JPS6045943A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は塗布磁性層の上に金職薄膜層を設ける磁気記録
媒体の製造方法に関するものである。

従来例の構成と七の問題点 磁気記録は１８９８年にＰｏｕｌｇｅｎ　によ？て発表
されて以来、利用分野が拡大し発展して来た。

初期の頃の磁気記録に用いられた磁気記録媒体は鋼線を
用いて記録した。その後磁気記録装置の開発に伴って磁
気記録媒体も鋼線から酸化鉄粉を用いた塗布型へと移行
し、さらに磁性粉も改良されγ−Ｆ・２０３からＣｒＯ
２，さらに純鉄によるメタルまで達し鋼線や酸化鉄粉か
ら比べ記録密度は飛躍的に向上した。さらに塗布型で記
録密度を高めるために表面の平滑性の向上が行なわれた
。そして記録ヘッドと磁性体との空隙を極上小さくして
スペーシング損失を少なくするだめ塗布層を温度。

圧力処理などにより極めて平滑にした。しかしながら塗
布型の場合磁性層自身の厚さを十分小さくできないなど
他の要因もあって短波長領域での記録には限界があった
。

一方高密度磁気記録媒体に適する媒体として強磁気材料
を用いた金属薄膜型の磁気記録媒体が提案されている。

金属薄膜型の磁気記録媒体は磁性材料を、真空蒸着、ス
パッター、イオングレーティング、メッキなどの方法に
より平滑なペース・表面上に薄膜状に直接形成したもの
である。金属薄膜型の磁気記録媒体は、バインダーによ
り磁性体を固定して磁性層を形成する塗布型に比較して
１００％磁性体であり磁束密度では塗布型の約１０倍と
高密度記録に適した磁気記録媒体である。また磁性層厚
も塗布型の数ミクロン（ロ）に比べて数千、オングスト
ローム（λ）と極めて薄いため短波長領域での厚み損失
や反磁場などの損失が無視できるなどの特徴があり高密
度記録媒体であることが知られている。しかし金属薄膜
型磁気記録媒体は磁性層が薄いため磁性層からの総磁束
数が少なく、低。

中周波数領域での感度が低く、オーディオ用の磁気テー
プに使用するには特性不足である。

発明の目的 本発明は塗布型の高周波特性及び金族薄膜型の低周波数
特性を改良するもので、塗布型磁性層の上に真空蒸業法
、スパッター法、イオングレーティング法等の方法で強
磁性材料からなる金属薄膜型磁性層を形成し低、中周波
数から高周波特性まで優れた特性を持たせるとともに、
金属薄膜表面上への表面処理が容易にできる磁気記録媒
体の製造方法を提供するものである。

発明の構成 本発明は高分子成形物基板上に磁性粉による塗布型磁性
層を第１磁性層とし、該第１磁性層上に真空蒸着法、ス
パッター法、イオンブレーティング法等により強磁性材
料からなる金属薄膜の磁性層を形成し、金属薄膜層表面
をコロナ、グロー放電処理の一つあるいは画処理を行な
い金属薄膜層表面の表面張力を低下させ接触角を水に対
して９０°以下となす磁気記録媒体の製造方法であり、
金属薄膜層表面の表面張力を低下させ金属薄膜層表面に
均一な表面コート層を形成可能としたものである。

実施例の説明 以下本発明の一実施例を揚げて説明する。

第１図に塗布型磁性層の構成を示す。高分子成形物（ポ
リエチレンテレフタレート）基板１上に塗布層２を形成
する。磁性粉３はＧｏ−γ−Ｆθ２０３を用いてポリウ
レタン樹脂、ニトロセルロース樹脂４などにより固定し
た。この後塗布層の磁気記録媒体としての特性を得るた
めに、高温（約８０℃）高圧（約２００Ｋｆ／ｄ）条件
でのカレンダー処理をして、金属薄膜を形成するだめの
塗布原反を形成した。

このようにして形成された塗布層を含む塗布原反を第３
図に示すような真空蒸着装置にて塗布層上にＣｏＮｉ合
金の金属薄膜を形成する。

真空蒸着装置は真空槽１０内を仕切板１６にχり主に蒸
着源が設けられている下室１２と基板の走行が行なわれ
る上室１１に分離しである。上室１１は真空排気口１３
により１０　’Ｔｏｒｒまで、まだ下室１２は真空排気
口１４により１０　’　Ｔｏｒｒまで真空排気ができる
ようにした。

上室１１と下室１２０間に直径５ＱＱｌｌＩｌ中３００
１１１１の蒸着用円筒２１があり蒸着用円筒２１と対向
して下室１２下部に蒸発材料１Ｂを収納する容器１７が
設置しである。本実施例では蒸発材料１８に００８０％
Ｎｉ２Ｏ％を主成分とする合金を用いた。

蒸発材料１８は加熱源１９からの電子ビームで加熱した
。２ｏは蒸発材料１８の蒸発した金属原子群を示す。一
般に蒸着用円筒が入方向に回転するときの基板と初期金
属原子とのなす角を最大入射角θｗａｘと呼び、また蒸
着終了部とのなす角を最小入射角θと呼ぶが実施例では
θＩＩＩＬＸ　＝　９０’、θ−ｏ　０以上であれば本
発明条件を満していた。

１６は最小入射角を制限するだめのマスクである。

蒸着基板である塗布原反３６は巻出軸２２よりフリーロ
ーラ２３１表面処理室２６を通り蒸着用円筒２１の外周
に接して蒸着用円筒２１とともに走行する、塗布層上へ
のＣｏＮｉ合金の蒸着はこの間θＷａＸとθの間で行な
われる。ここで蒸着により金属薄膜による磁性層を形成
された蒸着原反３７はフリーローラ２４から表面処理室
２６′を経て巻取軸２６に巻回される。

本実施例での蒸着条件は、真空度が２Ｘ１０−５Ｔｏｒ
ｒ以下で、蒸着速度は１００ｏ″Ａ／ｓｅａ　とし雰囲
気は酸素ガスにて制御した。

表面処理室２６．２６’は基板の通過部にスリット２７
が有りその他の部分はカバーで覆われでいる。放電電極
２８．２９は基板表面に近接して設けである。電極は直
径が６０ｆｉ長さ６０ｏｆｌの円筒状であり筒の中に外
径ＪＱＩ１ｍｌ内径２０１１１厚さ２０Ｍ１１のドーナ
ツ形の永久磁石が（Ｎ−８）−（Ｎ−５）−（Ｓ−Ｎ　
）−（Ｓ　−Ｎ　）極の順に挿入したマグネトロンタイ
プを用いた。この２本の電極に電圧３１．３２を印加し
て電極の周囲に放電を生じさせた。印加電圧は交流でも
直流でも目的とする金属薄膜の表面処理に十分な効果が
あった。放を状態のコントロールは印加電圧及びパルプ
３６を経て導入管３３から供給されるガス３４にて制御
した。ガス３４は量及び種類によって制御が可能であり
、酸素、空気、窒素、アルゴン等を用いたが全て同等の
効果を示した。また放電電極に関しては上記のマグネト
ロンタイプ以外に直径１０ｆｉのアルミニウム棒電極を
数本使用し棒電極間に電圧を印加して放電させても同一
の効果が得られた。第２図に塗布層４上へ金属薄膜６及
び表面コート層６を設けた磁気記録媒体を示す。

このように塗布層上に真空蒸着により金属薄膜を形成し
た蒸着原反の放電処理効果を下表に示す。

表に示す如く金属薄膜の表面を放電処理することにより
Ｈ２Ｏや溶剤との接触角を小さくすることができる。こ
れは金属薄膜の表面張力を小さくすることであり、 １）均一な表面コート層が形成でき、磁気記録媒体表面
の滑性を確保できる。

２）上記表面滑性の向上によりオーディオ等の磁気テー
プとして使用する場合のテープを安定走行させることが
できる。

３）均一な表面コート層により金属薄膜の防錆効果が高
められる。

などの優れた特長が得られる。また放電処理方法も金属
薄膜の形成工程内でできるため生産工程の増加がなく工
業的効果も大である。

尚本発明は上記実施例中に述べた形状９寸法。

材料限定されるものではなく、磁気記録媒体を構成する
素材も磁気記録媒体としての特性を得られるものなら全
て可能である。

発明の効果 本発明によれば、金属薄膜層の表面に放電処理を施すこ
とにより表面張力を小さくし接触角を小さくできるので
、金属薄膜層へ表面コート層を均一に發つ滑性度よく形
成できる。しだがって耐性。

滑性とも向上させた磁気記録媒体が実現でき、上記放電
処理工程も金属薄膜の形成工程にひきつづき同一の装置
内で行なうことが可能であり、量産性にも優れた製造方
法を提供できるものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は塗布型磁気記録媒体の構成図、第２図は本発明
で得られる磁気記録媒体の構成図、第３図は本発明の実
施に適する製造装置の構成図である。 １・・・・・・高分子成形物基板、２・・−・・・塗布
層、３・・・・・・磁性粉、６・・・・・・金属薄膜、
６・・・・・・表面コート層、１０・・・・・・真空槽
、１８・・・・・・蒸発材料、２６．２６’・・・・・
・表面処理室、２Ｂ　、２９・・・・・・放電電極、３
７・・・・・・蒸着原反。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図 ？ 第　２　図 第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高分子成形物基板上に磁性粉による塗布第一磁性層を形
   成した後、第一磁性層上に真空蒸着法、スパッター法、
   イオンプレイティング法のいずれかの方法で強磁性材料
   から成る金属薄膜層を形成し、前記金属薄膜層表面をコ
   ロナ、グロー放電処理の一つあるいは画処理を行ない金
   属薄膜層表面の接触角を水（１２０）に対し９００以下
   となしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。