JP3173549B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度記録特性の優れ
た薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する。
た薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録再生装置は年々高密度化してお
り、短波長記録再生特性の優れた磁気記録媒体が要望さ
れている。現在では基板上に磁性粉を塗布した塗布型磁
気記録媒体が主に使用されており、上記要望を満足すべ
く特性改善がなされているが、ほぼ限界に近づいてい
る。
り、短波長記録再生特性の優れた磁気記録媒体が要望さ
れている。現在では基板上に磁性粉を塗布した塗布型磁
気記録媒体が主に使用されており、上記要望を満足すべ
く特性改善がなされているが、ほぼ限界に近づいてい
る。
【０００３】この限界を越えるものとして薄膜型磁気記
録媒体が開発されている。薄膜型磁気記録媒体は真空蒸
着法、スパッタリング法、メッキ法等により作製され、
優れた短波長記録再生特性を有する。薄膜型磁気記録媒
体における磁性層としては、例えば、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｏ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ、Ｃｏ
−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｐｔ等が検討されている。
録媒体が開発されている。薄膜型磁気記録媒体は真空蒸
着法、スパッタリング法、メッキ法等により作製され、
優れた短波長記録再生特性を有する。薄膜型磁気記録媒
体における磁性層としては、例えば、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ、Ｃｏ−Ｏ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ、Ｃｏ
−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−
Ｃｒ−Ｐｔ等が検討されている。
【０００４】磁気テープへの応用の点からは、これらの
中でＣｏ−Ｏ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏが最も適していると考え
られており、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏを磁性層とした蒸着テープ
が既にＨｉ８方式ＶＴＲ用テープとして実用化されてい
る。
中でＣｏ−Ｏ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏが最も適していると考え
られており、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏを磁性層とした蒸着テープ
が既にＨｉ８方式ＶＴＲ用テープとして実用化されてい
る。
【０００５】Ｈｉ８方式ＶＴＲ用蒸着テープの製造方法
の一例を、図２を用いて以下に説明する。図２は蒸着テ
ープを作製するための、従来の真空蒸着装置内部の構成
の一例である。高分子材料よりなる基板１は円筒状キャ
ン２に沿って矢印６の向きに走行する。蒸発材料７を入
れた蒸発源８から蒸発した蒸発原子９が、基板１に付着
することにより磁性層が形成される。蒸発源８としては
電子ビーム蒸発源が適しており、この中に蒸発材料７と
して、例えばＣｏ、Ｃｏ−Ｎｉ等の合金を充填する。な
お、蒸発源８として電子ビーム蒸発源を用いるのは、Ｃ
ｏ等の高融点金属を高い蒸発速度で蒸発させるためであ
る。
の一例を、図２を用いて以下に説明する。図２は蒸着テ
ープを作製するための、従来の真空蒸着装置内部の構成
の一例である。高分子材料よりなる基板１は円筒状キャ
ン２に沿って矢印６の向きに走行する。蒸発材料７を入
れた蒸発源８から蒸発した蒸発原子９が、基板１に付着
することにより磁性層が形成される。蒸発源８としては
電子ビーム蒸発源が適しており、この中に蒸発材料７と
して、例えばＣｏ、Ｃｏ−Ｎｉ等の合金を充填する。な
お、蒸発源８として電子ビーム蒸発源を用いるのは、Ｃ
ｏ等の高融点金属を高い蒸発速度で蒸発させるためであ
る。
【０００６】円筒状キャン２周囲の一部には不要な蒸発
原子９が基板１に付着するのを防ぐために遮蔽板３が設
けられている。磁性層は磁性層形成開始部１１と磁性層
形成終了部１２との間で形成される。１３は磁性層形成
開始部１１と蒸発部１５とを結ぶ直線であり、１４は磁
性層形成終了部１２と蒸発部１５とを結ぶ直線である。
電子ビーム蒸発源の場合は、蒸発材料の蒸発は主に電子
ビームが照射している部分から生じるので、蒸発部１５
とは、電子ビームが照射している部分のことである。
原子９が基板１に付着するのを防ぐために遮蔽板３が設
けられている。磁性層は磁性層形成開始部１１と磁性層
形成終了部１２との間で形成される。１３は磁性層形成
開始部１１と蒸発部１５とを結ぶ直線であり、１４は磁
性層形成終了部１２と蒸発部１５とを結ぶ直線である。
電子ビーム蒸発源の場合は、蒸発材料の蒸発は主に電子
ビームが照射している部分から生じるので、蒸発部１５
とは、電子ビームが照射している部分のことである。
【０００７】遮蔽板３の端部には蒸着時に真空槽内に酸
素を導入するための酸素供給口１０が設けられ、酸素供
給量を最適にすることにより、記録再生特性及び実用特
性の優れた蒸着テープが得られる。また、基板１は供給
ロール４に巻き付けられており、磁性層が形成された
後、巻き取りロール５に巻き取られる。
素を導入するための酸素供給口１０が設けられ、酸素供
給量を最適にすることにより、記録再生特性及び実用特
性の優れた蒸着テープが得られる。また、基板１は供給
ロール４に巻き付けられており、磁性層が形成された
後、巻き取りロール５に巻き取られる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】今後、高い生産性で、
短波長領域におけるＳ／Ｎの高い薄膜型磁気テープが要
求される。
短波長領域におけるＳ／Ｎの高い薄膜型磁気テープが要
求される。
【０００９】真空蒸着法によってＣｏ−Ｏ系の磁性層を
図２に示すような方法で作製する場合には、Ｃｏ−Ｏ系
の非磁性下地層あるいは非磁性に近い下地層上にＣｏ−
Ｏ系の磁性層を蒸着すると、保磁力が向上しＳ／Ｎが改
善されることが、本発明者らの検討によって明らかにな
っている。しかし、従来の方法で下地層と磁性層を形成
しようとすると、一度基板を走行させて下地層を形成し
た後に、もう一度、下地層の形成された基板を走行させ
て磁性層を蒸着しなければならない。従って、下地層を
形成するということは、Ｓ／Ｎの改善にはつながるが、
そのために生産性が低下してしまうという問題が生じ
る。
図２に示すような方法で作製する場合には、Ｃｏ−Ｏ系
の非磁性下地層あるいは非磁性に近い下地層上にＣｏ−
Ｏ系の磁性層を蒸着すると、保磁力が向上しＳ／Ｎが改
善されることが、本発明者らの検討によって明らかにな
っている。しかし、従来の方法で下地層と磁性層を形成
しようとすると、一度基板を走行させて下地層を形成し
た後に、もう一度、下地層の形成された基板を走行させ
て磁性層を蒸着しなければならない。従って、下地層を
形成するということは、Ｓ／Ｎの改善にはつながるが、
そのために生産性が低下してしまうという問題が生じ
る。
【００１０】本発明はこのような問題を解決し、高い生
産性で高Ｓ／Ｎを有する磁気記録媒体を製造する方法を
提供することを目的とするものである。
産性で高Ｓ／Ｎを有する磁気記録媒体を製造する方法を
提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、走行しつつあ
る基板上に真空蒸着法によって磁性層を形成する際に、
磁性層形成開始部の手前に蒸発材料の融点以上に昇温さ
れた薄板を基板とほぼ対向して配置し、かつ該薄板によ
り反射された蒸発原子により下地層が形成される領域に
酸素を供給することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法である。
る基板上に真空蒸着法によって磁性層を形成する際に、
磁性層形成開始部の手前に蒸発材料の融点以上に昇温さ
れた薄板を基板とほぼ対向して配置し、かつ該薄板によ
り反射された蒸発原子により下地層が形成される領域に
酸素を供給することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法である。
【００１２】
【作用】上記手段を採用することにより、前記薄板がな
い場合に基板に付着しなかった蒸発原子が、前記薄板に
よって反射されて基板に付着する。この付着した蒸発原
子は供給された酸素と結合し、非磁性の下地層あるいは
非磁性に近い下地層を形成する。こうして下地層が形成
された直後に、従来磁性層が形成されていた領域で、従
来と同様に磁性層が形成される。従って、一回の基板走
行で下地層と磁性層を形成できるので、従来に比べ生産
性が低下しない。すなわち本発明により、Ｓ／Ｎの改善
された薄膜型磁気テープを従来と同等の生産性で製造す
ることが可能となる。
い場合に基板に付着しなかった蒸発原子が、前記薄板に
よって反射されて基板に付着する。この付着した蒸発原
子は供給された酸素と結合し、非磁性の下地層あるいは
非磁性に近い下地層を形成する。こうして下地層が形成
された直後に、従来磁性層が形成されていた領域で、従
来と同様に磁性層が形成される。従って、一回の基板走
行で下地層と磁性層を形成できるので、従来に比べ生産
性が低下しない。すなわち本発明により、Ｓ／Ｎの改善
された薄膜型磁気テープを従来と同等の生産性で製造す
ることが可能となる。
【００１３】
【実施例】以下に、本発明をその実施例を示す図面に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【００１４】図１は、本発明にかかる一実施例の磁気記
録媒体の製造方法を実施するための真空蒸着装置内部の
一例を示す。すなわち、高分子材料よりなる基板１は、
供給ロール４に巻き付けられており、円筒状キャン２に
沿って矢印６の向きに走行し、巻き取りロール５に巻き
取られる。
録媒体の製造方法を実施するための真空蒸着装置内部の
一例を示す。すなわち、高分子材料よりなる基板１は、
供給ロール４に巻き付けられており、円筒状キャン２に
沿って矢印６の向きに走行し、巻き取りロール５に巻き
取られる。
【００１５】蒸発源８の中の蒸発部１５から蒸発した蒸
発原子９は、磁性層形成開始部１１と磁性層形成終了部
１２との間の磁性層形成部１６で基板に付着するばかり
でなく、磁性層形成開始部１１の手前の下地層形成部１
７においても、薄板１８により反射されて基板に付着す
る。薄板１８は磁性層形成開始部１１の手前に基板１と
ほぼ対向して配置されており、蒸発材料７の融点以上に
昇温されている。実際の生産装置においては、一般に基
板の幅は５０cm以上ある。この場合には、蒸発源８は通
常紙面に垂直方向に長い形状をしているおり、薄板１８
も紙面に垂直方向に長いものを用いる。
発原子９は、磁性層形成開始部１１と磁性層形成終了部
１２との間の磁性層形成部１６で基板に付着するばかり
でなく、磁性層形成開始部１１の手前の下地層形成部１
７においても、薄板１８により反射されて基板に付着す
る。薄板１８は磁性層形成開始部１１の手前に基板１と
ほぼ対向して配置されており、蒸発材料７の融点以上に
昇温されている。実際の生産装置においては、一般に基
板の幅は５０cm以上ある。この場合には、蒸発源８は通
常紙面に垂直方向に長い形状をしているおり、薄板１８
も紙面に垂直方向に長いものを用いる。
【００１６】昇温手段は限定されるものではなく、抵抗
加熱、誘導加熱、電子ビーム加熱等のいずれの方法でも
よい。薄板の温度は、蒸発原子がこの薄板に到達しても
付着せず反射されるような温度であればよい。一般に
は、蒸発原子の融点以上に昇温されていれば、蒸発原子
の付着は殆ど無い。蒸発原子の付着を完璧になくすため
には、温度は高ければ高い方がよいが、昇温の困難さ、
薄板の寿命等を考慮にいれて温度を決定する必要があ
る。
加熱、誘導加熱、電子ビーム加熱等のいずれの方法でも
よい。薄板の温度は、蒸発原子がこの薄板に到達しても
付着せず反射されるような温度であればよい。一般に
は、蒸発原子の融点以上に昇温されていれば、蒸発原子
の付着は殆ど無い。蒸発原子の付着を完璧になくすため
には、温度は高ければ高い方がよいが、昇温の困難さ、
薄板の寿命等を考慮にいれて温度を決定する必要があ
る。
【００１７】図１の１０は磁性層形成部１６に向かって
酸素を供給するための酸素供給口であり、１９は下地層
形成部１７に向かって酸素を供給するための酸素供給口
である。
酸素を供給するための酸素供給口であり、１９は下地層
形成部１７に向かって酸素を供給するための酸素供給口
である。
【００１８】以上、図１を用いて説明したように、本発
明によれば下地層と磁性層を同時に形成できるので、従
来に比べて生産性を低下させることなく、Ｓ／Ｎの改善
を図ることができる。
明によれば下地層と磁性層を同時に形成できるので、従
来に比べて生産性を低下させることなく、Ｓ／Ｎの改善
を図ることができる。
【００１９】次に、本発明の別の一実施例を図３を用い
て説明する。図３は基本的には図１と同様であるが、磁
性層形成部１６と下地層形成部１７との間に蒸発原子が
殆ど付着しない領域を設けている点が図１の場合と異な
っている。図３においては、磁性層形成部１６と下地層
形成部１７との間に蒸発原子が殆ど付着しないようにす
るために、遮蔽板２０を配置している。ただし、磁性層
形成部１６と下地層形成部１７との間にも、回り込みに
よりわずかな蒸発原子の付着はありうる。このようにす
ることにより、酸素濃度の多い下地層と酸素濃度の少な
い磁性層の分離を明瞭にすることができ、磁性層の保磁
力及びＳ／Ｎの更なる改善が可能となる。２１、２２、
２３は不要な蒸発原子を遮蔽するための遮蔽板である。
て説明する。図３は基本的には図１と同様であるが、磁
性層形成部１６と下地層形成部１７との間に蒸発原子が
殆ど付着しない領域を設けている点が図１の場合と異な
っている。図３においては、磁性層形成部１６と下地層
形成部１７との間に蒸発原子が殆ど付着しないようにす
るために、遮蔽板２０を配置している。ただし、磁性層
形成部１６と下地層形成部１７との間にも、回り込みに
よりわずかな蒸発原子の付着はありうる。このようにす
ることにより、酸素濃度の多い下地層と酸素濃度の少な
い磁性層の分離を明瞭にすることができ、磁性層の保磁
力及びＳ／Ｎの更なる改善が可能となる。２１、２２、
２３は不要な蒸発原子を遮蔽するための遮蔽板である。
【００２０】なお、図３においては下地層用の酸素供給
口１９が、図１と異なる場所に配置されているが、下地
層を酸化できれば、図１に示す位置あるいは図３に示す
位置のいずれでもよい。ただしいずれにしても、図１あ
るいは図３に示すように、下地層形成終了部側から下地
層形成部１７に向かって酸素を供給することが望まし
い。なぜならば、このようにすることにより下地層のた
めの酸素が、磁性層形成部１６に回り込みにくくなるか
らである。
口１９が、図１と異なる場所に配置されているが、下地
層を酸化できれば、図１に示す位置あるいは図３に示す
位置のいずれでもよい。ただしいずれにしても、図１あ
るいは図３に示すように、下地層形成終了部側から下地
層形成部１７に向かって酸素を供給することが望まし
い。なぜならば、このようにすることにより下地層のた
めの酸素が、磁性層形成部１６に回り込みにくくなるか
らである。
【００２１】さらに、下地層形成部１７に供給するガス
を、酸素のみでなく、少なくともＡｒ等の不活性ガスあ
るいは窒素のうちの一種を含有する酸素ガスとすること
により、Ｓ／Ｎの更なる改善を期待できる。この理由は
以下のように考えられる。不活性ガス等が存在すること
により、下地層が粒子状に成長し、ミクロな凹凸が大き
くなる。その結果、下地層上に成長する磁性層は膜面内
により強く配向し、保磁力が高くなるために、Ｓ／Ｎが
改善されるものと思われる。
を、酸素のみでなく、少なくともＡｒ等の不活性ガスあ
るいは窒素のうちの一種を含有する酸素ガスとすること
により、Ｓ／Ｎの更なる改善を期待できる。この理由は
以下のように考えられる。不活性ガス等が存在すること
により、下地層が粒子状に成長し、ミクロな凹凸が大き
くなる。その結果、下地層上に成長する磁性層は膜面内
により強く配向し、保磁力が高くなるために、Ｓ／Ｎが
改善されるものと思われる。
【００２２】また、下地層形成開始部近傍に加速された
電子を供給すると、下地層と基板との付着力を増加させ
ることができる。図４に、これを実施するための装置の
構成の一例を示す。図４は基本的には図３と同様である
が、下地層形成開始部近傍に加速された電子を供給する
ための電子銃２４が配置されている点が図３と異なる。
加速された電子との衝突により、基板の表面あるいは蒸
発原子が活性化されて基板と下地層が強く結合するよう
になる。従ってこのようにすることは、磁気記録媒体の
耐久性を向上させるための有効な手段である。
電子を供給すると、下地層と基板との付着力を増加させ
ることができる。図４に、これを実施するための装置の
構成の一例を示す。図４は基本的には図３と同様である
が、下地層形成開始部近傍に加速された電子を供給する
ための電子銃２４が配置されている点が図３と異なる。
加速された電子との衝突により、基板の表面あるいは蒸
発原子が活性化されて基板と下地層が強く結合するよう
になる。従ってこのようにすることは、磁気記録媒体の
耐久性を向上させるための有効な手段である。
【００２３】以下に、上記実施例を具体例を用いて説明
し、本発明の方法で作製した蒸着テープと、従来の方法
で作製した蒸着テープの磁気特性及び記録再生特性の比
較を行なう。
し、本発明の方法で作製した蒸着テープと、従来の方法
で作製した蒸着テープの磁気特性及び記録再生特性の比
較を行なう。
【００２４】本発明の第１の実施例として、図１のよう
な基本構成を有する真空蒸着装置を用いて、蒸着テープ
を作製した。円筒状キャン２の直径は１．５mとし、厚
み６μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを基板
１として使用した。蒸発材料７としてはＣｏを用いた。
薄板１８は、高さ１０cm、幅（図１において紙面に垂直
方向の長さ）６０cm、膜厚０．１mmのタングステン板と
し、図１に示すように基板に対向した状態で配置した。
薄板１８には電流を流すことにより、約２０００゜Kに昇
温した。なお基板の幅は５０cmである。膜形成終了部に
おける蒸発原子の基板への入射角（図１において、円筒
状キャン２の中心と膜形成終了部１２とを結ぶ直線と、
直線１４との作る鋭角）は６０゜になるように遮蔽板３
の位置を設定した。以上のような構成で、膜厚０．１μ
mの磁性層を形成した。酸素供給口１０及び１９から
は、それぞれ０．８l/min及び０．５l/minの割合で酸素
を供給した。
な基本構成を有する真空蒸着装置を用いて、蒸着テープ
を作製した。円筒状キャン２の直径は１．５mとし、厚
み６μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを基板
１として使用した。蒸発材料７としてはＣｏを用いた。
薄板１８は、高さ１０cm、幅（図１において紙面に垂直
方向の長さ）６０cm、膜厚０．１mmのタングステン板と
し、図１に示すように基板に対向した状態で配置した。
薄板１８には電流を流すことにより、約２０００゜Kに昇
温した。なお基板の幅は５０cmである。膜形成終了部に
おける蒸発原子の基板への入射角（図１において、円筒
状キャン２の中心と膜形成終了部１２とを結ぶ直線と、
直線１４との作る鋭角）は６０゜になるように遮蔽板３
の位置を設定した。以上のような構成で、膜厚０．１μ
mの磁性層を形成した。酸素供給口１０及び１９から
は、それぞれ０．８l/min及び０．５l/minの割合で酸素
を供給した。
【００２５】次に、本発明の第２の実施例として、図３
に示すように磁性層形成部１６と下地層形成部１７との
間に蒸発原子が殆ど付着しないような構成にし、それ以
外は第１の実施例と同様にして膜厚０．１μmの磁性層
を形成した。ただし、酸素供給口１９の位置は図３に示
すような位置にし、ここから０．３l/minの割合で酸素
を供給した。なお酸素供給口の位置は、図１に示す位置
でも図３に示す位置でも、作製された磁気テープには特
性差は殆ど見られなかった。
に示すように磁性層形成部１６と下地層形成部１７との
間に蒸発原子が殆ど付着しないような構成にし、それ以
外は第１の実施例と同様にして膜厚０．１μmの磁性層
を形成した。ただし、酸素供給口１９の位置は図３に示
すような位置にし、ここから０．３l/minの割合で酸素
を供給した。なお酸素供給口の位置は、図１に示す位置
でも図３に示す位置でも、作製された磁気テープには特
性差は殆ど見られなかった。
【００２６】本発明の第３の実施例として、酸素供給口
１９から酸素０．３l/minとＡｒ０．４l/minを供給し、
それ以外は第２の実施例と同様にして膜厚０．１μmの
磁性層を形成した。
１９から酸素０．３l/minとＡｒ０．４l/minを供給し、
それ以外は第２の実施例と同様にして膜厚０．１μmの
磁性層を形成した。
【００２７】次に比較例として、従来の方法で磁性層を
形成した。真空蒸着装置の構成は、薄板１８及び酸素供
給口１９がない点以外は上記の図１の場合と同様であ
る。このような構成で、上記第１の実施例と同じ条件
で、膜厚０．１μmの磁性層を形成した。
形成した。真空蒸着装置の構成は、薄板１８及び酸素供
給口１９がない点以外は上記の図１の場合と同様であ
る。このような構成で、上記第１の実施例と同じ条件
で、膜厚０．１μmの磁性層を形成した。
【００２８】以上のようにして作製した媒体の磁気特性
及び記録再生特性の評価を行った。磁気特性は、振動試
料型磁力計で、長手方向のヒステリシス曲線を測定し、
これから保磁力を求めることにより評価した。ここで長
手方向とは、蒸着時の基板走行方向のことである。記録
再生特性に関しては、媒体をテープ状にスリットし、セ
ンダストから成るギャップ長０．１５μmのリング形磁
気ヘッドを用いて評価を行なった。測定の結果を（表
１）に示す。（表１）には保磁力と再生出力を示してあ
る。再生出力は、記録波長０．５μmの信号を記録再生
した際の再生出力を、比較例のテープを０ｄＢとして示
してある。なお、いずれのテープもノイズはほぼ同等で
あった。
及び記録再生特性の評価を行った。磁気特性は、振動試
料型磁力計で、長手方向のヒステリシス曲線を測定し、
これから保磁力を求めることにより評価した。ここで長
手方向とは、蒸着時の基板走行方向のことである。記録
再生特性に関しては、媒体をテープ状にスリットし、セ
ンダストから成るギャップ長０．１５μmのリング形磁
気ヘッドを用いて評価を行なった。測定の結果を（表
１）に示す。（表１）には保磁力と再生出力を示してあ
る。再生出力は、記録波長０．５μmの信号を記録再生
した際の再生出力を、比較例のテープを０ｄＢとして示
してある。なお、いずれのテープもノイズはほぼ同等で
あった。
【００２９】
【表１】
【００３０】従来の方法で作製した比較例の磁気テープ
に比べ、本発明の第１の実施例で作製した磁気テープ
は、保磁力が１．５倍であり、再生出力は２ｄＢ高くな
っている。
に比べ、本発明の第１の実施例で作製した磁気テープ
は、保磁力が１．５倍であり、再生出力は２ｄＢ高くな
っている。
【００３１】本発明の第２の実施例で作製した磁気テー
プは、本発明の第１の実施例で作製した磁気テープより
も保磁力、再生出力ともに更に高い。これは、磁性層形
成部と下地層形成部との間に蒸発原子が殆ど付着しない
ようにしたことにより、磁性層と下地層の分離が明瞭に
なったためだと考えられる。
プは、本発明の第１の実施例で作製した磁気テープより
も保磁力、再生出力ともに更に高い。これは、磁性層形
成部と下地層形成部との間に蒸発原子が殆ど付着しない
ようにしたことにより、磁性層と下地層の分離が明瞭に
なったためだと考えられる。
【００３２】本発明の第３の実施例で作製した磁気テー
プは、本発明の第２の実施例で作製した磁気テープより
も更に保磁力と再生出力が高い。この原因は、下地層が
粒子状に成長したことにより、磁性層の膜面内配向性が
強くなったためであると考えられる。
プは、本発明の第２の実施例で作製した磁気テープより
も更に保磁力と再生出力が高い。この原因は、下地層が
粒子状に成長したことにより、磁性層の膜面内配向性が
強くなったためであると考えられる。
【００３３】上記の如く、本発明の方法で作製した磁気
テープは、従来の方法で作製した磁気テープよりも高い
Ｓ／Ｎを有しているにもかかわらず、生産性は従来の方
法の場合と同等である。
テープは、従来の方法で作製した磁気テープよりも高い
Ｓ／Ｎを有しているにもかかわらず、生産性は従来の方
法の場合と同等である。
【００３４】上記実施例では、蒸発材料としてＣｏを用
いる場合について説明したが、これに限ったものではな
く、蒸発材料としてＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ｆｅ合金等を用いる場合についても、全く同様の本
発明の効果が得られる。また、磁性層の膜厚についても
限定されるものではない。
いる場合について説明したが、これに限ったものではな
く、蒸発材料としてＣｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ｆｅ合金等を用いる場合についても、全く同様の本
発明の効果が得られる。また、磁性層の膜厚についても
限定されるものではない。
【００３５】また、上記実施例では、基板としてポリエ
チレンテレフタレートフィルムを用いて説明したが、こ
れに限らず、例えばポリイミドフィルム、ポリアミドフ
ィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリエチレンナ
フタレートフィルム等の高分子フィルム、あるいは何ら
かの層が形成されている高分子フィルムでも、全く同様
であることは言うまでもない。また、基板の膜厚につい
ても限定されるものではない。
チレンテレフタレートフィルムを用いて説明したが、こ
れに限らず、例えばポリイミドフィルム、ポリアミドフ
ィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリエチレンナ
フタレートフィルム等の高分子フィルム、あるいは何ら
かの層が形成されている高分子フィルムでも、全く同様
であることは言うまでもない。また、基板の膜厚につい
ても限定されるものではない。
【００３６】さらに、蒸発原子の基板への入射角や薄板
の材質、サイズ及び形状等も、上記実施例に限定される
ものではない。例えば、薄板の形状は図５に示すように
曲がった状態にしてもよい。このようにすることにより
蒸発原子の不要な部分への回り込みを低減し、効率よく
基板上に付着させることが可能となる。
の材質、サイズ及び形状等も、上記実施例に限定される
ものではない。例えば、薄板の形状は図５に示すように
曲がった状態にしてもよい。このようにすることにより
蒸発原子の不要な部分への回り込みを低減し、効率よく
基板上に付着させることが可能となる。
【００３７】
【発明の効果】以上述べたところから明らかなように、
本発明は高いＳ／Ｎを有する薄膜型磁気記録媒体を高い
生産性で製造することができるという長所を有する。
本発明は高いＳ／Ｎを有する薄膜型磁気記録媒体を高い
生産性で製造することができるという長所を有する。
【図１】本発明にかかる一実施例の磁気記録媒体の製造
方法を実施するための真空蒸着装置内部の概略を示す図
方法を実施するための真空蒸着装置内部の概略を示す図
【図２】従来の真空蒸着装置内部の概略を示す図
【図３】本発明にかかる一実施例の磁気記録媒体の製造
方法を実施するための真空蒸着装置内部の概略を示す図
方法を実施するための真空蒸着装置内部の概略を示す図
【図４】本発明にかかる一実施例の磁気記録媒体の製造
方法を実施するための真空蒸着装置内部の概略を示す図
方法を実施するための真空蒸着装置内部の概略を示す図
【図５】本発明にかかる薄板の形状の一実施例を示すた
めの、真空蒸着装置内部における薄板近傍の概略を示す
図
めの、真空蒸着装置内部における薄板近傍の概略を示す
図
１ 基板 ２ 円筒状キャン ３ 遮蔽板 ４ 供給ロール ５ 巻き取りロール ６ 基板走行方向 ７ 蒸発材料 ８ 蒸発源 ９ 蒸発原子 １０ 酸素供給口 １１ 磁性層形成開始部 １２ 磁性層形成終了部 １３ 磁性層形成開始部と蒸発部とを結ぶ直線 １４ 磁性層形成終了部と蒸発部とを結ぶ直線 １５ 蒸発部 １６ 磁性層形成部 １７ 下地層形成部 １８ 薄板 １９ 酸素供給口 ２０、２１、２２、２３ 遮蔽板 ２４ 電子銃
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/85 C23C 14/56
Claims (5)
- 【請求項１】走行しつつある基板上に真空蒸着法によっ
て磁性層を形成する際に、磁性層形成開始部の手前に蒸
発材料の融点以上に昇温された薄板を基板とほぼ対向し
て配置し、かつ前記薄板により反射された蒸発原子によ
り下地層が形成される領域に酸素を供給することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】磁性層形成部と下地層形成部との間に蒸発
原子が殆ど付着しない領域を設けることを特徴とする請
求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】下地層形成部に酸素を供給する際に、下地
層形成終了部側から下地層形成部に向かって酸素を供給
することを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録
媒体の製造方法。 - 【請求項４】下地層形成部に向かって少なくとも不活性
ガスあるいは窒素のうちの一種を含有する酸素ガスを供
給することを特徴とする請求項３記載の磁気記録媒体の
製造方法。 - 【請求項５】下地層形成開始部近傍に加速された電子を
供給することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項
に記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13562094A JP3173549B2 (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| EP19950109169 EP0688016B1 (en) | 1994-06-17 | 1995-06-14 | Method for manufacturing magnetic recording medium and apparatus therefor |
| DE1995611330 DE69511330T2 (de) | 1994-06-17 | 1995-06-14 | Methode und Vorrichtung zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsmediums |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13562094A JP3173549B2 (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH087273A JPH087273A (ja) | 1996-01-12 |
| JP3173549B2 true JP3173549B2 (ja) | 2001-06-04 |
Family
ID=15156070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13562094A Expired - Fee Related JP3173549B2 (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0688016B1 (ja) |
| JP (1) | JP3173549B2 (ja) |
| DE (1) | DE69511330T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014020690A (ja) * | 2012-07-19 | 2014-02-03 | Osaka Gas Co Ltd | 厨房排気システム |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2559685B (en) * | 2015-03-10 | 2019-06-12 | Bobst Manchester Ltd | Vacuum Coater For Coating A Web |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0834001B2 (ja) * | 1990-07-25 | 1996-03-29 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH05342553A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPH06111315A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-22 | Konica Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1994
- 1994-06-17 JP JP13562094A patent/JP3173549B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-06-14 EP EP19950109169 patent/EP0688016B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-14 DE DE1995611330 patent/DE69511330T2/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014020690A (ja) * | 2012-07-19 | 2014-02-03 | Osaka Gas Co Ltd | 厨房排気システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69511330D1 (de) | 1999-09-16 |
| EP0688016A2 (en) | 1995-12-20 |
| EP0688016B1 (en) | 1999-08-11 |
| JPH087273A (ja) | 1996-01-12 |
| DE69511330T2 (de) | 2000-04-13 |
| EP0688016A3 (en) | 1997-01-02 |
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