JPS61139919A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS61139919A JPS61139919A JP26243484A JP26243484A JPS61139919A JP S61139919 A JPS61139919 A JP S61139919A JP 26243484 A JP26243484 A JP 26243484A JP 26243484 A JP26243484 A JP 26243484A JP S61139919 A JPS61139919 A JP S61139919A
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- JP
- Japan
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- chromium
- cobalt
- weight
- film layer
- composition ratio
- Prior art date
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- Pending
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒
体に関し、さらに詳しくは磁気特性および耐食性に優れ
た前記の磁気記録媒体に関する。
体に関し、さらに詳しくは磁気特性および耐食性に優れ
た前記の磁気記録媒体に関する。
強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体は、通常
、プラスチックフィルムなどの基体を真空蒸着装置内に
取りつけた円筒状キャンの周側面に沿って移動させ、こ
の基体に強磁性金属もしくはそれらの合金等を真空蒸着
することによってっ(られており、磁気特性を向上させ
るため、たとえば、酸素ガス雰囲気下でコバルト−ニッ
ケル合金を斜め入射蒸着すること(特開昭56−150
14号)が行われている。、また、一方高密度記録を良
好に行えるようにするため、スパッタリングにより、コ
バルト−クロム合金を基体上に被着して膜面に垂直な方
向に磁化容易軸を有する強磁性金属薄膜層を形成するこ
と(特公昭58−91号)も行われている。
、プラスチックフィルムなどの基体を真空蒸着装置内に
取りつけた円筒状キャンの周側面に沿って移動させ、こ
の基体に強磁性金属もしくはそれらの合金等を真空蒸着
することによってっ(られており、磁気特性を向上させ
るため、たとえば、酸素ガス雰囲気下でコバルト−ニッ
ケル合金を斜め入射蒸着すること(特開昭56−150
14号)が行われている。、また、一方高密度記録を良
好に行えるようにするため、スパッタリングにより、コ
バルト−クロム合金を基体上に被着して膜面に垂直な方
向に磁化容易軸を有する強磁性金属薄膜層を形成するこ
と(特公昭58−91号)も行われている。
ところが、この従来の酸素ガス雰囲気下でコバルト−ニ
ッケル合金の斜め入射蒸着を行う方法では、酸素ガスの
作用により得られる強磁性金属薄膜層の保磁力は向上す
るものの、基体上に析出して強磁性金属薄膜層を形成す
るコバルト−ニッケル合金からなる強磁性材柱状粒子の
粒子径が小さくなり、比表面積が太き(なるため、耐食
性が劣化するという難点がある。また、コバルト−クロ
ム合金からなり、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有す
る強磁性金属薄膜層は、その厚みを比較的厚くしなけれ
ば良好な高密度記録が行えず、しかも現状では理想的な
垂直磁気記録用磁・気ヘッドが得られていないため、い
まひとつ実用性に欠けるという難点がある。
ッケル合金の斜め入射蒸着を行う方法では、酸素ガスの
作用により得られる強磁性金属薄膜層の保磁力は向上す
るものの、基体上に析出して強磁性金属薄膜層を形成す
るコバルト−ニッケル合金からなる強磁性材柱状粒子の
粒子径が小さくなり、比表面積が太き(なるため、耐食
性が劣化するという難点がある。また、コバルト−クロ
ム合金からなり、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有す
る強磁性金属薄膜層は、その厚みを比較的厚くしなけれ
ば良好な高密度記録が行えず、しかも現状では理想的な
垂直磁気記録用磁・気ヘッドが得られていないため、い
まひとつ実用性に欠けるという難点がある。
この発明は、かかる欠点を改善するため種々検討を行っ
た結果なされたもので、コバルトとクロムを主成分とし
、コバルトとクロムの組成比がクロムの重量%で5〜2
0重量%の、膜面に対して斜め方向に磁化容易軸を有す
る強磁性金属薄膜層を形成することによって、保磁力を
高くし、磁気特性番−向上させるとともにミ耐食性を充
分に向上させたものである。 − この発明において、強磁性金属薄膜層は、コバルトとク
ロムを主成分とし、コバルトとクロムの組成比力やクロ
ムの重量%で5〜20重量%の範囲内であることが好ま
しく、クロムの組成比が5重量%以上になるとコバルト
の大方晶の結晶配向が良くなり、磁気異方性が強くなっ
て保磁力が向上する。しかし、20重量%を超えると六
方晶の異方性自体が低下してしまい、かえって保磁力が
低下するため好ましくない。また、コバルトとクロムを
主成分とする強磁性金属薄膜層は、大気中の酸素等で腐
食される場合、コバルトよりクロムが先に酸化されるた
め、クロムの組成比が増加するに伴い飽和磁化の減少率
は小さくなり、クロムの組成比が5重量%以上になると
耐食性は充分に改善される。
た結果なされたもので、コバルトとクロムを主成分とし
、コバルトとクロムの組成比がクロムの重量%で5〜2
0重量%の、膜面に対して斜め方向に磁化容易軸を有す
る強磁性金属薄膜層を形成することによって、保磁力を
高くし、磁気特性番−向上させるとともにミ耐食性を充
分に向上させたものである。 − この発明において、強磁性金属薄膜層は、コバルトとク
ロムを主成分とし、コバルトとクロムの組成比力やクロ
ムの重量%で5〜20重量%の範囲内であることが好ま
しく、クロムの組成比が5重量%以上になるとコバルト
の大方晶の結晶配向が良くなり、磁気異方性が強くなっ
て保磁力が向上する。しかし、20重量%を超えると六
方晶の異方性自体が低下してしまい、かえって保磁力が
低下するため好ましくない。また、コバルトとクロムを
主成分とする強磁性金属薄膜層は、大気中の酸素等で腐
食される場合、コバルトよりクロムが先に酸化されるた
め、クロムの組成比が増加するに伴い飽和磁化の減少率
は小さくなり、クロムの組成比が5重量%以上になると
耐食性は充分に改善される。
さらに、この発明の強磁性金属薄膜層は、磁化容易軸が
膜面に対して斜め方向にあるものであることが好ましく
、このように磁化容易軸が膜面に対して斜め方向にあり
、かつコバルトとクロムの組成比がクロムの重量%で5
〜20重量邪重量値性金属薄膜層が形成されると、磁気
特性が充分に向上され、通常汎用されているリングヘッ
ドでの記録再生が極めて良好に行われる。
膜面に対して斜め方向にあるものであることが好ましく
、このように磁化容易軸が膜面に対して斜め方向にあり
、かつコバルトとクロムの組成比がクロムの重量%で5
〜20重量邪重量値性金属薄膜層が形成されると、磁気
特性が充分に向上され、通常汎用されているリングヘッ
ドでの記録再生が極めて良好に行われる。
第1図はこの、ようなこの発明の強磁性金属薄膜層を形
成する際に使用する真空蒸着装置の断面図を示したもの
であり、以下、この第1図を参照しながらこの発明につ
いて説明する。
成する際に使用する真空蒸着装置の断面図を示したもの
であり、以下、この第1図を参照しながらこの発明につ
いて説明する。
図において、1は真空槽でこの真空槽1の内部は排気系
2により真空に保持される。3は真空槽1の中央部に配
設された円筒状キャンであり、ポリエステルフィルム等
の基体4は原反ロール5よりこの円筒状キャン3の周側
面に沿って移動し、巻き取りロール6に巻き取られる。
2により真空に保持される。3は真空槽1の中央部に配
設された円筒状キャンであり、ポリエステルフィルム等
の基体4は原反ロール5よりこの円筒状キャン3の周側
面に沿って移動し、巻き取りロール6に巻き取られる。
この間円筒状キャン3の周側面に沿って移動する基体4
に対向して真空槽1の下部に配設された強磁性材蒸発源
7でコバルト8およびクロム9が加熱蒸発され、円筒状
キャン3の下方に配置された防着板10の作用で基体4
に斜め入射蒸着されて、コバルトとクロムからなり、膜
面に対して斜め方向に磁化容易軸を有する強磁性金属薄
膜層が形成される。この際、コバルト8とクロム9を加
熱する電子線の出力を種々に変えることによって、コバ
ルトとクロムの組成比は調整され、クロムの重量%で5
〜20重量%の範囲内にある強磁性金属薄膜層が形成さ
れる。なお、コバルトとクロムの組成比の調整は、強磁
性材蒸発源7にコバルトとクロムの組成比が種々異なる
合金をセントすることによっても行われる。
に対向して真空槽1の下部に配設された強磁性材蒸発源
7でコバルト8およびクロム9が加熱蒸発され、円筒状
キャン3の下方に配置された防着板10の作用で基体4
に斜め入射蒸着されて、コバルトとクロムからなり、膜
面に対して斜め方向に磁化容易軸を有する強磁性金属薄
膜層が形成される。この際、コバルト8とクロム9を加
熱する電子線の出力を種々に変えることによって、コバ
ルトとクロムの組成比は調整され、クロムの重量%で5
〜20重量%の範囲内にある強磁性金属薄膜層が形成さ
れる。なお、コバルトとクロムの組成比の調整は、強磁
性材蒸発源7にコバルトとクロムの組成比が種々異なる
合金をセントすることによっても行われる。
第2図はこのような真空蒸着装置を使用して、コバルト
8とクロム9を加熱する電子線の出力を変え、クロムの
組成比を0〜30重量%の範囲で種々に調整して強磁性
金属薄膜層を形成し、得られた強磁性金属薄膜層のクロ
ムの組成比と長手方向の保磁力との関係を、グラフで示
したものである。この第2図かみ明らかなように磁気記
録媒体の長手方向の保磁力は、クロムの組成比が5重量
%以上になるとコバルトの大方晶の結晶配向が良くなり
、磁気異方性が強くなって向上するが、20重量%を超
えると六方晶の異方性自体が低下してしまうため急激に
低(なり、5〜20重量%の範囲内にあるとき充分に高
くて良好な保磁力が得られる。
8とクロム9を加熱する電子線の出力を変え、クロムの
組成比を0〜30重量%の範囲で種々に調整して強磁性
金属薄膜層を形成し、得られた強磁性金属薄膜層のクロ
ムの組成比と長手方向の保磁力との関係を、グラフで示
したものである。この第2図かみ明らかなように磁気記
録媒体の長手方向の保磁力は、クロムの組成比が5重量
%以上になるとコバルトの大方晶の結晶配向が良くなり
、磁気異方性が強くなって向上するが、20重量%を超
えると六方晶の異方性自体が低下してしまうため急激に
低(なり、5〜20重量%の範囲内にあるとき充分に高
くて良好な保磁力が得られる。
また、第3図は、同様にして得られた強磁性金属薄膜層
を60℃、90%RHの環境下に1週間静置したときの
飽和磁化を測定し、放置前の飽和磁化よりこの測定した
飽和磁化を差し引いたものを放置前の飽和磁化で除して
百分率で表した飽和磁化の減少率と、強磁性金属薄膜層
のクロムの組成比との関係を、グラフで示したもので、
この第3図から明らかなように、飽和磁化の減少率はク
ロムの組成比が多くなるに従って小さくなり、大気中の
酸素等によって腐食される際、コバルトよりクロムが先
に酸化されるため、クロムの組成比が多いほど耐食性が
改善され、クロムの組成比が5〜20重量%の範囲内で
あれば、充分に良好な耐食性が得られる。
を60℃、90%RHの環境下に1週間静置したときの
飽和磁化を測定し、放置前の飽和磁化よりこの測定した
飽和磁化を差し引いたものを放置前の飽和磁化で除して
百分率で表した飽和磁化の減少率と、強磁性金属薄膜層
のクロムの組成比との関係を、グラフで示したもので、
この第3図から明らかなように、飽和磁化の減少率はク
ロムの組成比が多くなるに従って小さくなり、大気中の
酸素等によって腐食される際、コバルトよりクロムが先
に酸化されるため、クロムの組成比が多いほど耐食性が
改善され、クロムの組成比が5〜20重量%の範囲内で
あれば、充分に良好な耐食性が得られる。
これら第2図および第3図からも明らかなように、この
発明における強磁性金属Wi膜層は、コバルトとクロム
を主成分とし、コバルトとクロムの組成比がクロムの重
量%で5〜20重量%の範囲内で、かつ膜面に対して斜
め方向に磁化容易軸を有するものであることが好ましく
、このような強磁性金属薄膜層を形成すると、高保磁力
でしかも耐食性に優れた磁気記録媒体が得られる。
発明における強磁性金属Wi膜層は、コバルトとクロム
を主成分とし、コバルトとクロムの組成比がクロムの重
量%で5〜20重量%の範囲内で、かつ膜面に対して斜
め方向に磁化容易軸を有するものであることが好ましく
、このような強磁性金属薄膜層を形成すると、高保磁力
でしかも耐食性に優れた磁気記録媒体が得られる。
このように、コバルトとクロムを主成分とし、コバルト
とクロムの組成比がクロムの重量%で5〜20重量%の
範囲内で、かつ膜面に対して斜め方向に磁化容易軸を有
する強磁性金属薄膜層の厚みは、500〜2000人の
範囲内にするのが好ましく、これより薄すぎたり、厚す
ぎたりすると良好な電磁変換特性が得られない。またこ
の種の強磁性金属薄膜層はコバルトおよびクロムを生成
分とする以外は、他の金属等を含んでいてもよく、この
場合も同様な効果が得られる。
とクロムの組成比がクロムの重量%で5〜20重量%の
範囲内で、かつ膜面に対して斜め方向に磁化容易軸を有
する強磁性金属薄膜層の厚みは、500〜2000人の
範囲内にするのが好ましく、これより薄すぎたり、厚す
ぎたりすると良好な電磁変換特性が得られない。またこ
の種の強磁性金属薄膜層はコバルトおよびクロムを生成
分とする以外は、他の金属等を含んでいてもよく、この
場合も同様な効果が得られる。
基体としては、゛ポリエステル、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリカーボネート等一般に使用されている高分子成
形物からなるプラスチックフィルムおよび銅などの非磁
性金属からなる金属フィルムなどがいずれも使用される
。また強磁性材としては、コバルト、クロムおよびコバ
ルト−クロム合金の他、これらと他の強磁性金属との合
金等が使用される。
ド、ポリカーボネート等一般に使用されている高分子成
形物からなるプラスチックフィルムおよび銅などの非磁
性金属からなる金属フィルムなどがいずれも使用される
。また強磁性材としては、コバルト、クロムおよびコバ
ルト−クロム合金の他、これらと他の強磁性金属との合
金等が使用される。
磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、ポリイ
ミドフィルムなどのプラスチックフィルムを基体とする
磁気テープ、プラスチックフィルム、アルミニウム板お
よびガラス板等からなる円 1盤やドラムを
基体とする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッド
と摺接する構造の種々の形態を包含する。
ミドフィルムなどのプラスチックフィルムを基体とする
磁気テープ、プラスチックフィルム、アルミニウム板お
よびガラス板等からなる円 1盤やドラムを
基体とする磁気ディスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッド
と摺接する構造の種々の形態を包含する。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例1
第1図に示す真空蒸着装置を使用し、約10μ厚のポリ
エステルフィルム4を、原反ロール5より円筒状キャン
3の周側面に沿って移動させ、巻き取りロール6に巻き
取るようにセットするとともに、強磁性材蒸発源7内に
コバルト8およびクロム9をセットした。次いで、排気
系2で真空槽l内を5xl(I″66トールで真空排気
し、コバルト8およびクロム9をそれぞれ電子線で、出
力を種々に変えて加熱蒸発させ、最低入射角50度、蒸
着速度90人/see、ポリエステルフィルム温度−2
0℃で斜め入射蒸着行い、ポリエステルフィルム4上に
コバルト−クロム合金からなる厚みが1000人の強磁
性金Wj4WIl膜層を形成した。
エステルフィルム4を、原反ロール5より円筒状キャン
3の周側面に沿って移動させ、巻き取りロール6に巻き
取るようにセットするとともに、強磁性材蒸発源7内に
コバルト8およびクロム9をセットした。次いで、排気
系2で真空槽l内を5xl(I″66トールで真空排気
し、コバルト8およびクロム9をそれぞれ電子線で、出
力を種々に変えて加熱蒸発させ、最低入射角50度、蒸
着速度90人/see、ポリエステルフィルム温度−2
0℃で斜め入射蒸着行い、ポリエステルフィルム4上に
コバルト−クロム合金からなる厚みが1000人の強磁
性金Wj4WIl膜層を形成した。
しかる後、所定の幅に裁断して多数の磁気テープをつく
った。
った。
比較例1
実施例1において、強磁性材蒸発源7内におけるコバル
ト8を、電子線の出力2.7KWで加熱蒸発させ、また
クロム9を電子線の出力0.3KWで加熱蒸発させた以
外は、実施例1と同様にして、クロムの組成比が25重
量%めコバルト−クロム合金からなる厚みが1ooo人
の強磁性金属薄膜層を形成し、磁気テープをつくった。
ト8を、電子線の出力2.7KWで加熱蒸発させ、また
クロム9を電子線の出力0.3KWで加熱蒸発させた以
外は、実施例1と同様にして、クロムの組成比が25重
量%めコバルト−クロム合金からなる厚みが1ooo人
の強磁性金属薄膜層を形成し、磁気テープをつくった。
比較例2
実施例1において、強磁性材蒸発源7内にクロム9をセ
ットせず、強磁性材蒸発源7内におけるコバルト8を、
電子線の出力3.5KWで加熱蒸発させた以外は、実施
例1と同様にして、コバルト方・らなる厚みが1000
人の強磁性金属薄膜層を形成し、磁気テープをつくった
。
ットせず、強磁性材蒸発源7内におけるコバルト8を、
電子線の出力3.5KWで加熱蒸発させた以外は、実施
例1と同様にして、コバルト方・らなる厚みが1000
人の強磁性金属薄膜層を形成し、磁気テープをつくった
。
比較例3
スパッタリング装置を使用し、真空度1.5X10−2
トール、アルゴン圧2X10−2トールにて高周波電力
200Wで、約1時間スパッタリイグを行い、クロム含
有率が約18重量%のコバルトークロム合金からなる厚
みが約1μの強磁性金属薄膜層を形成し、磁気テープを
つくった。
トール、アルゴン圧2X10−2トールにて高周波電力
200Wで、約1時間スパッタリイグを行い、クロム含
有率が約18重量%のコバルトークロム合金からなる厚
みが約1μの強磁性金属薄膜層を形成し、磁気テープを
つくった。
実施例1で得られた磁気テープについて、得られた強磁
性金属薄膜層のクロムの組成比と、長手方向の保磁力と
の関係を調べた。第2図はその結果をグラフで示したも
ので、この第2図から明らかなように、磁気記録媒体の
長手方向の保磁力は、5重量%より多くなるに従って高
くなるが20重量%を超えると急激に低くなっており、
5〜20重量%の範囲内にあるとき充分に高くて良好な
保磁力が得られるのがわかる。
性金属薄膜層のクロムの組成比と、長手方向の保磁力と
の関係を調べた。第2図はその結果をグラフで示したも
ので、この第2図から明らかなように、磁気記録媒体の
長手方向の保磁力は、5重量%より多くなるに従って高
くなるが20重量%を超えると急激に低くなっており、
5〜20重量%の範囲内にあるとき充分に高くて良好な
保磁力が得られるのがわかる。
また、同様にして得られた強磁性金属薄膜層を60℃、
90%RHの環境下に1週間静置したときの飽和磁化を
測定し、放置前の飽和磁化よりこの測定した飽和磁化を
差し引いたものを放置前の飽和磁化で除して百分率で表
した飽和磁化の減少率と、強磁性金属薄膜層のクロムの
組成比との関係を調べた。第3図はその結果をグラフで
表したもので、この第3図から明らかなように、飽和磁
化の減少率はクロムの組成比が多くなるほど小さくなっ
て、耐食性が改善されており、クロムの組成比が5〜2
0重量%の範囲内であれば、充分に良好な耐食性が得ら
れるのがわかる。
90%RHの環境下に1週間静置したときの飽和磁化を
測定し、放置前の飽和磁化よりこの測定した飽和磁化を
差し引いたものを放置前の飽和磁化で除して百分率で表
した飽和磁化の減少率と、強磁性金属薄膜層のクロムの
組成比との関係を調べた。第3図はその結果をグラフで
表したもので、この第3図から明らかなように、飽和磁
化の減少率はクロムの組成比が多くなるほど小さくなっ
て、耐食性が改善されており、クロムの組成比が5〜2
0重量%の範囲内であれば、充分に良好な耐食性が得ら
れるのがわかる。
さらに、実施例1において、強磁性材蒸発源7内におけ
るコバルト8を、電子線の出力3KWで加熱蒸発させ、
またクロム9を電子線の出力062KWで加熱蒸発させ
て得られた、クロムの組成比がlO重量挿のコバルト−
クロム合金からなる強磁性金属薄膜層を有する磁気テー
プ、および各比較例で得られた磁気テープについて、保
磁力および角型を測定した。また飽和磁化の減少率を前
記と同様の方法で関べた。
るコバルト8を、電子線の出力3KWで加熱蒸発させ、
またクロム9を電子線の出力062KWで加熱蒸発させ
て得られた、クロムの組成比がlO重量挿のコバルト−
クロム合金からなる強磁性金属薄膜層を有する磁気テー
プ、および各比較例で得られた磁気テープについて、保
磁力および角型を測定した。また飽和磁化の減少率を前
記と同様の方法で関べた。
下表はその結果である。
〔発明の効果〕。
第2図、第3図および表から明らかなように、コバルト
とクロムを主成分とし、コバルトとクロムの組成比がク
ロムの重量%で5〜20重量%の、膜面に対して斜め方
向に磁化容易軸を有する強磁性金属薄膜層を有するこの
発明の磁気記録媒体は、高保磁力で磁気特性に優れると
ともに、耐食性に優れていることがわかる。
とクロムを主成分とし、コバルトとクロムの組成比がク
ロムの重量%で5〜20重量%の、膜面に対して斜め方
向に磁化容易軸を有する強磁性金属薄膜層を有するこの
発明の磁気記録媒体は、高保磁力で磁気特性に優れると
ともに、耐食性に優れていることがわかる。
第1図はこの発明の磁気記録媒体を得るために使用する
真空蒸着装置の概略断面図、第2図は実施例1で得られ
た磁気テープのクロムの組成比と保磁力との関係図、第
3図は実施例1で得られた磁気テープのクロムの組成比
と飽和磁化の減少率との関係図である。 特許出願人 日立マクセル株式会社 第1図 第2図 クロムの組成比(重量%)
真空蒸着装置の概略断面図、第2図は実施例1で得られ
た磁気テープのクロムの組成比と保磁力との関係図、第
3図は実施例1で得られた磁気テープのクロムの組成比
と飽和磁化の減少率との関係図である。 特許出願人 日立マクセル株式会社 第1図 第2図 クロムの組成比(重量%)
Claims (1)
- 1、基体上に、コバルトとクロムを主成分とし、コバル
トとクロムの組成比がクロムの重量%で5〜20重量%
の、膜面に対して斜め方向に磁化容易軸を有する強磁性
金属薄膜層を形成したことを特徴とする磁気記録媒体
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26243484A JPS61139919A (ja) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26243484A JPS61139919A (ja) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61139919A true JPS61139919A (ja) | 1986-06-27 |
Family
ID=17375730
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26243484A Pending JPS61139919A (ja) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61139919A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5202149A (en) * | 1990-07-25 | 1993-04-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for making a magnetic recording medium |
US20110216190A1 (en) * | 2008-11-13 | 2011-09-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Foreign matter detection device |
-
1984
- 1984-12-12 JP JP26243484A patent/JPS61139919A/ja active Pending
Cited By (2)
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