸着法による金属薄膜型磁気記録媒体であ
ることを見出したものである。 本発明の方法によつて磁気記録媒体を製造する
場合、磁性薄膜を形成させるための強磁性金属と
してはFe、Co、Ni等の金属あるいはFe−Co、
Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Rh、Fe
−Cu、Fe−Si、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、Co
−La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、
Co−Si、Co−Mn、Co−P、Ni−Cu、Mn−Bi、
Mn−Sb、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、
Fe−P、Ni−P、Co−Ni−P、Co−Ni−B、
Co−Ni−Ag、Co−Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Fe
−Co−Ni−Cr、Co−Ni−Zn、Co−Ni−W、Fe
−Co−Ni−P等のような強磁性合金が用いられ
る。磁性膜の厚さは、磁気記録媒体として充分な
出力を与え得る厚さおよび高密度記録の充分行な
える薄さを必要とすることから一般には0.02μm
から5.0μm、好ましくは0.05μmから2.0μmであ
る。蒸着中にO2、CO2、N2、NH3、スチレン等
のガスを導入して磁性薄膜中にO、N、C等の元
素を含有させるようにしてもよい。 テープ状非磁性基体としてはポリエチレンテレ
フタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化
ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、
ポリエチレンナフタレート、ポリフエニレンサル
フアイドのようなプラスチツクベース、あるいは
Al、Al合金、Ti、Ti合金、ステンレス鋼のよう
な金属帯が用いられる。 ルツボ14から蒸着された磁性材料13を補給
するために線状、粒状、帯状、棒状の磁性材料を
ルツボ14に上、下あるいは横から連続的あるい
は断続的に供給するような機構を設けてもよい。 さらに磁性材料の蒸気流をテープ状基板面に斜
めに入射させる斜方入射真空蒸着法による場合に
は入射角を30°〜90°の範囲にするのが好ましい。 さらに本発明においてテープ状非磁性基体上に
有機あるいは無機物よりなる下地層を設けても良
いし、磁性薄膜を多層化したり、各磁性膜間に有
機あるいは無機物よりなる中間層を設けてもよ
い。また磁性膜上に有機あるいは無機物よりなる
保護層を設けてもよい。 〔実施例〕 次に実施例をもつて本発明を具体的に説明する
が本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例 1 第1図に示す装置を用いて12μm厚のポリエチ
レンテレフタレートフイルム上に強磁性薄膜を形
成し磁気記録媒体を作成した。蒸発源としてはル
ツボにCoNi合金Ni18重量%)をチヤージし加速
電圧30kVの電子ビームをポリエチレンテレフタ
レートフイルムの幅方向と平行に走査させて蒸着
を実施した。蒸着の際磁性材料の蒸発流近傍に酸
素ガスを導入し、真空度が2.0×10-4Torrとなる
ようにして厚み0.12μmの磁性薄膜を蒸着形成し
た。電子ビームの走査幅を0.5mとし、ポリエチ
レンテレフタレートフイルムの移動速度および電
子ビーム走査周波数を変化させた磁気テープ原反
を作製した。こうして得た磁気テープの磁気特性
B−H曲線での(dB/dH)nax値およびテープとヘツ ド相対速度が3.75m/秒なるVTRで5MHzの信号
を記録し再生した時のエンベロープ特性を測定し
たところ下表のようであつた。
非磁性基体に磁性薄膜を真空蒸着法により形成せ
しめて磁気記録媒体を製造する方法に関する。さ
らに磁気特性および電磁変換特性の改良された磁
気記録媒体の製造方法に関する。 〔従来技術〕 従来より磁気記録媒体としては、非磁性基体上
にγ−Fe2O3、Coをドープしたγ−Fe2O3、
Fe3O4、CoをドープしたFe3O4、γ−Fe2O3と
Fe3O4のベルトライド化合物、Coをドープしたベ
ルトライド化合物、CrO2等の酸化物磁性粉末あ
るいはFe、Co、Ni等を主成分とする合金磁性粉
末等の粉末磁性材料を塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、エポキ
シ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バインダー中
に分散せしめ、塗布、乾燥させる塗布型のものが
広く使用されてきている。 近年高密度磁気記録への要求の高まりと共に、
真空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテング
等の方法により形成される強磁性金属薄膜はバイ
ンダーを使用しない、いわゆる金属薄膜型の磁気
記録媒体として注目を浴びており実用化への努力
がなされてきている。 従来の塗布型の磁気記録媒体では主として飽和
磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ていると共に、磁性層中の磁性材料の体積含有率
が30〜50%にすぎないため高出力高密度記録媒体
としては限界になつてきている。さらにその製造
工程も複雑で溶剤回収あるいは公害防止のための
大きな付帯設備を必要とするという欠点を有して
いる。金属薄膜型磁気記録媒体では酸化物磁性材
料より大きな飽和磁化を有する強磁性金属を有機
バインダーの如き非磁性物質を介在させぬ状態で
極めて薄い薄膜として形成できるという利点を有
する。高密度磁気記録化につれて記録再生磁気ヘ
ツドのギヤツプ長も1.0μmを切る時代になつてい
るが、それに伴つて磁気記録層への記録深さも浅
くなる傾向があり、磁性膜の厚み全部が磁気信号
の記録に利用され得る金属薄膜型磁気記録媒体は
高出力高密度記録媒体として極めてすぐれてい
る。金属薄膜型磁気記録媒体のうちでも膜の形成
を真空蒸着により行なう方法は膜の形成速度の速
いこと、製造工程が簡単であることあるいは排液
処理を必要としないドライプロセスであること等
の利点を有する。中でも特に磁性金属の蒸発ビー
ムを非磁性基体表面に斜めに入射させて蒸着する
斜方入射真空蒸着法は工程および装置機構が比較
的簡単であると同時に良好な磁気特性を有する膜
が得られるため実用化上ずぐれている。 テープ状非磁性基体に蒸着により磁性薄膜を形
成せしめて磁気テープを製造する際には、特開昭
54−19200号、特開昭53−87706号に示されている
ように移動するテープ状非磁性基体に電子ビーム
の照射加熱により蒸発せしめられた磁性材料の蒸
気流を差し向け蒸着する方法が用いられる。この
ようにして製造される蒸着型磁気記録媒体は従来
の塗布型磁気記録媒体に比し高出力が得られるこ
とから8mmVTR用磁気テープあるいはデイジタ
ルオーデオ用磁気テープとして極めて有望であ
る。蒸着型の磁気記録媒体においてはノイズを低
下させS/Nさらに改良するために磁性材料の蒸
着の際に酸素等の酸化性ガスを導入する方法が取
られているが、これによると磁気特性、特に
(dB/dH)naxが低下するためにこの改良が望まれて いた。さらに従来の電子ビーム加熱法による蒸着
型磁気記録媒体ではビデオ信号等の特に高周波信
号の記録再生波のエンベロープが充分でなくこの
改良も望まれていた。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、上記の欠点を改良した蒸着法
による金属薄膜型磁気記録媒体、すなわち磁気特
性、特に(dB/dH)naxの改良された金属薄膜型磁気 記録媒体の製造方法を提供することにある。さら
に本発明の目的は電磁変換特性、特に再生信号の
エンベロープのすぐれた蒸着法による金属薄膜型
磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。 〔発明の構成〕 本発明は真空雰囲気内にて連続して移動するテ
ープ状非磁性基体に、電子ビームの走査加熱によ
り蒸発せしめられた磁性材料の蒸気を差し向け該
非磁性基体上に蒸着磁性薄膜を形成せしめて磁気
記録媒体を製造する方法において、該非磁性基体
の移動速度をυ(m/分)、該非磁性支持体幅方向
と略平行な磁性材料蒸発源上の電子ビームの走査
幅をω(m)とした時、電子ビームの走査周波数
2ωυ(Hz)以上とすることを特徴とする磁気記録
媒体の製法に関する。 第1図は、本発明による磁気記録媒体製造方法
を実施するための装置の一例を示している。適当
な真空排気系を備えてなる真空槽(図示せず)内
に配設されたシリンダー状冷却キヤン11に沿つ
てテープ状非磁性基体12が搬送される。冷却キ
ヤン11の下方には磁性金属材料13を加熱蒸発
させるためのルツボ14が配置されており、磁性
金属材料13は電子銃15からの電子ビーム16
の照射により加熱される。加熱蒸発された磁性金
属材料の蒸気流は冷却キヤン11の表面に沿つて
移動するテープ状非磁性基体12の表面に達し蒸
着磁性薄膜が形成される。本発明においてテープ
状非磁性基体の移動速度とは、テープ状非磁性基
体表面への磁性金属材料の蒸着が行なわれる領域
における上記テープ状基体の移動する速度を指
す。第1図においてテープ状非磁性基体12の表
面が磁性金属材料の蒸気流にさらされる領域にお
けるテープ状非磁性基体12の移動速度υ〔m/
分〕が本発明におけるテープ状非磁性基体の移動
速度である。電子ビーム16はテープ状非磁性基
体12の幅方向と略平行にルツボ14の磁性金属
材料13を走査照射されるが、その際の電子ビー
ム走査のテープ状非磁性基体12幅方向に沿つて
の走査長を本発明における走査幅ω(m)と定義
する。本発明者等はテープ状非磁性基体の移動速
度と電子ビーム走査幅について種々検討の結果、
テープ状非磁性基体の移動速度をυ(m/分)、上
記電子ビーム走査幅をω(m)とした時、電子ビ
ームの走査周波数を2ωυ(Hz)以上、特に好まし
くは4ωυ(Hz)以上として製造された磁気記録媒
体は磁気特性がすぐれると共に電磁変換特性にす
ぐれた蒸着法による金属薄膜型磁気記録媒体であ
ることを見出したものである。 本発明の方法によつて磁気記録媒体を製造する
場合、磁性薄膜を形成させるための強磁性金属と
してはFe、Co、Ni等の金属あるいはFe−Co、
Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Rh、Fe
−Cu、Fe−Si、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、Co
−La、Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、
Co−Si、Co−Mn、Co−P、Ni−Cu、Mn−Bi、
Mn−Sb、Mn−Al、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、
Fe−P、Ni−P、Co−Ni−P、Co−Ni−B、
Co−Ni−Ag、Co−Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Fe
−Co−Ni−Cr、Co−Ni−Zn、Co−Ni−W、Fe
−Co−Ni−P等のような強磁性合金が用いられ
る。磁性膜の厚さは、磁気記録媒体として充分な
出力を与え得る厚さおよび高密度記録の充分行な
える薄さを必要とすることから一般には0.02μm
から5.0μm、好ましくは0.05μmから2.0μmであ
る。蒸着中にO2、CO2、N2、NH3、スチレン等
のガスを導入して磁性薄膜中にO、N、C等の元
素を含有させるようにしてもよい。 テープ状非磁性基体としてはポリエチレンテレ
フタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化
ビニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、
ポリエチレンナフタレート、ポリフエニレンサル
フアイドのようなプラスチツクベース、あるいは
Al、Al合金、Ti、Ti合金、ステンレス鋼のよう
な金属帯が用いられる。 ルツボ14から蒸着された磁性材料13を補給
するために線状、粒状、帯状、棒状の磁性材料を
ルツボ14に上、下あるいは横から連続的あるい
は断続的に供給するような機構を設けてもよい。 さらに磁性材料の蒸気流をテープ状基板面に斜
めに入射させる斜方入射真空蒸着法による場合に
は入射角を30°〜90°の範囲にするのが好ましい。 さらに本発明においてテープ状非磁性基体上に
有機あるいは無機物よりなる下地層を設けても良
いし、磁性薄膜を多層化したり、各磁性膜間に有
機あるいは無機物よりなる中間層を設けてもよ
い。また磁性膜上に有機あるいは無機物よりなる
保護層を設けてもよい。 〔実施例〕 次に実施例をもつて本発明を具体的に説明する
が本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例 1 第1図に示す装置を用いて12μm厚のポリエチ
レンテレフタレートフイルム上に強磁性薄膜を形
成し磁気記録媒体を作成した。蒸発源としてはル
ツボにCoNi合金Ni18重量%)をチヤージし加速
電圧30kVの電子ビームをポリエチレンテレフタ
レートフイルムの幅方向と平行に走査させて蒸着
を実施した。蒸着の際磁性材料の蒸発流近傍に酸
素ガスを導入し、真空度が2.0×10-4Torrとなる
ようにして厚み0.12μmの磁性薄膜を蒸着形成し
た。電子ビームの走査幅を0.5mとし、ポリエチ
レンテレフタレートフイルムの移動速度および電
子ビーム走査周波数を変化させた磁気テープ原反
を作製した。こうして得た磁気テープの磁気特性
B−H曲線での(dB/dH)nax値およびテープとヘツ ド相対速度が3.75m/秒なるVTRで5MHzの信号
を記録し再生した時のエンベロープ特性を測定し
たところ下表のようであつた。
【表】
【表】
このように電子ビームの走査幅ω(m)でポリ
エチレンテレフタレートフイルムの移動速度υ
(m/分)とした時、電子ビームの走査周波数を
2ωυ(Hz)以上〔走査幅0.5mで移動速度50m/分
の時は50Hz以上;走査幅0.5mで移動速度100m/
分の時は100Hz以上〕にて製造された磁気テープ
は(dB/dH)nax値が向上し、すぐれたエンベロープ 特性を示すことが確かめられた。 実施例 2 実施例1と同様にして12.5μm厚のポリイミド
フイルム上にCo−Cr(Cr:5wt%)より成る強磁
性薄膜を蒸着形成せしめ磁気記録媒体を作製し
た。真空度1.5×10-5TorrにてCo−Crを蒸着せし
め膜厚0.2μmとなるよう磁性薄膜を形成した。電
子ビームの走査幅、ポリイミドフイルムの移動速
度に対して電子ビーム走査周波数を変化させて磁
気テープサンプルを作製し、これについて実施例
1と同様にして(dB/dH)nax値およびエンベロープ 特性を測定したところ下表のようであつた。
エチレンテレフタレートフイルムの移動速度υ
(m/分)とした時、電子ビームの走査周波数を
2ωυ(Hz)以上〔走査幅0.5mで移動速度50m/分
の時は50Hz以上;走査幅0.5mで移動速度100m/
分の時は100Hz以上〕にて製造された磁気テープ
は(dB/dH)nax値が向上し、すぐれたエンベロープ 特性を示すことが確かめられた。 実施例 2 実施例1と同様にして12.5μm厚のポリイミド
フイルム上にCo−Cr(Cr:5wt%)より成る強磁
性薄膜を蒸着形成せしめ磁気記録媒体を作製し
た。真空度1.5×10-5TorrにてCo−Crを蒸着せし
め膜厚0.2μmとなるよう磁性薄膜を形成した。電
子ビームの走査幅、ポリイミドフイルムの移動速
度に対して電子ビーム走査周波数を変化させて磁
気テープサンプルを作製し、これについて実施例
1と同様にして(dB/dH)nax値およびエンベロープ 特性を測定したところ下表のようであつた。
【表】
このように電子ビームの走査幅ω(m)でポリ
イミドフイルムの移動速度υ(m/分)とした時、
電子ビームの走査周波数を2ωυ(Hz)以上〔走査
幅0.4mで移動速度80m/分の時は64Hz以上;走
査幅0.8mで移動速度80m/分の時は128Hz以上〕
にて製造された磁気テープは(dB/dH)nax値が向上 し、すぐれたエンベロープ特性を示すことが確か
められた。 〔発明の効果〕 本発明の蒸着法による磁気記録媒体の製造方法
によれば磁気特性および電磁変換特性の改良され
た磁気記録媒体を得ることができる。高密度記録
に際しては記録波長が小さくなると自己減磁損失
が増すため(dB/dH)nax値の大なることが必要とな るが、本発明の方法によるとこの目的に合つた磁
気記録媒体を製造することができる。さらにすぐ
れたVTR再生画像を得るにはエンベロープのす
ぐれることが必要であるが、本発明によればエン
ベロープの改良された金属薄膜型磁気記録媒体を
製造することができるものである。
イミドフイルムの移動速度υ(m/分)とした時、
電子ビームの走査周波数を2ωυ(Hz)以上〔走査
幅0.4mで移動速度80m/分の時は64Hz以上;走
査幅0.8mで移動速度80m/分の時は128Hz以上〕
にて製造された磁気テープは(dB/dH)nax値が向上 し、すぐれたエンベロープ特性を示すことが確か
められた。 〔発明の効果〕 本発明の蒸着法による磁気記録媒体の製造方法
によれば磁気特性および電磁変換特性の改良され
た磁気記録媒体を得ることができる。高密度記録
に際しては記録波長が小さくなると自己減磁損失
が増すため(dB/dH)nax値の大なることが必要とな るが、本発明の方法によるとこの目的に合つた磁
気記録媒体を製造することができる。さらにすぐ
れたVTR再生画像を得るにはエンベロープのす
ぐれることが必要であるが、本発明によればエン
ベロープの改良された金属薄膜型磁気記録媒体を
製造することができるものである。
第1図は本発明による磁気記録媒体を製造する
方法を実施するための装置例を示している。 11:シリンダー状冷却キヤン、12:テープ
状非磁性基体、13:磁性金属材料、14:蒸発
源ルツボ、15:電子銃、16:電子ビーム。
方法を実施するための装置例を示している。 11:シリンダー状冷却キヤン、12:テープ
状非磁性基体、13:磁性金属材料、14:蒸発
源ルツボ、15:電子銃、16:電子ビーム。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 真空雰囲気において連続して移動するテープ
状非磁性基体上に、電子ビームの走査加熱により
蒸発せしめられた磁性材料の蒸気流を差し向け該
非磁性基体上に蒸着磁性薄膜を形成せしめて磁気
記録媒体を製造する方法において、該非磁性基体
の移動速度をυ〔m/分〕、該非磁性支持体幅方向
と略平行な磁性材料蒸発源上の電子ビーム走査幅
をω〔m〕としたとき、電子ビームの走査周波数
を2ωυ〔Hz〕以上とすることを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21692384A JPS6194240A (ja) | 1984-10-16 | 1984-10-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
US06/788,177 US4604293A (en) | 1984-10-16 | 1985-10-16 | Process for producing magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21692384A JPS6194240A (ja) | 1984-10-16 | 1984-10-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6194240A JPS6194240A (ja) | 1986-05-13 |
JPH0341899B2 true JPH0341899B2 (ja) | 1991-06-25 |
Family
ID=16696042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21692384A Granted JPS6194240A (ja) | 1984-10-16 | 1984-10-16 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6194240A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6270576A (ja) * | 1985-09-21 | 1987-04-01 | Kawasaki Steel Corp | 大量蒸気流発生用蒸発源装置 |
DE102011082385A1 (de) | 2010-09-09 | 2012-04-26 | Denso Corporation | Abgassteuervorrichtung für einen Motor |
-
1984
- 1984-10-16 JP JP21692384A patent/JPS6194240A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6194240A (ja) | 1986-05-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |