JPS5814329A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS5814329A JPS5814329A JP11395781A JP11395781A JPS5814329A JP S5814329 A JPS5814329 A JP S5814329A JP 11395781 A JP11395781 A JP 11395781A JP 11395781 A JP11395781 A JP 11395781A JP S5814329 A JPS5814329 A JP S5814329A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heated
- magnetic recording
- recording medium
- vapor
- nozzle
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空蒸着法による磁気記録媒体の製造方法に関
する。
する。
近年磁気記録媒体は磁気記録密度の向上などにみられる
ようにその発展はめざましいものがある。
ようにその発展はめざましいものがある。
従来磁気記録媒体の代表例として、１−Ｆａ２０５粉末
、ＣｒＯ２粉末、純鉄粉末等をバインダーとともに高分
子フィルムに塗着せしめたいわゆる塗布型の磁気記録媒
体がある。しかし、従来の塗布型より保磁力および記録
密度を高めるために最近斜め入射蒸着法や斜め入射イオ
ンブレーティング法によりＷｅ、Ｏｏ、Ｎｉ等の強磁性
体金属を単独で、もしくは合金とし、高分子フィルム基
板上に蒸着せしめる蒸着薄膜型磁気記録媒体が検討され
、高い保磁力と高記録密度を侑する磁気記録媒体を得る
に至っている。しかし、蒸着薄膜型磁気記録媒体は開発
の歴史も浅く、塗布型に比べ量産性及び工業的な見地か
らの十分な検討はなされていない。
、ＣｒＯ２粉末、純鉄粉末等をバインダーとともに高分
子フィルムに塗着せしめたいわゆる塗布型の磁気記録媒
体がある。しかし、従来の塗布型より保磁力および記録
密度を高めるために最近斜め入射蒸着法や斜め入射イオ
ンブレーティング法によりＷｅ、Ｏｏ、Ｎｉ等の強磁性
体金属を単独で、もしくは合金とし、高分子フィルム基
板上に蒸着せしめる蒸着薄膜型磁気記録媒体が検討され
、高い保磁力と高記録密度を侑する磁気記録媒体を得る
に至っている。しかし、蒸着薄膜型磁気記録媒体は開発
の歴史も浅く、塗布型に比べ量産性及び工業的な見地か
らの十分な検討はなされていない。
例えば磁気記録媒体として必要な電磁変換特性を工業的
見地から再現性良く安定に製造することはむづかしい。
見地から再現性良く安定に製造することはむづかしい。
特に真空蒸着法による磁気記録媒体の製造時に薄膜型の
特徴を十分に活かし、高保磁力を有し安定な記録媒体と
する為に、強磁性金属を酸化物に一部改質する必要があ
る。
特徴を十分に活かし、高保磁力を有し安定な記録媒体と
する為に、強磁性金属を酸化物に一部改質する必要があ
る。
本発明者らは上記の点に鑑み種々検討を行った結果、優
れた磁気特性を有する蒸着薄膜型磁気記録媒体を量産性
良く製造し得るに至ったら以下に図面を用い、本発明の
詳細な説明すも第１図に示すように、１０ｔｏｒｒ程度
の真空度に保たれた真空系内において送出Ｉｌ＃Ｕ１か
ら送シ出された高分子フィルム２は円筒状の冷却用キャ
ン３の局面に沿って走行し、巻取軸４に巻取られ３ベパ る。冷却用キャン３の下方には強磁性体金属Ｃ。
れた磁気特性を有する蒸着薄膜型磁気記録媒体を量産性
良く製造し得るに至ったら以下に図面を用い、本発明の
詳細な説明すも第１図に示すように、１０ｔｏｒｒ程度
の真空度に保たれた真空系内において送出Ｉｌ＃Ｕ１か
ら送シ出された高分子フィルム２は円筒状の冷却用キャ
ン３の局面に沿って走行し、巻取軸４に巻取られ３ベパ る。冷却用キャン３の下方には強磁性体金属Ｃ。
からなる蒸着用材料６が充填された容器６が配設され、
蒸着用材料６は電子ビーム７によシ加熱溶解されて蒸発
し、キャン３の局面に沿って走行中のフィルム２上に斜
め蒸着されて強磁性層膜が形成される。容器６からの蒸
発金属の気流に向けて予め加熱した酸素ガスを導入し、
蒸発金属を酸化する。なお、第１図において８は蒸発金
層のフィルム２への入射角度０を制御するだめの遮へい
板である。
蒸着用材料６は電子ビーム７によシ加熱溶解されて蒸発
し、キャン３の局面に沿って走行中のフィルム２上に斜
め蒸着されて強磁性層膜が形成される。容器６からの蒸
発金属の気流に向けて予め加熱した酸素ガスを導入し、
蒸発金属を酸化する。なお、第１図において８は蒸発金
層のフィルム２への入射角度０を制御するだめの遮へい
板である。
蒸発金属の気流への加熱酸素ガスの導入は例えば第２図
、第３図に示すような酸素吹込ノズルを用いて行なう。
、第３図に示すような酸素吹込ノズルを用いて行なう。
ここで第２図、第３図のそれぞれについて説明すると、
まず第２図の場合には、高圧ガスボンベ（図示せず）に
導管１１を介し接続されたノズル１２のまわシにタンタ
ル線よりなるヒータ線１３が巻装されＪそのヒータ線１
３は電源１４に両端が接続されている。高圧ガスボンベ
からの酸素ガスはレギュレータで圧力調整され、またフ
ローメータで流量調整される。以上のような酸素吹込ノ
ズルによシ酸素ガスは５００’Ｃまで加熱される。次に
第３図の場合には、ノズル１２の内部にチタン酸バリウ
ム系セラミックヒータ１６が配設され、導管１１からの
酸素ガスは２００℃まで加熱される。
まず第２図の場合には、高圧ガスボンベ（図示せず）に
導管１１を介し接続されたノズル１２のまわシにタンタ
ル線よりなるヒータ線１３が巻装されＪそのヒータ線１
３は電源１４に両端が接続されている。高圧ガスボンベ
からの酸素ガスはレギュレータで圧力調整され、またフ
ローメータで流量調整される。以上のような酸素吹込ノ
ズルによシ酸素ガスは５００’Ｃまで加熱される。次に
第３図の場合には、ノズル１２の内部にチタン酸バリウ
ム系セラミックヒータ１６が配設され、導管１１からの
酸素ガスは２００℃まで加熱される。
さて、本発明により前述のように加熱された酸素ガスを
蒸発金属の気流に作用させて強磁性層を形成するのと並
行し、比較のため、酸素ガスを導入することなく強磁性
層膜を形成した場合を従来例１とし、また室温のままで
加熱していない酸素ガスを導入して強磁性層膜を形成し
た場合を従来例２としてそれぞれ磁気記録媒体を製造し
た。
蒸発金属の気流に作用させて強磁性層を形成するのと並
行し、比較のため、酸素ガスを導入することなく強磁性
層膜を形成した場合を従来例１とし、また室温のままで
加熱していない酸素ガスを導入して強磁性層膜を形成し
た場合を従来例２としてそれぞれ磁気記録媒体を製造し
た。
次に本発明の詳細な説明する。前記各製造法により作成
された磁気記録媒体の直流磁化曲線を求め保磁力（Ｈａ
）及び磁束密度を測定した。その結果、第４図に示す
ように従来例１゛（破線）では残留磁束密度が本発明に
よるもの（実線）と比較゛して大差がないにもかかわら
ず、保磁力が本発明によるものでは９．５００６楕来例
１での５０００・とかなり差があることがわかった。ま
た従来６′”− 例２と本発明によるものとを比較すると、同じ酸素分圧
で蒸着した場合、従来例２は本発明によるものと比較し
て、保磁力が１ｏ００・程小さく、一方同じ保磁力にな
るように酸素ガス流量を調整した場合、量大飽和磁化と
残留磁化の角形比が従来例２では約０．７で本発明によ
・る場合の０．８６よシ小さいことがわかった。さらに
電磁変換特性について調べた結果、本発明によるものは
従来例と比較して出力が１０〜２０ｄＢ高いことがわか
った。また、耐久保存試験を６０℃、９０％ＲＨの雰囲
気下で１ケ月行った後、電磁変換特性による出力変動及
び磁性層の表面状態を調べた結果、本発明によるもので
は変化していないことがわかった。これは本発明におい
て強磁性金属の蒸発気流に加熱した酸素ガスを導入した
効果によるものである。
された磁気記録媒体の直流磁化曲線を求め保磁力（Ｈａ
）及び磁束密度を測定した。その結果、第４図に示す
ように従来例１゛（破線）では残留磁束密度が本発明に
よるもの（実線）と比較゛して大差がないにもかかわら
ず、保磁力が本発明によるものでは９．５００６楕来例
１での５０００・とかなり差があることがわかった。ま
た従来６′”− 例２と本発明によるものとを比較すると、同じ酸素分圧
で蒸着した場合、従来例２は本発明によるものと比較し
て、保磁力が１ｏ００・程小さく、一方同じ保磁力にな
るように酸素ガス流量を調整した場合、量大飽和磁化と
残留磁化の角形比が従来例２では約０．７で本発明によ
・る場合の０．８６よシ小さいことがわかった。さらに
電磁変換特性について調べた結果、本発明によるものは
従来例と比較して出力が１０〜２０ｄＢ高いことがわか
った。また、耐久保存試験を６０℃、９０％ＲＨの雰囲
気下で１ケ月行った後、電磁変換特性による出力変動及
び磁性層の表面状態を調べた結果、本発明によるもので
は変化していないことがわかった。これは本発明におい
て強磁性金属の蒸発気流に加熱した酸素ガスを導入した
効果によるものである。
すなわち加熱された酸素ガスは熱的に活性化され、強磁
ｉ金属の蒸発粒子に対する反応作用が高められたことに
よるものである。その結果、 Ｃ。
ｉ金属の蒸発粒子に対する反応作用が高められたことに
よるものである。その結果、 Ｃ。
金属の表面に酸化膜が効果的に生成し、このため６１′
−ミ 特に保磁力及び保存特性が高められたものと考えられる
。
−ミ 特に保磁力及び保存特性が高められたものと考えられる
。
なお本発明は強磁性金属として上記Ｇｏ を用いた以外
にもＮｉ 、 ｙｅ 、 Ｏｒ 、 Ｃｏ−Ｎｉ合金等
を用いた場合においても同様の効果が得られるものであ
り、また酸素ガスの加熱方法に関しても前記実施例に限
定されることなく他の方法でも可能である。
にもＮｉ 、 ｙｅ 、 Ｏｒ 、 Ｃｏ−Ｎｉ合金等
を用いた場合においても同様の効果が得られるものであ
り、また酸素ガスの加熱方法に関しても前記実施例に限
定されることなく他の方法でも可能である。
また酸素ガスとしては純酸素ガスのみｔらず他のガスと
の混合物を用いてもよく、またＨ２Ｏｅ Ｈ２Ｏ２ガス
のように高温で分解して酸素が生成するガスを酸素ガス
源として用いてもよい。
の混合物を用いてもよく、またＨ２Ｏｅ Ｈ２Ｏ２ガス
のように高温で分解して酸素が生成するガスを酸素ガス
源として用いてもよい。
以上のように本発明によると、保磁力などの磁気特性さ
らには耐久性にすぐれた磁気記録媒体を容易に得ること
ができる。
らには耐久性にすぐれた磁気記録媒体を容易に得ること
ができる。
第１図は本発明による磁気記録媒体の製造方法を説明す
るだめの図、第２図および第３図はそれぞれ同じく本発
明による磁気記録媒体の製造方法において用いる酸素吹
込ノズルを示す図、第４図は本発明の詳細な説明するた
めのもので、磁気記７パ− 録媒体の磁化曲線を示す図である。 ２・・・・・・高分子フィルム、３・・・・・・冷却用
キャン、６・・・・・・蒸着用材料、１２・・・・・・
ノズル、１３・・・・・・ヒータ線ｓ １５−・−・−
セラミックヒータ。 代理人の氏名弁理土中 尾敏男 ほか１名第１ｍ ２ ｍ 第 ３１１ ４５ｍ
るだめの図、第２図および第３図はそれぞれ同じく本発
明による磁気記録媒体の製造方法において用いる酸素吹
込ノズルを示す図、第４図は本発明の詳細な説明するた
めのもので、磁気記７パ− 録媒体の磁化曲線を示す図である。 ２・・・・・・高分子フィルム、３・・・・・・冷却用
キャン、６・・・・・・蒸着用材料、１２・・・・・・
ノズル、１３・・・・・・ヒータ線ｓ １５−・−・−
セラミックヒータ。 代理人の氏名弁理土中 尾敏男 ほか１名第１ｍ ２ ｍ 第 ３１１ ４５ｍ
Claims (1)
- 真空系内において強磁性金属の蒸気を基板に向かわせ、
上記基板上に強磁性層を形成するに際し、上記蒸気に加
熱した酸素ガスを作用させることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11395781A JPS5814329A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11395781A JPS5814329A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5814329A true JPS5814329A (ja) | 1983-01-27 |
Family
ID=14625441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11395781A Pending JPS5814329A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5814329A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62238113A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-19 | Nissan Motor Co Ltd | 脱着式ル−フリツドの連結部構造 |
| JPS62251233A (ja) * | 1986-04-24 | 1987-11-02 | Nissan Motor Co Ltd | 車両の開閉式屋根構造 |
| EP3012347A3 (en) * | 2014-10-24 | 2016-05-18 | United Technologies Corporation | Nanoparticle formation mitigation in a deposition process |
-
1981
- 1981-07-20 JP JP11395781A patent/JPS5814329A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62238113A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-19 | Nissan Motor Co Ltd | 脱着式ル−フリツドの連結部構造 |
| JPS62251233A (ja) * | 1986-04-24 | 1987-11-02 | Nissan Motor Co Ltd | 車両の開閉式屋根構造 |
| EP3012347A3 (en) * | 2014-10-24 | 2016-05-18 | United Technologies Corporation | Nanoparticle formation mitigation in a deposition process |
| US10704135B2 (en) | 2014-10-24 | 2020-07-07 | Raytheon Technologies Corporation | Nanoparticle formation mitigation in a deposition process |
| US11542593B2 (en) | 2014-10-24 | 2023-01-03 | Raytheon Technologies Corporation | Nanoparticle formation mitigation in a deposition process |
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