JPH061550B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH061550B2 JPH061550B2 JP7983584A JP7983584A JPH061550B2 JP H061550 B2 JPH061550 B2 JP H061550B2 JP 7983584 A JP7983584 A JP 7983584A JP 7983584 A JP7983584 A JP 7983584A JP H061550 B2 JPH061550 B2 JP H061550B2
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- vapor deposition
- film
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
- C23C14/226—Oblique incidence of vaporised material on substrate in order to form films with columnar structure
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は非磁性支持体上に磁気記録層として斜方入射蒸
着法による強磁性金属薄膜を設けてなる磁気記録媒体の
製造方法に関し、とくに繰返し走行後の耐候性が改良さ
れた磁気記録媒体の製造方法に関する。
着法による強磁性金属薄膜を設けてなる磁気記録媒体の
製造方法に関し、とくに繰返し走行後の耐候性が改良さ
れた磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来より磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にγ−
Ｆｅ２Ｏ３，Ｃｏをドープしたγ-Fe2O3、Ｆｅ３Ｏ４、
ＣｏをドープしたＦｅ３Ｏ４、γ−Ｆｅ２Ｏ３とＦｅ３
Ｏ４のベルトライド化合物、ＣｒＯ２等の磁性粉末ある
いは強磁性合金粉末等を粉末磁性材料を塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バインダー中に
分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型のものが広
く使用されてきている。近年高密度記録への要求の高ま
りと共に真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティ
ング等のベーパーデポジション法あるいは電気メッキ、
無電解メッキ等のメッキ法により形成される強磁性金属
薄膜を磁気記録層とする、バインダーを使用しない、い
わゆる非バインダー型磁気記録媒体が注目を浴びており
実用化への努力が種々行なわれている。
Ｆｅ２Ｏ３，Ｃｏをドープしたγ-Fe2O3、Ｆｅ３Ｏ４、
ＣｏをドープしたＦｅ３Ｏ４、γ−Ｆｅ２Ｏ３とＦｅ３
Ｏ４のベルトライド化合物、ＣｒＯ２等の磁性粉末ある
いは強磁性合金粉末等を粉末磁性材料を塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機バインダー中に
分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型のものが広
く使用されてきている。近年高密度記録への要求の高ま
りと共に真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティ
ング等のベーパーデポジション法あるいは電気メッキ、
無電解メッキ等のメッキ法により形成される強磁性金属
薄膜を磁気記録層とする、バインダーを使用しない、い
わゆる非バインダー型磁気記録媒体が注目を浴びており
実用化への努力が種々行なわれている。
従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきており、かつその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。非バインダー型
の磁気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁化を有
する強磁性金属をバインダーのごとき非磁性物質を含有
しない状態で薄膜として形成せしめるため、高密度記録
化のために超薄形にできるという利点を有し、しかもそ
の製造工程はより簡略化される。
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきており、かつその製造工程も
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。非バインダー型
の磁気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁化を有
する強磁性金属をバインダーのごとき非磁性物質を含有
しない状態で薄膜として形成せしめるため、高密度記録
化のために超薄形にできるという利点を有し、しかもそ
の製造工程はより簡略化される。
高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
して、高抗磁力化、薄層化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
層化が容易で、飽和磁束密度も大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい。
して、高抗磁力化、薄層化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
層化が容易で、飽和磁束密度も大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい。
とくに真空蒸着による方法はメッキの場合のような排液
処理を必要とせず製造工程も簡単で膜の析出速度も大き
くできるため非常にメリットが大きい。真空蒸着によっ
て磁気記録媒体に望ましい抗磁力および角型化を有する
磁性膜を製造する方法としては、米国特許３３４２６３
２号、同３３４２６３３号等に述べられている斜め蒸着
法が知られている。
処理を必要とせず製造工程も簡単で膜の析出速度も大き
くできるため非常にメリットが大きい。真空蒸着によっ
て磁気記録媒体に望ましい抗磁力および角型化を有する
磁性膜を製造する方法としては、米国特許３３４２６３
２号、同３３４２６３３号等に述べられている斜め蒸着
法が知られている。
さらに強磁性金属薄膜から成る磁気記録媒体にかかわる
大きな問題として腐蝕及び摩耗に対する強度、走行安定
性がある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生及び消
去の過程において磁気ヘッドと高速相対運動のもとにお
かれるが、その際走行がスムーズにしかも安定に行なわ
れねばならぬし、同時にヘッドとの接触による摩耗もし
くは破壊が起ってはならない。又磁性記録媒体の保存中
に腐蝕等による経時変化によって記録された信号の減少
あるいは消失があってはならないことも要求される。耐
久性、耐候性を向上させる方法として保護層を設けるこ
とが検討されている。
大きな問題として腐蝕及び摩耗に対する強度、走行安定
性がある。磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生及び消
去の過程において磁気ヘッドと高速相対運動のもとにお
かれるが、その際走行がスムーズにしかも安定に行なわ
れねばならぬし、同時にヘッドとの接触による摩耗もし
くは破壊が起ってはならない。又磁性記録媒体の保存中
に腐蝕等による経時変化によって記録された信号の減少
あるいは消失があってはならないことも要求される。耐
久性、耐候性を向上させる方法として保護層を設けるこ
とが検討されている。
保護層を設けて金属薄膜型磁気記録媒体の特性を改良す
る方法としてたとえば有機物層を設けることが米国特許
３４６６１５６号、同４０６９３６０号、同４１５２４
８７号、同４１５２４６９号、同４３３３９８５号、西
独国特許公開２９２９８４７号、同３０２４９１８号に
より知られており、又Ｒｈ等の金属層を設けることが米
国特許３５１６８６０号、同４２４５００８号により知
られている。さらに耐久性、耐候性を改良するために、
Ｃｒを適度な真空中にて強磁性金属薄膜表面上に蒸着せ
しめ、ＣｒとＣｒの酸化物の混合物層を形成せしめる方
法（特公昭４５−４３９３号）あるいはＣｒ層およびＳ
ｉとＳｉ酸化物層の積層保護層を設ける方法（特公昭５
８−３７６１５号）が知られている。しかしながら従来
の保護膜では耐錆性が十分とは言えず実用上はさらに改
善を必要としていた。とくに磁気テープとしてＶＴＲ等
にて繰返し走行させた後での磁気テープの耐候性につい
ては大きな欠点を有していた。
る方法としてたとえば有機物層を設けることが米国特許
３４６６１５６号、同４０６９３６０号、同４１５２４
８７号、同４１５２４６９号、同４３３３９８５号、西
独国特許公開２９２９８４７号、同３０２４９１８号に
より知られており、又Ｒｈ等の金属層を設けることが米
国特許３５１６８６０号、同４２４５００８号により知
られている。さらに耐久性、耐候性を改良するために、
Ｃｒを適度な真空中にて強磁性金属薄膜表面上に蒸着せ
しめ、ＣｒとＣｒの酸化物の混合物層を形成せしめる方
法（特公昭４５−４３９３号）あるいはＣｒ層およびＳ
ｉとＳｉ酸化物層の積層保護層を設ける方法（特公昭５
８−３７６１５号）が知られている。しかしながら従来
の保護膜では耐錆性が十分とは言えず実用上はさらに改
善を必要としていた。とくに磁気テープとしてＶＴＲ等
にて繰返し走行させた後での磁気テープの耐候性につい
ては大きな欠点を有していた。
本発明の目的は、すぐれた耐候性、とくにＶＴＲ等デッ
キでの繰返し走行後の耐候性にすぐれる保護膜を有する
磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
キでの繰返し走行後の耐候性にすぐれる保護膜を有する
磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
本発明は、蒸発源から蒸発せしめられた金属材料の蒸気
流を移動する基体に対して、該蒸気流の入射角を高入射
角から低入射角へと連続的に変化させることにより彎曲
した傾斜柱状構造を成す磁性金属蒸着膜を形成し、次い
で該磁性金属蒸着膜上に、該基体に対するＣｒ，Ｔｉ，
Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｌから選ばれる少なくとも１種の非磁性
金属材料の蒸気流の入射角を低入射角から高入射角へ連
続的に変化させて非磁性金属蒸着膜を形成させる磁気記
録媒体の製造方法である。さらに非磁性金属材料として
Ｃｒ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｌから選ばれる少なくとも
１種を使用することを特徴とする上記磁気記録媒体の製
造方法に関する。
流を移動する基体に対して、該蒸気流の入射角を高入射
角から低入射角へと連続的に変化させることにより彎曲
した傾斜柱状構造を成す磁性金属蒸着膜を形成し、次い
で該磁性金属蒸着膜上に、該基体に対するＣｒ，Ｔｉ，
Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｌから選ばれる少なくとも１種の非磁性
金属材料の蒸気流の入射角を低入射角から高入射角へ連
続的に変化させて非磁性金属蒸着膜を形成させる磁気記
録媒体の製造方法である。さらに非磁性金属材料として
Ｃｒ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｌから選ばれる少なくとも
１種を使用することを特徴とする上記磁気記録媒体の製
造方法に関する。
本発明において斜方入射蒸着法とは基体表面の法線に対
し膜形成金属材料の蒸気流をある入射角θで入射させ基
体表面上に蒸着薄膜を析出させる方法である。本発明に
おいては斜方入射蒸着法により磁性薄膜を形成せしめる
際、入射角θmaxにて斜方入射蒸着を開始し、基体の移
動と共に入射角θを連続的に減少させるように変化させ
て入射角θminにて磁性薄膜の析出を停止させるもので
ある。こうして形成された磁性薄膜上に、さらに入射角
θmin′から始まって入射角θを連続的に増加させ入射
角θmax′まで変化させて非磁性金属材料、とくにＣ
ｒ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｌより選ばれる少なくとも１
種の非磁性金属材料を保護膜として形成させるものであ
る。本発明において入射角θは２５°〜９０°が好まし
く、とくにθmax、θmax′は５０°〜９０°、θmin、
θmin′は２５°〜７５°が好ましい。
し膜形成金属材料の蒸気流をある入射角θで入射させ基
体表面上に蒸着薄膜を析出させる方法である。本発明に
おいては斜方入射蒸着法により磁性薄膜を形成せしめる
際、入射角θmaxにて斜方入射蒸着を開始し、基体の移
動と共に入射角θを連続的に減少させるように変化させ
て入射角θminにて磁性薄膜の析出を停止させるもので
ある。こうして形成された磁性薄膜上に、さらに入射角
θmin′から始まって入射角θを連続的に増加させ入射
角θmax′まで変化させて非磁性金属材料、とくにＣ
ｒ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｌより選ばれる少なくとも１
種の非磁性金属材料を保護膜として形成させるものであ
る。本発明において入射角θは２５°〜９０°が好まし
く、とくにθmax、θmax′は５０°〜９０°、θmin、
θmin′は２５°〜７５°が好ましい。
第１図は本発明による磁気記録媒体を示している。支持
体１上に磁性金属蒸着膜２が設けられており、さらにそ
の上に非磁性金属蒸着膜３が形成されている。磁性金属
蒸着膜２の作成にあたっては支持体１を矢印Ａに搬送さ
せつつ支持体１面への入射角をθmaxからθminへと連続
的に変化させることにより彎曲した傾斜柱状構造を有す
る磁性膜が得られる。磁性金属蒸着膜２の膜厚は磁気記
録媒体として充分な出力を与え得る厚さおよび高密度記
録の充分行える薄さを必要とすることから約０．０２μ
mから５．０μm、好ましくは０．０５μmから２．０μm
である。非磁性金属蒸着膜３の形成にあたっては、支持
体１を搬送させつつ支持体１面への蒸気流の入射角がθ
min′からθmax′へと連続的に変化するようにしてＣ
ｒ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｌから選ばれる少なくとも１
種の非磁性金属材料を蒸着膜として形成せしめる。非磁
性金属蒸着膜３の厚さは充分な保護作用の得られるこ
と、磁性金属蒸着膜２面と磁気ヘッドとの間隙によるス
ペーシングロスにより出力の低下しないことなどの条件
により約０．００５〜０．１μm、好ましくは０．００
５〜０．０２μmの範囲である。
体１上に磁性金属蒸着膜２が設けられており、さらにそ
の上に非磁性金属蒸着膜３が形成されている。磁性金属
蒸着膜２の作成にあたっては支持体１を矢印Ａに搬送さ
せつつ支持体１面への入射角をθmaxからθminへと連続
的に変化させることにより彎曲した傾斜柱状構造を有す
る磁性膜が得られる。磁性金属蒸着膜２の膜厚は磁気記
録媒体として充分な出力を与え得る厚さおよび高密度記
録の充分行える薄さを必要とすることから約０．０２μ
mから５．０μm、好ましくは０．０５μmから２．０μm
である。非磁性金属蒸着膜３の形成にあたっては、支持
体１を搬送させつつ支持体１面への蒸気流の入射角がθ
min′からθmax′へと連続的に変化するようにしてＣ
ｒ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｌから選ばれる少なくとも１
種の非磁性金属材料を蒸着膜として形成せしめる。非磁
性金属蒸着膜３の厚さは充分な保護作用の得られるこ
と、磁性金属蒸着膜２面と磁気ヘッドとの間隙によるス
ペーシングロスにより出力の低下しないことなどの条件
により約０．００５〜０．１μm、好ましくは０．００
５〜０．０２μmの範囲である。
本発明に用いられる磁性金属材料としては、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ等の金属、あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、
Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃ
ｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、
Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎ
ｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ
−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、
Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性
合金である。特に好ましいのはＣｏあるいはＣｏを７０
重量％以上含有するような合金である。磁性金属蒸着薄
膜形成を酸素のような反応性ガスを含む雰囲気中で行な
ってもいい。
ｏ、Ｎｉ等の金属、あるいはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、
Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｒｈ、Ｆｅ−Ｃ
ｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、
Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎ
ｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ
−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、
Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の強磁性
合金である。特に好ましいのはＣｏあるいはＣｏを７０
重量％以上含有するような合金である。磁性金属蒸着薄
膜形成を酸素のような反応性ガスを含む雰囲気中で行な
ってもいい。
本発明における蒸着とは、上記米国特許第３３４２６３
２号の明細書等に述べられている通常の真空蒸着の他、
電界、磁界あるいは電子ビーム照射等により蒸気流のイ
オン化、加速化等を行って蒸発分子の平均自由行程の大
きい雰囲気にて支持基体上に薄膜を形成させる方法をも
含むものであって、例えば特開昭５１−１４９００８号
明細書に示されているような電界蒸着法、特公昭４３−
１１５２５号、特公昭４６−２０４８４号、特公昭４７
−２６５７９号、特公昭４９−４５４３９号、特開昭４
９−３３８９０号、特開昭４９−３４４８３号、特開昭
４９−５３５号公報に示されているようなイオン化蒸着
法も本発明に用いられる。
２号の明細書等に述べられている通常の真空蒸着の他、
電界、磁界あるいは電子ビーム照射等により蒸気流のイ
オン化、加速化等を行って蒸発分子の平均自由行程の大
きい雰囲気にて支持基体上に薄膜を形成させる方法をも
含むものであって、例えば特開昭５１−１４９００８号
明細書に示されているような電界蒸着法、特公昭４３−
１１５２５号、特公昭４６−２０４８４号、特公昭４７
−２６５７９号、特公昭４９−４５４３９号、特開昭４
９−３３８９０号、特開昭４９−３４４８３号、特開昭
４９−５３５号公報に示されているようなイオン化蒸着
法も本発明に用いられる。
本発明に用いられる基体としてはポリエチレンテレフタ
レート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三
酢酸セルロース、ポリカボネート、ポリエチレンナフタ
レートのようなプラスチックベースが好ましい。
レート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三
酢酸セルロース、ポリカボネート、ポリエチレンナフタ
レートのようなプラスチックベースが好ましい。
本発明の磁気記録媒体の製造方法においては、必要に応
じ潤滑剤層あるいは支持体裏面にいわゆるバック層を設
けてもよい。
じ潤滑剤層あるいは支持体裏面にいわゆるバック層を設
けてもよい。
また、磁性金属蒸着膜と支持体との間に有機あるいは無
機物からなる層を設けてもよい。
機物からなる層を設けてもよい。
以下に実施例により本発明を具体的に説明する。
本発明がこれらに限定されるものではないことはいうま
でもない。
でもない。
実施例１ 第２図にその要部を示した巻取り式蒸着装置を用いて、
１２．５μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に斜方入射蒸着法によりコバルト蒸着磁性薄膜を形成
させて磁気テープを作製した。第２図において帯状支持
体２１はクーリングキャン２２に沿って搬送され、その
表面上に斜方入射蒸着法により磁性蒸着膜および非磁性
蒸着膜が形成される。蒸着材料２３，２４はそれぞれル
ツボ２５，２６にチャージされ適当な加熱手段により加
熱蒸発される。支持体２１への蒸気流の入射角度は防着
板２７，２８，２９によって制御される。本実施例にお
いてはポリエチレンテレフタレートフィルムを矢印Ａの
方向に搬送しつつルツボ２５よりＣｏを蒸発させ、入射
角θmaxを９０°、θminを５５°として蒸着磁性膜を形
成した。θmaxの設定は防着板２７、θminの設定は防着
板２８にて行なわれる。ついでポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを矢印Ｂの方向に沿って搬送させつつ、ル
ツボ２５よりＣｒあるいはＴｉ、あるいはＳｎを蒸発さ
せ非磁性蒸着膜をそれぞれ形成した。防着板２７，２８
により設定されるθmax′、θmin′はそれぞれ９０°、
４０°とした。磁性蒸着膜の厚さは１０００Å、非磁性
蒸着膜の厚さは１３０Åとした。
１２．５μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に斜方入射蒸着法によりコバルト蒸着磁性薄膜を形成
させて磁気テープを作製した。第２図において帯状支持
体２１はクーリングキャン２２に沿って搬送され、その
表面上に斜方入射蒸着法により磁性蒸着膜および非磁性
蒸着膜が形成される。蒸着材料２３，２４はそれぞれル
ツボ２５，２６にチャージされ適当な加熱手段により加
熱蒸発される。支持体２１への蒸気流の入射角度は防着
板２７，２８，２９によって制御される。本実施例にお
いてはポリエチレンテレフタレートフィルムを矢印Ａの
方向に搬送しつつルツボ２５よりＣｏを蒸発させ、入射
角θmaxを９０°、θminを５５°として蒸着磁性膜を形
成した。θmaxの設定は防着板２７、θminの設定は防着
板２８にて行なわれる。ついでポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを矢印Ｂの方向に沿って搬送させつつ、ル
ツボ２５よりＣｒあるいはＴｉ、あるいはＳｎを蒸発さ
せ非磁性蒸着膜をそれぞれ形成した。防着板２７，２８
により設定されるθmax′、θmin′はそれぞれ９０°、
４０°とした。磁性蒸着膜の厚さは１０００Å、非磁性
蒸着膜の厚さは１３０Åとした。
比較例１ 実施例１と同様にしてコバルト蒸着磁性薄膜をポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に形成した後従来の真空
蒸着法によりＣｒあるいはＴｉ、あるいはＳｎを実施例
１と同じ厚さとなるよう形成させた。すなわち第２図に
おいて防着板２８を除去し、クーリングキャン２２の真
下に設置されたルツボ３０より矢印Ａに沿って搬送され
るポリエチレンテレフタレートフィルムの蒸着磁性膜上
にＣｒあるいはＴｉ、あるいはＳｎの蒸着膜をそれぞれ
形成させた。
レンテレフタレートフィルム上に形成した後従来の真空
蒸着法によりＣｒあるいはＴｉ、あるいはＳｎを実施例
１と同じ厚さとなるよう形成させた。すなわち第２図に
おいて防着板２８を除去し、クーリングキャン２２の真
下に設置されたルツボ３０より矢印Ａに沿って搬送され
るポリエチレンテレフタレートフィルムの蒸着磁性膜上
にＣｒあるいはＴｉ、あるいはＳｎの蒸着膜をそれぞれ
形成させた。
こうして得られた磁気テープの繰返し走行後の耐候性を
測定した。耐候性はテープをＶＨＳ型ＶＴＲにて５０回
走行後、８０℃９０％相対温度下に１週間保存後テープ
表面の錆の発生状況およびセロテープ剥離テストによる
蒸着膜の密着性をそれぞれ５段階評価によりテストし
た。測定結果は下記のとおりである。
測定した。耐候性はテープをＶＨＳ型ＶＴＲにて５０回
走行後、８０℃９０％相対温度下に１週間保存後テープ
表面の錆の発生状況およびセロテープ剥離テストによる
蒸着膜の密着性をそれぞれ５段階評価によりテストし
た。測定結果は下記のとおりである。
なお、各評点は、以下の基準に基づくものである。
（錆の発生状況） ５…倍率５０倍の光学顕微鏡による観察でも磁性金属蒸
着膜上に錆が認められない。
着膜上に錆が認められない。
４…目視では錆が認められないが、倍率５０倍の光学顕
微鏡による観察でも磁性金属蒸着膜上に錆が認められ
る。
微鏡による観察でも磁性金属蒸着膜上に錆が認められ
る。
３…目視でわずかに錆が求められる。
２…目視で明瞭に錆が認められる。
１…目視で磁性金属蒸着膜全面に錆が求められる。
（密着性） 磁気テープの蒸着膜面をカッターナイフで約１mm角の大
きさに基盤目状の切れ目を入れた後に、その面上にセロ
テープを貼り付けて、引き剥した後の磁性薄膜の剥がれ
具合から相対的に評価した。
きさに基盤目状の切れ目を入れた後に、その面上にセロ
テープを貼り付けて、引き剥した後の磁性薄膜の剥がれ
具合から相対的に評価した。
実施例２ 第２図の巻取り式蒸着装置を用いて９．５μm厚のポリ
エチレンテレフタレートフィルム上に斜方入射蒸着法に
よりＣｏＮｉ（Ｎｉ２５重量％）の磁性蒸着薄膜を厚さ
１３００Åとなるよう形成させた。ポリエチレンテレフ
タレートフィルムを矢印Ａの方向に搬送させつつＯ２ガ
スを含む雰囲気中入射角θmaxを８６°、θminを４０°
として連続的に変化させ磁性蒸着膜をそれぞれ形成し
た。
エチレンテレフタレートフィルム上に斜方入射蒸着法に
よりＣｏＮｉ（Ｎｉ２５重量％）の磁性蒸着薄膜を厚さ
１３００Åとなるよう形成させた。ポリエチレンテレフ
タレートフィルムを矢印Ａの方向に搬送させつつＯ２ガ
スを含む雰囲気中入射角θmaxを８６°、θminを４０°
として連続的に変化させ磁性蒸着膜をそれぞれ形成し
た。
次にルツボ２６から非磁性材料を蒸発させ蒸着磁性膜上
に非磁性蒸着膜を厚さ２００Åとなるよう形成させた。
非磁性材料としてはＣｒ、Ｃｕ、Ａｌをそれぞれ使用
し、防着板２９および２８によりそれぞれ設定される入
射角θmax′およびθmin′は９０°、５０°とした。
に非磁性蒸着膜を厚さ２００Åとなるよう形成させた。
非磁性材料としてはＣｒ、Ｃｕ、Ａｌをそれぞれ使用
し、防着板２９および２８によりそれぞれ設定される入
射角θmax′およびθmin′は９０°、５０°とした。
比較例２ 実施例２と同様にしてＣｏＮｉ蒸着磁性薄膜をポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に形成した後比較例１と
同様に従来の真空蒸着法によりＣｒ、あるいはＣｕ、あ
るいはＡｌを厚さ２００Åとなるよう形成せしめた。
レンテレフタレートフィルム上に形成した後比較例１と
同様に従来の真空蒸着法によりＣｒ、あるいはＣｕ、あ
るいはＡｌを厚さ２００Åとなるよう形成せしめた。
こうして得られた磁気テープの繰返し走行後の耐候性を
実施例１および比較例１と同様な方法にて測定したとこ
ろ第２のごとくあった。
実施例１および比較例１と同様な方法にて測定したとこ
ろ第２のごとくあった。
比較例３ 実施例１において、ルツボ２５より蒸発させるＣｒ、Ｔ
ｉ、Ｓｎの非磁性金属を、磁性金属材料であるＣｏに変
えて磁性蒸着膜上に非磁性蒸着膜を形成せずに、更に磁
性蒸着膜を形成した以外は、実施例１と同一の条件で、
磁気テープを作成した。
ｉ、Ｓｎの非磁性金属を、磁性金属材料であるＣｏに変
えて磁性蒸着膜上に非磁性蒸着膜を形成せずに、更に磁
性蒸着膜を形成した以外は、実施例１と同一の条件で、
磁気テープを作成した。
上層の磁性蒸着膜の厚さは、１５０Åであった。
比較例４ 実施例１において、ルツボ２５より蒸発させるＣｒ、Ｔ
ｉ、Ｓｎの非磁性金属を、磁性金属材料であるＮｉに変
えて磁性蒸着膜上に非磁性蒸着膜を形成せずに、更に磁
性蒸着膜を形成した以外は、実施例１と同一の条件で、
磁気テープを作成した。
ｉ、Ｓｎの非磁性金属を、磁性金属材料であるＮｉに変
えて磁性蒸着膜上に非磁性蒸着膜を形成せずに、更に磁
性蒸着膜を形成した以外は、実施例１と同一の条件で、
磁気テープを作成した。
上層の磁性蒸着膜の厚さは、１５０Åであった。
比較例５ 実施例１において、磁性蒸着膜を形成したポリエチレン
テレフタレートフィルムを矢印Ａの方向に沿って搬送さ
せつつ、ルツボ２５よりＣｒあるいはＴｉ、あるいはＳ
ｎを蒸発させ非磁性蒸着膜をそれぞれ形成した以外は、
実施例１と同一の条件で磁気テープを製造した。
テレフタレートフィルムを矢印Ａの方向に沿って搬送さ
せつつ、ルツボ２５よりＣｒあるいはＴｉ、あるいはＳ
ｎを蒸発させ非磁性蒸着膜をそれぞれ形成した以外は、
実施例１と同一の条件で磁気テープを製造した。
非磁性蒸着膜の厚さは、１３０Åであった。
以上のようにして、得られた比較例３〜比較例５の磁気
テープの耐候性及び密着性を実施例１と同一の条件で評
価した結果は、下記の表３の通りであった。
テープの耐候性及び密着性を実施例１と同一の条件で評
価した結果は、下記の表３の通りであった。
〔発明の効果〕 このように本発明による磁気記録媒体は繰返し走行後の
耐候性の改良された金属薄膜型磁気記録媒体で、本タイ
プの磁気記録媒体の実用上のメリットは大である。
耐候性の改良された金属薄膜型磁気記録媒体で、本タイ
プの磁気記録媒体の実用上のメリットは大である。
第１図は本発明による磁気記録媒体の構成例を示してい
る。 １…支持体、２…磁性金属蒸着膜、 ３…非磁性金属薄膜 第２図は本発明の磁気記録媒体を製造するための装置略
図を示す。 ２１…帯状支持体、２２…クーリングキャン、 ２３，２４…蒸着材料、 ２５，２６，３０…ルツボ、 ２７，２８，２９…防着板
る。 １…支持体、２…磁性金属蒸着膜、 ３…非磁性金属薄膜 第２図は本発明の磁気記録媒体を製造するための装置略
図を示す。 ２１…帯状支持体、２２…クーリングキャン、 ２３，２４…蒸着材料、 ２５，２６，３０…ルツボ、 ２７，２８，２９…防着板
Claims (1)
- 【請求項１】蒸発源から蒸発せしめられた金属材料の蒸
気流を移動する基体に対して、該蒸気流の入射角を高入
射角から低入射角へと連続的に変化させることにより彎
曲した傾斜柱状構造を成す磁性金属蒸着膜を形成し、次
いで該磁性金属蒸着膜上に、該基体に対するＣｒ，Ｔ
ｉ，Ｓｎ，Ｃｕ，Ａｌから選ばれる少なくとも１種の非
磁性金属材料の蒸気流の入射角を低入射角から高入射角
へ連続的に変化させて非磁性金属蒸着膜を形成させる磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7983584A JPH061550B2 (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US06/725,198 US4622271A (en) | 1984-04-20 | 1985-04-19 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7983584A JPH061550B2 (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60224125A JPS60224125A (ja) | 1985-11-08 |
| JPH061550B2 true JPH061550B2 (ja) | 1994-01-05 |
Family
ID=13701266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7983584A Expired - Fee Related JPH061550B2 (ja) | 1984-04-20 | 1984-04-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH061550B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2743313B2 (ja) * | 1995-01-25 | 1998-04-22 | 花王株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-04-20 JP JP7983584A patent/JPH061550B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60224125A (ja) | 1985-11-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |