JPH0685211B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0685211B2 JPH0685211B2 JP60101079A JP10107985A JPH0685211B2 JP H0685211 B2 JPH0685211 B2 JP H0685211B2 JP 60101079 A JP60101079 A JP 60101079A JP 10107985 A JP10107985 A JP 10107985A JP H0685211 B2 JPH0685211 B2 JP H0685211B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層として備えてなる
磁気記録媒体の製造方法に関し、特に低湿度環境下での
走行性および繰返し走行での出力低下にすぐれる金属薄
膜型磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
磁気記録媒体の製造方法に関し、特に低湿度環境下での
走行性および繰返し走行での出力低下にすぐれる金属薄
膜型磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にγ−
Fe2O3、Coをドープしたγ−Fe2O3、Fe3O4、Coをドープ
したFe3O4、γ−Fe2O3とFe3O4のベルトライド化合物、C
rO2等の磁性粉末あるいは強磁性合金粉末等を粉末磁性
材料を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブ
タジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等
の有機バインダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥さ
せる塗布型のものが広く使用されてきている。近年高密
度記録への要求の高まりと共に真空蒸着、スパツタリン
グ、イオンプレーテイング等のベーパーデポジシヨン法
あるいは電気メツキ、無電解メツキ等のメツキ法により
形成される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする、バイン
ダーを使用しない、いわゆる金属薄膜型磁気記録媒体が
注目を浴びており実用化への努力が種々行なわれてい
る。
Fe2O3、Coをドープしたγ−Fe2O3、Fe3O4、Coをドープ
したFe3O4、γ−Fe2O3とFe3O4のベルトライド化合物、C
rO2等の磁性粉末あるいは強磁性合金粉末等を粉末磁性
材料を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブ
タジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等
の有機バインダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥さ
せる塗布型のものが広く使用されてきている。近年高密
度記録への要求の高まりと共に真空蒸着、スパツタリン
グ、イオンプレーテイング等のベーパーデポジシヨン法
あるいは電気メツキ、無電解メツキ等のメツキ法により
形成される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする、バイン
ダーを使用しない、いわゆる金属薄膜型磁気記録媒体が
注目を浴びており実用化への努力が種々行なわれてい
る。
従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきており、かつその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。金属薄膜型の磁
気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁化を有する
強磁性金属をバインダーの如き非磁性物質を含有しない
状態で薄膜として形成せしめるため、高密度記録化のた
めに薄形化できるという利点を有し、またその製造工程
が簡略化される。
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきており、かつその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。金属薄膜型の磁
気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁化を有する
強磁性金属をバインダーの如き非磁性物質を含有しない
状態で薄膜として形成せしめるため、高密度記録化のた
めに薄形化できるという利点を有し、またその製造工程
が簡略化される。
高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁以上の薄
形化が容易で、飽和磁束密度も大きい金属薄膜型磁気記
録媒体への期待は大きい。
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁以上の薄
形化が容易で、飽和磁束密度も大きい金属薄膜型磁気記
録媒体への期待は大きい。
金属薄膜型磁気記録媒体の製造において、特に真空蒸着
による方法はメツキの場合のような排液処理を必要とせ
ず製造工程も簡単で、膜の折出速度も大きくできるため
非常にメリツトが大きい。真空蒸着により、望ましい抗
磁力および角型性を有する磁性膜を製造する方法として
は、米国特許3342632号、同3342633号等に述べられてい
る斜め蒸着法が知られている。さらに近年従来の長手方
向記録用に代つて例えば米国特許4,477,488号に開示さ
れているような垂直方向記録用金属薄膜型磁気記録媒体
も提案されている。
による方法はメツキの場合のような排液処理を必要とせ
ず製造工程も簡単で、膜の折出速度も大きくできるため
非常にメリツトが大きい。真空蒸着により、望ましい抗
磁力および角型性を有する磁性膜を製造する方法として
は、米国特許3342632号、同3342633号等に述べられてい
る斜め蒸着法が知られている。さらに近年従来の長手方
向記録用に代つて例えば米国特許4,477,488号に開示さ
れているような垂直方向記録用金属薄膜型磁気記録媒体
も提案されている。
さらに強磁性金属薄膜を有する磁気記録媒体にかかわる
大きな問題として腐食及び摩耗に対する強度、走行安定
性がある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生及び消
去の過程において磁気ヘツドと高速相対運動のもとにお
かれるが、その際走行がスムーズにしかも安定に行なわ
れねばならぬし、同時にヘツドとの接触による摩耗もし
くは破壊が起つてはならない。
大きな問題として腐食及び摩耗に対する強度、走行安定
性がある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生及び消
去の過程において磁気ヘツドと高速相対運動のもとにお
かれるが、その際走行がスムーズにしかも安定に行なわ
れねばならぬし、同時にヘツドとの接触による摩耗もし
くは破壊が起つてはならない。
上記の問題の改良のために強磁性金属薄膜に保護層を設
けることが提案されており、例えば米国特許第3,516,86
0号、同4,245,008号にはRh等の金属保護層、また米国特
許第4,087,582号、同4,152,469号、同4,333,985号、同
4,389,441号、同4,391,874号、同4,404,247号、同4,41
9,404号、同4,425,404号、同4,443,514号、同4,448,843
号には有機潤滑剤等の有機物保護層が開示されている。
けることが提案されており、例えば米国特許第3,516,86
0号、同4,245,008号にはRh等の金属保護層、また米国特
許第4,087,582号、同4,152,469号、同4,333,985号、同
4,389,441号、同4,391,874号、同4,404,247号、同4,41
9,404号、同4,425,404号、同4,443,514号、同4,448,843
号には有機潤滑剤等の有機物保護層が開示されている。
特に当出願人の出願による米国特許第4,390,601号、特
開昭56−7235号には保護層として有機材料を強磁性金属
薄膜上に蒸着せしめる方法が開示されているが、これら
の方法では走行性が十分ではなく、低湿度環境下での金
属膜型磁気記録媒体の走行性の改良が強く望まれてい
た。
開昭56−7235号には保護層として有機材料を強磁性金属
薄膜上に蒸着せしめる方法が開示されているが、これら
の方法では走行性が十分ではなく、低湿度環境下での金
属膜型磁気記録媒体の走行性の改良が強く望まれてい
た。
本発明の目的は、上記の欠点の改良された磁気記録媒
体、すなわち低湿度環境下において走行性にすぐれる磁
気記録媒体を製造する方法を提供することにある。
体、すなわち低湿度環境下において走行性にすぐれる磁
気記録媒体を製造する方法を提供することにある。
本発明は、非磁性支持体上に設けられた強磁性金属薄膜
の表面上に有機物滑剤を真空蒸着させると同時に該表面
にイオンビームを照射せしめて有機物滑剤層を形成せし
めることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法、に関す
る。
の表面上に有機物滑剤を真空蒸着させると同時に該表面
にイオンビームを照射せしめて有機物滑剤層を形成せし
めることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法、に関す
る。
本発明に用いられる有機物滑剤としては室温における蒸
気圧が５×10-5Torr以下の単量体である。例えば、パラ
フイン系炭化水素、高級脂肪酸、オキシ脂肪酸、脂肪酸
アミド、脂肪酸エステル、脂肪族アルコール、金属石け
ん等である。パラフイン系炭化水素としては天然パラフ
イン、マイクロワツクス等、高級脂肪酸としてはラウリ
ン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベ
ヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキ
ドン酸等、オキシ脂肪酸としてはオキシステアリン酸、
ラノパルミチン酸等、脂肪酸アミドとしてはラウリン酸
アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ス
テアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミ
ド、リノール酸アミド、エシル酸アミド、メチレンビス
ステアロアミド、エチレンビスステアロアミド、硬化牛
脂アミド等がある。脂肪酸エステルとしては、ステアリ
ン酸メチル、パルミチン酸セチル、ステアリン酸モノグ
リセリド等、脂肪族アルコールとしてはセチルアルコー
ル、ステアリルアルコール等があり、金属石けんとして
は炭素数12〜30の脂肪酸と種々の金属とから得られる化
合物であり、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール
酸、リノレン酸、アラキドン酸等の亜鉛、銅、マグネシ
ウム、ニツケル、鉄、アルミニウム、鉛、クロム、カル
シウム、ナトリウム、カリウム、バリウム、カドミウ
ム、ストロンチウム等の塩である。
気圧が５×10-5Torr以下の単量体である。例えば、パラ
フイン系炭化水素、高級脂肪酸、オキシ脂肪酸、脂肪酸
アミド、脂肪酸エステル、脂肪族アルコール、金属石け
ん等である。パラフイン系炭化水素としては天然パラフ
イン、マイクロワツクス等、高級脂肪酸としてはラウリ
ン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベ
ヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキ
ドン酸等、オキシ脂肪酸としてはオキシステアリン酸、
ラノパルミチン酸等、脂肪酸アミドとしてはラウリン酸
アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ス
テアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、オレイン酸アミ
ド、リノール酸アミド、エシル酸アミド、メチレンビス
ステアロアミド、エチレンビスステアロアミド、硬化牛
脂アミド等がある。脂肪酸エステルとしては、ステアリ
ン酸メチル、パルミチン酸セチル、ステアリン酸モノグ
リセリド等、脂肪族アルコールとしてはセチルアルコー
ル、ステアリルアルコール等があり、金属石けんとして
は炭素数12〜30の脂肪酸と種々の金属とから得られる化
合物であり、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール
酸、リノレン酸、アラキドン酸等の亜鉛、銅、マグネシ
ウム、ニツケル、鉄、アルミニウム、鉛、クロム、カル
シウム、ナトリウム、カリウム、バリウム、カドミウ
ム、ストロンチウム等の塩である。
これらの有機物滑剤は単独で蒸着しても良いし、２種以
上積層して蒸着したり、あるいは同時蒸着による混合層
を形成せしめてもいい。有機物滑剤の蒸着量は、一般に
は0.5〜50mg/m2、好ましくは1.0〜30mg/m2である。
上積層して蒸着したり、あるいは同時蒸着による混合層
を形成せしめてもいい。有機物滑剤の蒸着量は、一般に
は0.5〜50mg/m2、好ましくは1.0〜30mg/m2である。
本発明においては、有機物滑剤の蒸着と同時に、蒸着の
行なわれている部分にイオンビームを照射せしめる。イ
オンビームとしてはHe、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn等の希ガ
ス、あるいは酸素、窒素、弗素、ボロン等のイオンが使
用される。イオンの照射量は有機物滑剤の蒸着速度に依
存するのであるが、一般には1013〜1018個/cm2・秒のイ
オン粒子を照射するのが実用上好適である。
行なわれている部分にイオンビームを照射せしめる。イ
オンビームとしてはHe、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn等の希ガ
ス、あるいは酸素、窒素、弗素、ボロン等のイオンが使
用される。イオンの照射量は有機物滑剤の蒸着速度に依
存するのであるが、一般には1013〜1018個/cm2・秒のイ
オン粒子を照射するのが実用上好適である。
本発明における強磁性金属薄膜としては、鉄、コバル
ト、ニツケルその他の強磁性金属、あるいはFe−Co、Fe
−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Rh、Co−Ｐ、Co−Ｂ、
Co−Cu、Co−Zn、Co−Ｙ、Co−La、Co−Ce、Co−Pr、Co
−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Co−Mn、Fe−Gd、Fe−Tb、Fe−
Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni−Co−Cr、Fe−Ni
−Cr、Fe−Co−Ni−Cr、Co−Ni−Nd、Co−Ni−Ce、Co−
Ni−Zn、Co−Ni−Cu、Co−Ni−Ｗ、Co−Ni−Re等の強磁
性合金を電気メツキ、無電解メツキ、ベーパーデポジシ
ヨン法等の方法によつて薄膜状に形成したもので、その
膜厚としては磁気記録媒体として使用する場合0.02〜２
μｍの範囲であり、特に0.05〜0.4μｍの範囲が望まし
い。上記の強磁性金属薄膜は他にＯ、Ｎ、Ｃ、Ga、As、
Sr、Zr、Nb、Mo、Sn、Sb、Te、Os、Ir、Au、Ag、Pb、Bi
等を含有しても良い。ベーパーデポジシヨン法とは気体
あるいは真空空間中において物質を蒸気あるいはイオン
化した蒸気とし、これを基体上に付着形成させる方法を
いい、真空蒸着法、スパツタリング法、イオンプレーテ
ング法、イオンビームデポジシヨン法、化学気相メツキ
法などがある。
ト、ニツケルその他の強磁性金属、あるいはFe−Co、Fe
−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Rh、Co−Ｐ、Co−Ｂ、
Co−Cu、Co−Zn、Co−Ｙ、Co−La、Co−Ce、Co−Pr、Co
−Gd、Co−Sm、Co−Pt、Co−Mn、Fe−Gd、Fe−Tb、Fe−
Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni−Co−Cr、Fe−Ni
−Cr、Fe−Co−Ni−Cr、Co−Ni−Nd、Co−Ni−Ce、Co−
Ni−Zn、Co−Ni−Cu、Co−Ni−Ｗ、Co−Ni−Re等の強磁
性合金を電気メツキ、無電解メツキ、ベーパーデポジシ
ヨン法等の方法によつて薄膜状に形成したもので、その
膜厚としては磁気記録媒体として使用する場合0.02〜２
μｍの範囲であり、特に0.05〜0.4μｍの範囲が望まし
い。上記の強磁性金属薄膜は他にＯ、Ｎ、Ｃ、Ga、As、
Sr、Zr、Nb、Mo、Sn、Sb、Te、Os、Ir、Au、Ag、Pb、Bi
等を含有しても良い。ベーパーデポジシヨン法とは気体
あるいは真空空間中において物質を蒸気あるいはイオン
化した蒸気とし、これを基体上に付着形成させる方法を
いい、真空蒸着法、スパツタリング法、イオンプレーテ
ング法、イオンビームデポジシヨン法、化学気相メツキ
法などがある。
本発明に用いられる非磁性支持体は、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニ
ル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリフエニレンサルフアイド等のプラ
スチツクベース、またはAl、Tiおよびこれらの合金、ス
テンレス鋼等である。
フタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニ
ル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエチレ
ンナフタレート、ポリフエニレンサルフアイド等のプラ
スチツクベース、またはAl、Tiおよびこれらの合金、ス
テンレス鋼等である。
次に実施例をもつて本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
実施例 １ 第１図の本発明による磁気記録媒体の製造方法を実施す
るための装置を用いて磁気テープを作製した。
るための装置を用いて磁気テープを作製した。
真空槽11は隔壁12、13により上部の送出し巻取り室14、
第１蒸着室15および第２蒸着室16に区分されており、そ
れぞれ真空排気口17,18,19により独立に真空排気される
ようになつている。テープ状非磁性支持体20は送出しロ
ール21から回転キヤン22、ガイドローラー23そして回転
キヤン24を経て搬送され巻取りロール25に巻取られるよ
うになつている。回転キヤン22の下方には蒸発源ルツボ
26が配設されており、磁性材料27が電子銃28からの電子
ビーム29の照射により加熱され蒸発される。磁性材料の
蒸気流30は回転キヤン22の表面に沿つて移動するテープ
状非磁性支持体20の表面に到達し強磁性薄膜として折出
する。回転キヤン22の近傍にはマスク31が設置されてお
り蒸気流30がテープ状非磁性支持体20に対して斜めに入
射するようになつている。こうして得られる強磁性薄膜
は膜面に平行な方向に磁化して記録する従来からの水平
磁化記録媒体に適した磁気特性を有している。次に強磁
性薄膜の形成されたテープ状非磁性基体20が回転キヤン
24に沿つて移動する時、蒸発源32から蒸発せしめられた
有機物滑剤33が強磁性薄膜の表面上に蒸着される。蒸着
と同時にイオン銃34からのイオンビーム35が磁性薄膜表
面に照射されるようになつている。この装置においてテ
ープ状非磁性媒体として12.5μｍ厚のポリエチレンテレ
フタレートフイルムを使用し、CoCr（Cr15重量％）の強
磁性薄膜を形成したのち、Heイオンビームを照射させつ
つベベン酸の有機蒸着膜を形成せしめた。CoCr強磁性薄
膜の膜厚は2200Åとし、ベヘン酸は毎秒あたり1.0mg/m2
の付着速度で8mg/m2蒸着せしめた。HeイオンビームはHe
イオン粒子が６×1014個/cm2・秒照射されるようにし
た。このようにして得られた磁気テープをサンプルＡと
し、比較のためにHeイオンビームを照射せずに作製した
磁気テープをサンプルＢとした。サンプルＡおよびＢの
磁気テープにつき、低湿度環境下での走行性および繰返
し走行での出力低下を次のように測定した。25℃、15％
相対湿度下でVHS型VTRにて磁気テープを走行させた時の
回転ドラム出力でのテープ張力（T2）および回転ドラム
入口でのテープ張力（T1）の比（T2/T1）を測定すると
共に同一条件下で磁気テープを50回走行させた時の5MHZ
信号の出力低下を測定した。その結果次表のようであつ
た。
第１蒸着室15および第２蒸着室16に区分されており、そ
れぞれ真空排気口17,18,19により独立に真空排気される
ようになつている。テープ状非磁性支持体20は送出しロ
ール21から回転キヤン22、ガイドローラー23そして回転
キヤン24を経て搬送され巻取りロール25に巻取られるよ
うになつている。回転キヤン22の下方には蒸発源ルツボ
26が配設されており、磁性材料27が電子銃28からの電子
ビーム29の照射により加熱され蒸発される。磁性材料の
蒸気流30は回転キヤン22の表面に沿つて移動するテープ
状非磁性支持体20の表面に到達し強磁性薄膜として折出
する。回転キヤン22の近傍にはマスク31が設置されてお
り蒸気流30がテープ状非磁性支持体20に対して斜めに入
射するようになつている。こうして得られる強磁性薄膜
は膜面に平行な方向に磁化して記録する従来からの水平
磁化記録媒体に適した磁気特性を有している。次に強磁
性薄膜の形成されたテープ状非磁性基体20が回転キヤン
24に沿つて移動する時、蒸発源32から蒸発せしめられた
有機物滑剤33が強磁性薄膜の表面上に蒸着される。蒸着
と同時にイオン銃34からのイオンビーム35が磁性薄膜表
面に照射されるようになつている。この装置においてテ
ープ状非磁性媒体として12.5μｍ厚のポリエチレンテレ
フタレートフイルムを使用し、CoCr（Cr15重量％）の強
磁性薄膜を形成したのち、Heイオンビームを照射させつ
つベベン酸の有機蒸着膜を形成せしめた。CoCr強磁性薄
膜の膜厚は2200Åとし、ベヘン酸は毎秒あたり1.0mg/m2
の付着速度で8mg/m2蒸着せしめた。HeイオンビームはHe
イオン粒子が６×1014個/cm2・秒照射されるようにし
た。このようにして得られた磁気テープをサンプルＡと
し、比較のためにHeイオンビームを照射せずに作製した
磁気テープをサンプルＢとした。サンプルＡおよびＢの
磁気テープにつき、低湿度環境下での走行性および繰返
し走行での出力低下を次のように測定した。25℃、15％
相対湿度下でVHS型VTRにて磁気テープを走行させた時の
回転ドラム出力でのテープ張力（T2）および回転ドラム
入口でのテープ張力（T1）の比（T2/T1）を測定すると
共に同一条件下で磁気テープを50回走行させた時の5MHZ
信号の出力低下を測定した。その結果次表のようであつ
た。
実施例 ２ 第１図に示した装置を用い9.5μｍ厚のポリエチレンテ
レフタレートフイルム上に斜方入射蒸着法によりCoNi
（Ni20重量％）の強磁性薄膜を形成した後Arイオンビー
ムを照射させつつステアリン酸アミドを蒸着し磁気テー
プを作製した。この際CoNi薄膜の膜厚は1500Åとし、ス
テアリン酸アミドは毎秒0.5mg/m2の付着速度で12mg/m2
蒸着せしめた。ArイオンビームはArイオン粒子が２×10
15個/cm2・秒照射されるようにした。こうして得られた
サンプルをＣとし、比較のためにArイオンビームを照射
せずに有機滑剤を蒸着したサンプルをＤとした。これら
のサンプルにつき実施例１と同様にして低湿度環境下で
の走行性および繰返し走行での出力低下を測定したとこ
ろ次表のようであつた。
レフタレートフイルム上に斜方入射蒸着法によりCoNi
（Ni20重量％）の強磁性薄膜を形成した後Arイオンビー
ムを照射させつつステアリン酸アミドを蒸着し磁気テー
プを作製した。この際CoNi薄膜の膜厚は1500Åとし、ス
テアリン酸アミドは毎秒0.5mg/m2の付着速度で12mg/m2
蒸着せしめた。ArイオンビームはArイオン粒子が２×10
15個/cm2・秒照射されるようにした。こうして得られた
サンプルをＣとし、比較のためにArイオンビームを照射
せずに有機滑剤を蒸着したサンプルをＤとした。これら
のサンプルにつき実施例１と同様にして低湿度環境下で
の走行性および繰返し走行での出力低下を測定したとこ
ろ次表のようであつた。
比較例 １ 実施例１において、第１図の装置のイオン銃34と蒸発源
32の間に隔壁を設けてイオンビーム35と有機物滑剤33の
蒸気流が混合しないようにして、イオンビーム35が磁性
薄膜表面に照射される位置をずらして、有機物滑剤33が
強磁性薄膜表面に蒸着された後に、イオンビーム35が照
射されるようにした以外は実施例１と同一の方法で磁気
テープのサンプルA1を作成した。
32の間に隔壁を設けてイオンビーム35と有機物滑剤33の
蒸気流が混合しないようにして、イオンビーム35が磁性
薄膜表面に照射される位置をずらして、有機物滑剤33が
強磁性薄膜表面に蒸着された後に、イオンビーム35が照
射されるようにした以外は実施例１と同一の方法で磁気
テープのサンプルA1を作成した。
比較例２ 実施例２において、比較例１と同様に有機物滑剤33が強
磁性薄膜表面に蒸着された後に、イオンビーム35が照射
されるようにした以外は実施例２と同一の方法で磁気テ
ープのサンプルC1を作成した。
磁性薄膜表面に蒸着された後に、イオンビーム35が照射
されるようにした以外は実施例２と同一の方法で磁気テ
ープのサンプルC1を作成した。
以上のようにして得られたサンプルA1及びB1の低湿度環
境下での走行性及び繰り返し走行での出力低下を測定し
たところ以下の表のような結果であった。
境下での走行性及び繰り返し走行での出力低下を測定し
たところ以下の表のような結果であった。
強磁性薄膜表面上に有機物滑剤を蒸着した後にイオンビ
ームを照射したのでは低湿度環境下での走行性も繰り返
し走行での出力低下も有機物の蒸着時にイオンビーム照
射を同時に行う場合に比べて優れたものにすることがで
きないことが分かった。
ームを照射したのでは低湿度環境下での走行性も繰り返
し走行での出力低下も有機物の蒸着時にイオンビーム照
射を同時に行う場合に比べて優れたものにすることがで
きないことが分かった。
実施例 ３ 連続メツキ装置により15μｍ厚のポリエチレンテレフタ
レートフイルム上に下記のようなメツキ液、メツキ条件
でCo−Ｐ（Co:98％、P:2％）の強磁性薄膜を2600Å厚と
なるように無電解メツキした。無電解メツキの前処理液
としては日本カニゼン（株）のシユーマー・センシタイ
ザー及びシユーマー・アクチベーターを使用した。
レートフイルム上に下記のようなメツキ液、メツキ条件
でCo−Ｐ（Co:98％、P:2％）の強磁性薄膜を2600Å厚と
なるように無電解メツキした。無電解メツキの前処理液
としては日本カニゼン（株）のシユーマー・センシタイ
ザー及びシユーマー・アクチベーターを使用した。
〔メツキ条件〕pH7.5、液温85℃ さらにCo−Ｐ無電解メツキ磁性膜上に第１図に示した装
置を用いてミリスチン酸の蒸着膜を形成した。ミリスチ
ン酸は毎秒0.08mg/m2の付着速度で20mg/m2蒸着し、その
際窒素イオンを３×1013個/cm2・秒照射した。こうして
得られたサンプルをＥとし、比較のために窒素イオンビ
ームを照射せずにミリスチン酸を蒸着したサンプルをＦ
とした。これらのサンプルにつき実施例１と同様にして
低湿度環境下での走行性および繰返し走行での出力低下
を測定したところ次表のようであつた。
置を用いてミリスチン酸の蒸着膜を形成した。ミリスチ
ン酸は毎秒0.08mg/m2の付着速度で20mg/m2蒸着し、その
際窒素イオンを３×1013個/cm2・秒照射した。こうして
得られたサンプルをＥとし、比較のために窒素イオンビ
ームを照射せずにミリスチン酸を蒸着したサンプルをＦ
とした。これらのサンプルにつき実施例１と同様にして
低湿度環境下での走行性および繰返し走行での出力低下
を測定したところ次表のようであつた。
上の実施例から明らかなように強磁性金属薄膜表面上に
イオンビームを照射せしめつつ有機物滑剤を真空蒸着し
て得られる磁気記録媒体は低湿度環境下での走行性およ
び繰返し走行での出力低下にすぐれたものである。
イオンビームを照射せしめつつ有機物滑剤を真空蒸着し
て得られる磁気記録媒体は低湿度環境下での走行性およ
び繰返し走行での出力低下にすぐれたものである。
このように本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば低
湿の環境下におけるVTRでの走行性および繰返し走行で
の出力低下の改良された金属薄膜型磁気記録媒体が得ら
れるもので、本方法による金属薄膜型磁気記録媒体の実
用上のメリツトは大である。
湿の環境下におけるVTRでの走行性および繰返し走行で
の出力低下の改良された金属薄膜型磁気記録媒体が得ら
れるもので、本方法による金属薄膜型磁気記録媒体の実
用上のメリツトは大である。
第１図は本発明による磁気記録媒体の製法を実施するた
めの装置の一例を概略的に示している。 11:真空槽、12、13:隔壁 14:送出し巻取り室、15、16:蒸着室 17、18、19:真空排気口 20:テープ状非磁性支持体 21:送出しロール、22、24:回転キヤン 23:ガイドローラー、25:巻取りロール 26:蒸発源ルツボ、27:磁性材料 28:電子銃、29:電子ビーム 30:磁性材料蒸気流、31:マスク 32:蒸発源、33:有機物滑剤 34:イオン銃
めの装置の一例を概略的に示している。 11:真空槽、12、13:隔壁 14:送出し巻取り室、15、16:蒸着室 17、18、19:真空排気口 20:テープ状非磁性支持体 21:送出しロール、22、24:回転キヤン 23:ガイドローラー、25:巻取りロール 26:蒸発源ルツボ、27:磁性材料 28:電子銃、29:電子ビーム 30:磁性材料蒸気流、31:マスク 32:蒸発源、33:有機物滑剤 34:イオン銃
Claims (1)
- 【請求項１】非磁性支持体上に設けられた強磁性金属薄
膜の表面上に有機物滑剤を真空蒸着させると同時にイオ
ンビームを照射せしめて単量体である有機物滑剤層を形
成せしめることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60101079A JPH0685211B2 (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60101079A JPH0685211B2 (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61258333A JPS61258333A (ja) | 1986-11-15 |
| JPH0685211B2 true JPH0685211B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=14291092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60101079A Expired - Lifetime JPH0685211B2 (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0685211B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63121120A (ja) * | 1986-11-10 | 1988-05-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JP2661208B2 (ja) * | 1988-11-07 | 1997-10-08 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| DE4207525C2 (de) * | 1992-03-10 | 1999-12-16 | Leybold Ag | Hochvakuum-Beschichtungsanlage |
| EP1155818B1 (en) * | 1999-12-22 | 2007-03-07 | Toray Industries, Inc. | Multilayered film and process for producing the same |
| JP2006028273A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化水素系有機薄膜からなる潤滑剤及び潤滑方法 |
| JP2015081365A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 成膜装置、成膜方法、成膜材料の除去方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS567235A (en) * | 1979-07-02 | 1981-01-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its production |
| JPS595420A (ja) * | 1982-07-02 | 1984-01-12 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-05-13 JP JP60101079A patent/JPH0685211B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61258333A (ja) | 1986-11-15 |
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Legal Events
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