JPH0418371B2 - - Google Patents
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- JPH0418371B2 JPH0418371B2 JP58022373A JP2237383A JPH0418371B2 JP H0418371 B2 JPH0418371 B2 JP H0418371B2 JP 58022373 A JP58022373 A JP 58022373A JP 2237383 A JP2237383 A JP 2237383A JP H0418371 B2 JPH0418371 B2 JP H0418371B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Y10S428/90—Magnetic feature
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明は、真空蒸着による磁性薄膜を備えた磁
気記録媒体の製法に関するもので、特に磁性薄膜
の密着性、スチル耐久性にすぐれた磁気記録媒体
の製法に関するものである。 従来より磁気記録媒体としては非磁性支持基材
上にγ−Fe2O3、Coをドープしたγ−Fe3O3、
Fe3O4、CoをドープしたFe3O4、γ−Fe2O3と
Fe3O4のベルトライド化合物、CrO2等の酸化物磁
性粉末あるいはCo、Ni、Fe等の遷移金属を主成
分とする強磁性合金粉末といつた粉末型の磁性材
料を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂等の有機バインダー中に分散させてなる
磁性塗料を塗布、配向、乾燥して磁性層を形成さ
せる塗布型のものが広く使用されてきている。近
年高密度磁気記録への急激な要求の高まりと共に
真空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイン
グ等のベーパーデポジシヨン法、あるいは電気メ
ツキ、無電解メツキ等のメツキ法により形成され
る強磁性金属薄膜を磁気記録層とする有機バイン
ダーを使用しない云わゆる金属薄膜型磁気記録媒
体が注目を浴びており実用化への努力が種々行な
われている。 従来の塗布型の磁気記録媒体では主として飽和
磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ていると共に、磁性層中の磁性材料の体積含有率
が30〜50％にすぎないため高出力高密度記録媒体
としては限界になつてきている。さらにその製造
工程も複雑で溶剤回収あるいは公害防止のための
大きな付帯設備を必要とするという欠点を有して
いる。金属薄膜型磁気記録媒体では酸化物磁性材
料より大きな飽和磁化を有する強磁性金属を有機
バインダーの如き非磁性物質を介在させぬ状態で
極めて薄い薄膜として形成できるという利点を有
する。高密度磁気記録化につれて記録再生磁気ヘ
ツドのギヤツプ長も1.0μmを切る時代になつてい
るが、それに伴つて磁気記録層への記録深さも浅
くなる傾向があり、磁性膜の厚み全部が磁気信号
の記録に利用され得る金属薄膜型磁気記録媒体は
高出力高密度記録媒体として極めてすぐれてい
る。金属薄膜型磁気記録媒体のうちでも膜の形成
を真空蒸着により行なう方法は膜の形成速度の速
いこと、製造工程が簡単であることあるいは排液
処理の必要としないドライプロセスであること等
の利点を有する。 しかしながら蒸着型磁気記録媒体についての大
きな問題の一つに磁性薄膜の耐久性の問題があ
る。すなわち磁気信号の記録、再生の際に磁性薄
膜は磁気ヘツドとの相対接触運動のもとにおかれ
摩耗や破壊の起る可能性が大きい。このため磁気
記録媒体の磁性膜は磁気ヘツドとの接触に耐え得
るため、強度の有することを要求されるが、従来
の方法による蒸着型磁気記録媒体の磁性膜の膜強
度は不充分なものであつた。 本発明の目的は、すぐれた膜密着性を有すると
共に耐久性を有する蒸着型磁気記録媒体の製造方
法を提供することにある。 すなわち本発明は真空雰囲気内で連続して移動
する基材に強磁性材料を蒸着して磁気記録媒体を
製造する方法において、蒸発源にチヤージされた
強磁性材料に0.1A／cm2以上のビーム電流密度を
有する電子ビームを照射せしめて蒸着を行うこと
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。 第１図は本発明を実施するために使用する装置
の一実施例を図式的に示している。真空槽１の内
部は排気口２を介して真空に排気できるようにな
つている。真空槽１内には円筒状キヤン３が配設
されていて、送り出しロール４からのプラスチツ
クベース等の可撓性基体５がキヤン３の周側面に
沿つて移動する。キヤン３から離れた基体５は巻
き取りロール６に巻き取られる。キヤン３に沿つ
て移動する基体５の上に強磁性材料７を加熱蒸発
させて得た蒸気流を差し向け適当なマスク８によ
り設けられた開口部分で目的の強磁性薄膜を形成
する。ルツボ１２内の強磁性材料７は電子銃９か
ら照射される電子ビーム１０により加熱蒸発され
る。電子ビーム１０は偏向コイル、集束コイル等
によつて適当に偏向、集束されて強磁性材料７に
照射されるが、本発明においては電子ビーム１０
の強磁性材料７への照射点１１におけるビーム電
流密度を0.1A／cm2以上とすることを要点として
いる。具体的には本発明におけるビーム電流密度
は照射点１１における電子ビーム１０の照射ビー
ムスポツトより求められる面積ａでビーム電流を
割つた値で定義される。 本発明者等は蒸着型磁気記録媒体に関し種々研
究の結果磁性薄膜を電子ビーム蒸発法により作製
する場合ビーム電流密度を0.1A／cm2以上として
作製した磁性薄膜を有する磁気記録媒体はすぐれ
た膜密着性を有すると共に耐久性にもすぐれたも
のであることを見出し本発明に致つたものであ
る。 本発明に用いられる強磁性材料としては鉄、コ
バルト、ニツケルその他の強磁性金属あるいは
Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Si、Fe−Rh、
Co−Ｐ、Co−Ｂ、Co−Si、Co−Ｖ、Co−Ｙ、
Co−Ya、Co−La、Co−Ce、Co−Pr、Co−
Sm、Co−Pt、Co−Mn、Fe−Co−Ni、Co−Ni
−Ｐ、Co−Ni−Ｂ、Co−Ni−Ag、Co−Ni−
Nd、Co−Ni−Ce、Co−Ni−Zn、Co−Ni−Cu、
Co−Ni−Ｗ、Co−Ni−Re、Co−Ni−Sm、Co
−Sm−Cu等がある。さらに本発明を実施する際
の真空度は1.0×10-3Torr〜1.0×10-7Torrが好ま
しく、真空雰囲気中にO2等の酸化性ガスあるい
はAr、He等の不活性ガスまたはこれらの混合ガ
スを導入してもいい。本発明に使用される電子ビ
ーム銃としてはピアス式電子銃、偏向型電子銃、
ホローカソード型電子銃等いずれでもいい。 次に本発明を下記の実施例によりさらに詳細に
説明する。 実施例 １ 第１図に示された装置において、強磁性材料と
してはCo−Ni（Ni20wt％）、可撓性基体としては
15μm厚ポリエチレンテレフタレートフイルムを
使用して磁気テープを作製した。真空度は1.5×
10-5Torrとし、種々のビーム電流密度での蒸着
磁性膜を有する磁気テープについてその膜密着性
と耐久性を各々接着テープ剥離テストおよび
VTRスチル時間にて調べた。
気記録媒体の製法に関するもので、特に磁性薄膜
の密着性、スチル耐久性にすぐれた磁気記録媒体
の製法に関するものである。 従来より磁気記録媒体としては非磁性支持基材
上にγ−Fe2O3、Coをドープしたγ−Fe3O3、
Fe3O4、CoをドープしたFe3O4、γ−Fe2O3と
Fe3O4のベルトライド化合物、CrO2等の酸化物磁
性粉末あるいはCo、Ni、Fe等の遷移金属を主成
分とする強磁性合金粉末といつた粉末型の磁性材
料を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン樹脂等の有機バインダー中に分散させてなる
磁性塗料を塗布、配向、乾燥して磁性層を形成さ
せる塗布型のものが広く使用されてきている。近
年高密度磁気記録への急激な要求の高まりと共に
真空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイン
グ等のベーパーデポジシヨン法、あるいは電気メ
ツキ、無電解メツキ等のメツキ法により形成され
る強磁性金属薄膜を磁気記録層とする有機バイン
ダーを使用しない云わゆる金属薄膜型磁気記録媒
体が注目を浴びており実用化への努力が種々行な
われている。 従来の塗布型の磁気記録媒体では主として飽和
磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ていると共に、磁性層中の磁性材料の体積含有率
が30〜50％にすぎないため高出力高密度記録媒体
としては限界になつてきている。さらにその製造
工程も複雑で溶剤回収あるいは公害防止のための
大きな付帯設備を必要とするという欠点を有して
いる。金属薄膜型磁気記録媒体では酸化物磁性材
料より大きな飽和磁化を有する強磁性金属を有機
バインダーの如き非磁性物質を介在させぬ状態で
極めて薄い薄膜として形成できるという利点を有
する。高密度磁気記録化につれて記録再生磁気ヘ
ツドのギヤツプ長も1.0μmを切る時代になつてい
るが、それに伴つて磁気記録層への記録深さも浅
くなる傾向があり、磁性膜の厚み全部が磁気信号
の記録に利用され得る金属薄膜型磁気記録媒体は
高出力高密度記録媒体として極めてすぐれてい
る。金属薄膜型磁気記録媒体のうちでも膜の形成
を真空蒸着により行なう方法は膜の形成速度の速
いこと、製造工程が簡単であることあるいは排液
処理の必要としないドライプロセスであること等
の利点を有する。 しかしながら蒸着型磁気記録媒体についての大
きな問題の一つに磁性薄膜の耐久性の問題があ
る。すなわち磁気信号の記録、再生の際に磁性薄
膜は磁気ヘツドとの相対接触運動のもとにおかれ
摩耗や破壊の起る可能性が大きい。このため磁気
記録媒体の磁性膜は磁気ヘツドとの接触に耐え得
るため、強度の有することを要求されるが、従来
の方法による蒸着型磁気記録媒体の磁性膜の膜強
度は不充分なものであつた。 本発明の目的は、すぐれた膜密着性を有すると
共に耐久性を有する蒸着型磁気記録媒体の製造方
法を提供することにある。 すなわち本発明は真空雰囲気内で連続して移動
する基材に強磁性材料を蒸着して磁気記録媒体を
製造する方法において、蒸発源にチヤージされた
強磁性材料に0.1A／cm2以上のビーム電流密度を
有する電子ビームを照射せしめて蒸着を行うこと
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。 第１図は本発明を実施するために使用する装置
の一実施例を図式的に示している。真空槽１の内
部は排気口２を介して真空に排気できるようにな
つている。真空槽１内には円筒状キヤン３が配設
されていて、送り出しロール４からのプラスチツ
クベース等の可撓性基体５がキヤン３の周側面に
沿つて移動する。キヤン３から離れた基体５は巻
き取りロール６に巻き取られる。キヤン３に沿つ
て移動する基体５の上に強磁性材料７を加熱蒸発
させて得た蒸気流を差し向け適当なマスク８によ
り設けられた開口部分で目的の強磁性薄膜を形成
する。ルツボ１２内の強磁性材料７は電子銃９か
ら照射される電子ビーム１０により加熱蒸発され
る。電子ビーム１０は偏向コイル、集束コイル等
によつて適当に偏向、集束されて強磁性材料７に
照射されるが、本発明においては電子ビーム１０
の強磁性材料７への照射点１１におけるビーム電
流密度を0.1A／cm2以上とすることを要点として
いる。具体的には本発明におけるビーム電流密度
は照射点１１における電子ビーム１０の照射ビー
ムスポツトより求められる面積ａでビーム電流を
割つた値で定義される。 本発明者等は蒸着型磁気記録媒体に関し種々研
究の結果磁性薄膜を電子ビーム蒸発法により作製
する場合ビーム電流密度を0.1A／cm2以上として
作製した磁性薄膜を有する磁気記録媒体はすぐれ
た膜密着性を有すると共に耐久性にもすぐれたも
のであることを見出し本発明に致つたものであ
る。 本発明に用いられる強磁性材料としては鉄、コ
バルト、ニツケルその他の強磁性金属あるいは
Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Si、Fe−Rh、
Co−Ｐ、Co−Ｂ、Co−Si、Co−Ｖ、Co−Ｙ、
Co−Ya、Co−La、Co−Ce、Co−Pr、Co−
Sm、Co−Pt、Co−Mn、Fe−Co−Ni、Co−Ni
−Ｐ、Co−Ni−Ｂ、Co−Ni−Ag、Co−Ni−
Nd、Co−Ni−Ce、Co−Ni−Zn、Co−Ni−Cu、
Co−Ni−Ｗ、Co−Ni−Re、Co−Ni−Sm、Co
−Sm−Cu等がある。さらに本発明を実施する際
の真空度は1.0×10-3Torr〜1.0×10-7Torrが好ま
しく、真空雰囲気中にO2等の酸化性ガスあるい
はAr、He等の不活性ガスまたはこれらの混合ガ
スを導入してもいい。本発明に使用される電子ビ
ーム銃としてはピアス式電子銃、偏向型電子銃、
ホローカソード型電子銃等いずれでもいい。 次に本発明を下記の実施例によりさらに詳細に
説明する。 実施例 １ 第１図に示された装置において、強磁性材料と
してはCo−Ni（Ni20wt％）、可撓性基体としては
15μm厚ポリエチレンテレフタレートフイルムを
使用して磁気テープを作製した。真空度は1.5×
10-5Torrとし、種々のビーム電流密度での蒸着
磁性膜を有する磁気テープについてその膜密着性
と耐久性を各々接着テープ剥離テストおよび
VTRスチル時間にて調べた。
【表】
【表】
○：良好、×：不可
このように電子ビーム電流密度が0.1A／cm2以
上だと膜密着性および耐久性にすぐれた磁気テー
プ得られる。 実施例 ２ 第１図に示された装置において強磁性材料とし
てはCo、可撓性基体としては10μm厚ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムを使用して磁気テープ
を作製した。酸素ガスを導入することにより真空
度は1.0×10-4Torrとし、種々のビーム電流密度
で作製した蒸着磁性膜を有する磁気テープについ
てその膜密着性と耐久性を実施例１と同様にして
調べた。
このように電子ビーム電流密度が0.1A／cm2以
上だと膜密着性および耐久性にすぐれた磁気テー
プ得られる。 実施例 ２ 第１図に示された装置において強磁性材料とし
てはCo、可撓性基体としては10μm厚ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムを使用して磁気テープ
を作製した。酸素ガスを導入することにより真空
度は1.0×10-4Torrとし、種々のビーム電流密度
で作製した蒸着磁性膜を有する磁気テープについ
てその膜密着性と耐久性を実施例１と同様にして
調べた。
【表】
このように電子ビーム電流密度が0.1A／cm2以
上であると膜密着性および耐久性にすぐれる事が
明らかである。
上であると膜密着性および耐久性にすぐれる事が
明らかである。
第１図は本発明を実施するために使用する装置
の要部略図である。 １は真空槽、３はキヤン、８はルツボ、９は電
子銃、１０は電子ビームである。
の要部略図である。 １は真空槽、３はキヤン、８はルツボ、９は電
子銃、１０は電子ビームである。
Claims (1)
- １ 真空雰囲気内で連続して移動する基材に強磁
性材料を蒸着して磁気記録媒体を製造する方法に
おいて、蒸発源にチヤージされた強磁性材料に
0.1乃至0.6A／cm2のビーム電流密度を有する電子
ビームを照射せしめて蒸着を行うことを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58022373A JPS59148137A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 磁気記録媒体の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP58022373A JPS59148137A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 磁気記録媒体の製造方法 |
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Patent Citations (1)
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