JPS5814328A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS5814328A JPS5814328A JP11395681A JP11395681A JPS5814328A JP S5814328 A JPS5814328 A JP S5814328A JP 11395681 A JP11395681 A JP 11395681A JP 11395681 A JP11395681 A JP 11395681A JP S5814328 A JPS5814328 A JP S5814328A
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
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-
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- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5826—Treatment with charged particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/5846—Reactive treatment
- C23C14/5853—Oxidation
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空蒸着法による磁気記録体の製造方法に関す
る。
る。
近年磁気記録媒体は磁気記録密度の向上とともにその発
展はめざましいものがある。、磁気記録媒体の代表例と
して１−ｙｅＯｓ粉末、 ＣｒＯ２粉末、純鉄粉末等番
バインダーとともに高分子フィルムに塗着せしめたいわ
ゆる塗布型の磁気記録媒体がある。
展はめざましいものがある。、磁気記録媒体の代表例と
して１−ｙｅＯｓ粉末、 ＣｒＯ２粉末、純鉄粉末等番
バインダーとともに高分子フィルムに塗着せしめたいわ
ゆる塗布型の磁気記録媒体がある。
ところでこのような塗布型のものよりも保磁力および記
録密度を高めるため、最近、斜め入射蒸着法や斜め入射
イオンブレーティング法によりＦξ。
録密度を高めるため、最近、斜め入射蒸着法や斜め入射
イオンブレーティング法によりＦξ。
偽、Ｎｔ等の強磁性体金属を単独でもしくは合金とし高
分子フィルム基板上に蒸着せしめる蒸着薄膜型磁気記録
媒体が検討され、高い保磁力と高記録密度を有する磁気
記録媒体を得るに至っている。
分子フィルム基板上に蒸着せしめる蒸着薄膜型磁気記録
媒体が検討され、高い保磁力と高記録密度を有する磁気
記録媒体を得るに至っている。
しかし、蒸着薄膜型磁気記録媒体は開発の歴史が浅く、
塗布型に比べ量産性及び工業的な見地からの十分な検討
はなされていない。例えば高分子フィルム上に蒸着した
磁性金属の付着強度、高分子フィルムと各種走行系のロ
ーラ、間に発生する静電気による帯電現象、電子ビーム
等で磁性金属を溶解する場合の帯電現象、また、高分子
フィルムに磁性金属を蒸着する場合に発生するガスの影
響による蒸着膜の不均一性、その他電磁変換特性、信頼
性等の問題がある。
塗布型に比べ量産性及び工業的な見地からの十分な検討
はなされていない。例えば高分子フィルム上に蒸着した
磁性金属の付着強度、高分子フィルムと各種走行系のロ
ーラ、間に発生する静電気による帯電現象、電子ビーム
等で磁性金属を溶解する場合の帯電現象、また、高分子
フィルムに磁性金属を蒸着する場合に発生するガスの影
響による蒸着膜の不均一性、その他電磁変換特性、信頼
性等の問題がある。
本発明者らは上記の点に鑑み、種々検討を行った結果、
優れた磁気特性を有する蒸着薄膜型磁気記録媒体を量産
性よく製造し得るに至った。その製造方法は、高分子フ
ィルムを蒸着前および後の少なくとも一方において ゛
反応性ガスを含むガス中で放電処理を行
うことにより、電気的に中和し、かつ高分子フィルムか
らの放出ガスを調整し、蒸着膜の耐着強度を高め、磁気
記録媒体の緒特性を向上せしめるものである。
優れた磁気特性を有する蒸着薄膜型磁気記録媒体を量産
性よく製造し得るに至った。その製造方法は、高分子フ
ィルムを蒸着前および後の少なくとも一方において ゛
反応性ガスを含むガス中で放電処理を行
うことにより、電気的に中和し、かつ高分子フィルムか
らの放出ガスを調整し、蒸着膜の耐着強度を高め、磁気
記録媒体の緒特性を向上せしめるものである。
以下に本発明の実施例を図面を用いて説明する。
第１図、第２図および第３図は本発明の一実施例を示す
。まず第１図に示すように、真空槽内上方側において、
送り出し軸１から送り出された高分子フィルム２は第１
放電室３を経て、クーリングキャン４に送られ、さらに
第２放電室６を経て巻取り軸６により巻取られる。真空
槽下方側の蒸着室は〜１Ｏ−５ｔｏｒｒの真空度に保た
れ、そこで電子ビー云７によりジルツボ８内の０Ｏ−Ｈ
１蒸着金属９を溶解し蒸発させる。蒸発した蒸着金属は
遮へい板１ｏにより高分子フィルム２上への入射角θを
調整された上で高分子フィルム２上に付着する。
。まず第１図に示すように、真空槽内上方側において、
送り出し軸１から送り出された高分子フィルム２は第１
放電室３を経て、クーリングキャン４に送られ、さらに
第２放電室６を経て巻取り軸６により巻取られる。真空
槽下方側の蒸着室は〜１Ｏ−５ｔｏｒｒの真空度に保た
れ、そこで電子ビー云７によりジルツボ８内の０Ｏ−Ｈ
１蒸着金属９を溶解し蒸発させる。蒸発した蒸着金属は
遮へい板１ｏにより高分子フィルム２上への入射角θを
調整された上で高分子フィルム２上に付着する。
なおここで一般に、走行系のローラは金属で構成されて
いるため高分子フィルムとの間で静電気が発生し、帯電
する。また、電子ビーム溶解法を用いるため帯電が生じ
巻取り時に巻むらやシワが発生する。
いるため高分子フィルムとの間で静電気が発生し、帯電
する。また、電子ビーム溶解法を用いるため帯電が生じ
巻取り時に巻むらやシワが発生する。
そこで本発明においてはこのような問題が生じるのを防
止するため次のような方法を行うものである。すなわち
第２図に示すように放電室に金属電極１２、走行系ロー
ラ１３、ガス導入部１４、およグガス排気部１６を設け
る。そして電極間で放電が生じるようにする。一方、放
電ガスは、第３図に示すように、酸素ガス２１、−酸化
炭素ガス２２、アルゴンガス２３のそれぞれを流量調節
器２４を通した上でガス混合器２５で互いに混合し、次
いで分配器２６４こより４つに分配し放電室内に導入す
る。混合器２６のまわりにはマントルヒーター２６が装
備され混合ガスを昇温できるようになっている。導入ガ
スは放電後不純物を含むためフィルム入口部にガス排気
口を設け、常に放電雰囲気がクリンガスからなるように
している。
止するため次のような方法を行うものである。すなわち
第２図に示すように放電室に金属電極１２、走行系ロー
ラ１３、ガス導入部１４、およグガス排気部１６を設け
る。そして電極間で放電が生じるようにする。一方、放
電ガスは、第３図に示すように、酸素ガス２１、−酸化
炭素ガス２２、アルゴンガス２３のそれぞれを流量調節
器２４を通した上でガス混合器２５で互いに混合し、次
いで分配器２６４こより４つに分配し放電室内に導入す
る。混合器２６のまわりにはマントルヒーター２６が装
備され混合ガスを昇温できるようになっている。導入ガ
スは放電後不純物を含むためフィルム入口部にガス排気
口を設け、常に放電雰囲気がクリンガスからなるように
している。
第４図本発明の他の実施例を示し、この場合放電室内に
第１図のクーリングキャン４とは別なキャン２７を設け
、キャン２７の周辺に電極２８と放電に必要な真空度を
保つためのカバー２９を設けている。他の部分について
は前記実施例の場合と同様である。
第１図のクーリングキャン４とは別なキャン２７を設け
、キャン２７の周辺に電極２８と放電に必要な真空度を
保つためのカバー２９を設けている。他の部分について
は前記実施例の場合と同様である。
本発明の実施にあたっては放電室はＯ，０ｆ−０，１ｔ
ｏｙｒの真空度に保ち、また放電電圧は２００〜１００
０Ｖの範囲とし、ガス流量については０〜１０！／−の
範囲とし、ガス温度は室温〜６００℃の範囲とした。
ｏｙｒの真空度に保ち、また放電電圧は２００〜１００
０Ｖの範囲とし、ガス流量については０〜１０！／−の
範囲とし、ガス温度は室温〜６００℃の範囲とした。
次に本発明を実施した結果を下の表にボす。
表
なｉ、ここで比較のために放゛電処理を蒸着前後には前
記本発明の一実施例を本発明１、また、前記本発明の他
の実施例を本発明２として示した。表中本発明１の場合
、放電室の真空度は一丁δδｔｏマＹ、放電は６００ｖ
、０．９ムで行い、０２ガスとｃｏガスの混合比は１０
：１とした。ガス温度は室温付近である。
記本発明の一実施例を本発明１、また、前記本発明の他
の実施例を本発明２として示した。表中本発明１の場合
、放電室の真空度は一丁δδｔｏマＹ、放電は６００ｖ
、０．９ムで行い、０２ガスとｃｏガスの混合比は１０
：１とした。ガス温度は室温付近である。
本発明２の場合、真空度は暑し１ｒｙ 、放電は６００
Ｖ、０，８ムで行い、０２ガスとｃｏガスの混合比は６
：１とし、ガス温度は７０°Ｃである。試験項目である
付着強度はセロハンテープでの剥離強度試験によるもの
である。巻姿及びシワ、走行性については蒸着時及び蒸
着後の外観から判別した、電磁変換特性については、直
流磁化曲線及び、周波数特性、ＳＺＨ比を調べ、信頼性
については６０′０１９０％ＲＨ雰囲気中で１ケ月の環
境試験結果にもとすく。
Ｖ、０，８ムで行い、０２ガスとｃｏガスの混合比は６
：１とし、ガス温度は７０°Ｃである。試験項目である
付着強度はセロハンテープでの剥離強度試験によるもの
である。巻姿及びシワ、走行性については蒸着時及び蒸
着後の外観から判別した、電磁変換特性については、直
流磁化曲線及び、周波数特性、ＳＺＨ比を調べ、信頼性
については６０′０１９０％ＲＨ雰囲気中で１ケ月の環
境試験結果にもとすく。
上記の表に示した結果から明らかなように、反応性ガス
を含む２種以上の混合ガスを用いて蒸着前後に気体放電
処理することにより、蒸着時の巻および耐食性などに関
しての信頼性が向上した。
を含む２種以上の混合ガスを用いて蒸着前後に気体放電
処理することにより、蒸着時の巻および耐食性などに関
しての信頼性が向上した。
一方反応性を高めるためにガス温度を高めることにより
、放電処理効果が高まり、処理時間は半減することがわ
かった。なお前記実施例においては反応性ガスとして０
２＊ Ｇｏを組合せて用いたが、この他にＯｓｏ Ｈ２
＊ ’Ｉｌ”ｎｐ Ｎｏｘ、 Ｈ２Ｏ２１冊、、 ’Ｎ
２１１４凪弘りじ 刺宜組合せて用いてもよい。また、バランスガスについ
てもムｒの他にＮ２ 、 Ｈｅ 、 Ｈｅ 、等の各種
不活性ガスであればよい。また放電室及び放電電極の構
造についても前記実施例に限定されるものでない。
、放電処理効果が高まり、処理時間は半減することがわ
かった。なお前記実施例においては反応性ガスとして０
２＊ Ｇｏを組合せて用いたが、この他にＯｓｏ Ｈ２
＊ ’Ｉｌ”ｎｐ Ｎｏｘ、 Ｈ２Ｏ２１冊、、 ’Ｎ
２１１４凪弘りじ 刺宜組合せて用いてもよい。また、バランスガスについ
てもムｒの他にＮ２ 、 Ｈｅ 、 Ｈｅ 、等の各種
不活性ガスであればよい。また放電室及び放電電極の構
造についても前記実施例に限定されるものでない。
本発明によると以上のように磁気記録媒体の緒特性を改
良することが容易となる。
良することが容易となる。
第１図、第２図および第３図はそれぞれ本発明の一実施
例を示す図で、このうち第１図は磁気記録媒体が製造さ
れる全体の様子を示し、第２図は放電処理を行う部分を
示し、また、第３図は上記放電処理に用いるガスの供給
系を示す。第４図は本発明の他の実施例で放電処理を行
う部分を示す図である。 ２・・・・・・高分子フィルム、３，６・・・・・・放
電室、４．２７・・・・・・キャン、７・・・・・・電
子ビーム、１２゜２８・・・・・・電極、２６・・・・
・・ガス混合器。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
Ｉ１ ２１１ ！４ ３３
例を示す図で、このうち第１図は磁気記録媒体が製造さ
れる全体の様子を示し、第２図は放電処理を行う部分を
示し、また、第３図は上記放電処理に用いるガスの供給
系を示す。第４図は本発明の他の実施例で放電処理を行
う部分を示す図である。 ２・・・・・・高分子フィルム、３，６・・・・・・放
電室、４．２７・・・・・・キャン、７・・・・・・電
子ビーム、１２゜２８・・・・・・電極、２６・・・・
・・ガス混合器。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
Ｉ１ ２１１ ！４ ３３
Claims (1)
- （１） 高分子フィルム基板上に真空蒸着により磁性
層を形成する前および形成した後の少なくとも一方にお
いて、反応性ガスを含むガス中で上記基板に放電処理を
施すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ＠）反応性ガスを含むガスを加熱することを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11395681A JPS5814328A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11395681A JPS5814328A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5814328A true JPS5814328A (ja) | 1983-01-27 |
Family
ID=14625414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11395681A Pending JPS5814328A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5814328A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5817543A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-02-01 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS58199219A (ja) * | 1982-11-01 | 1983-11-19 | Daikiyoo Bebasuto Kk | サンル−フ装置 |
| JPS59201225A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-14 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPS6234814A (ja) * | 1985-08-08 | 1987-02-14 | Oi Seisakusho Co Ltd | 自動車用サンル−フ装置 |
| JPS6299210A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-08 | Nissan Shatai Co Ltd | アウタスライドル−フ装置 |
| JPS62131816A (ja) * | 1985-12-03 | 1987-06-15 | Oi Seisakusho Co Ltd | スライデイングル−フの開閉装置 |
| US4786102A (en) * | 1986-04-15 | 1988-11-22 | Webasto Ag Fahrzeugtechnik | Sunroof apparatus of vehicle roof |
-
1981
- 1981-07-20 JP JP11395681A patent/JPS5814328A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5817543A (ja) * | 1981-07-22 | 1983-02-01 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS58199219A (ja) * | 1982-11-01 | 1983-11-19 | Daikiyoo Bebasuto Kk | サンル−フ装置 |
| JPS6231658B2 (ja) * | 1982-11-01 | 1987-07-09 | Daikyo Webasto | |
| JPS59201225A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-14 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
| JPS6234814A (ja) * | 1985-08-08 | 1987-02-14 | Oi Seisakusho Co Ltd | 自動車用サンル−フ装置 |
| JPS6299210A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-08 | Nissan Shatai Co Ltd | アウタスライドル−フ装置 |
| JPH0425886B2 (ja) * | 1985-10-25 | 1992-05-06 | Nitsusan Shatai Kk | |
| JPS62131816A (ja) * | 1985-12-03 | 1987-06-15 | Oi Seisakusho Co Ltd | スライデイングル−フの開閉装置 |
| JPH0425892B2 (ja) * | 1985-12-03 | 1992-05-06 | Oi Seisakusho Co Ltd | |
| US4786102A (en) * | 1986-04-15 | 1988-11-22 | Webasto Ag Fahrzeugtechnik | Sunroof apparatus of vehicle roof |
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