JPS63282921A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS63282921A JPS63282921A JP62118521A JP11852187A JPS63282921A JP S63282921 A JPS63282921 A JP S63282921A JP 62118521 A JP62118521 A JP 62118521A JP 11852187 A JP11852187 A JP 11852187A JP S63282921 A JPS63282921 A JP S63282921A
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気テープ、磁気ディスク、磁気カード等に
用いられる、磁性層が金属薄膜よりなる磁気記録媒体の
製造方法に関する。特に耐蝕性に優れ、かつ走行耐久性
にも優れ念金４薄膜型磁気記録媒体の製造方法、に関す
る。
用いられる、磁性層が金属薄膜よりなる磁気記録媒体の
製造方法に関する。特に耐蝕性に優れ、かつ走行耐久性
にも優れ念金４薄膜型磁気記録媒体の製造方法、に関す
る。
従来磁気記録には磁性粉末を有機バインダー等でくるみ
、支持体上に塗布形成せしめた、いわゆる塗布型磁気記
録媒体が使用されてきた。しかるに、近年の高密度記録
への要求は磁気記録媒体の性能向上を要求し、高抗磁力
、高飽和磁束密度？有し磁性層は薄層化するという方向
へと移行しつつある。かかる要求に甘さに合致する磁気
記録媒体として磁性層が金属薄膜より成る、いわゆる金
属薄膜型磁気記録媒体が登場し、一部芙用に供せられて
いる。金属薄膜は前記塗布型磁性膜の如く非磁性部分を
多く含１ず高飽和磁束密度を有する。
、支持体上に塗布形成せしめた、いわゆる塗布型磁気記
録媒体が使用されてきた。しかるに、近年の高密度記録
への要求は磁気記録媒体の性能向上を要求し、高抗磁力
、高飽和磁束密度？有し磁性層は薄層化するという方向
へと移行しつつある。かかる要求に甘さに合致する磁気
記録媒体として磁性層が金属薄膜より成る、いわゆる金
属薄膜型磁気記録媒体が登場し、一部芙用に供せられて
いる。金属薄膜は前記塗布型磁性膜の如く非磁性部分を
多く含１ず高飽和磁束密度を有する。
磁性金属薄膜の作成法としては、電解メッキ、無電解メ
ッキ等の湿式処理による作成法、あるいは真空蒸着法、
イオンブレーティング法、スパッタリング法等の乾式処
理による作成法があるが、生産の容易さ、再現性の良さ
、あるいは安定性という点から、後者の乾式処理による
作成法が注目され種々の研究がなされている。それらは
例えば、真空蒸着法によるコバルト系合金の斜め蒸着成
膜（いわゆる蒸着テープ）であシ、おるいはスパッタリ
ング法によるコバルト・クロム合金の垂直磁化膜成膜等
である。
ッキ等の湿式処理による作成法、あるいは真空蒸着法、
イオンブレーティング法、スパッタリング法等の乾式処
理による作成法があるが、生産の容易さ、再現性の良さ
、あるいは安定性という点から、後者の乾式処理による
作成法が注目され種々の研究がなされている。それらは
例えば、真空蒸着法によるコバルト系合金の斜め蒸着成
膜（いわゆる蒸着テープ）であシ、おるいはスパッタリ
ング法によるコバルト・クロム合金の垂直磁化膜成膜等
である。
Ｃ本発明が解決しようとする問題点〕
以上のように磁気特性的、あるいは電磁変換特性的に金
属薄膜型磁気記録媒体は理想的であるものの、金属薄膜
である、という点から耐蝕性に劣る、という弱点を有し
ている。よって金属薄膜型磁気記録媒体の研究には常に
耐蝕性解決という問題が何句してくる。その対策として
は種々の提案がなされておシ、例えば磁性金属薄膜の表
面等全酸化、窒化、あるいは炭化させるという手段（例
えば特開昭３０−３３１０６号公報）金属薄膜の表面上
にＳｔ Ｏ２、Ｓｒ Ｃ等の保護被膜を設けるという手
段（例えば特開昭ｊＯ−１０μ６０２号公報）あるいは
磁性金属成分中に耐腐食性に優れた添加元素を加えるも
の（列えは特開昭！Ｗ−ｔＧ１０７３号公報）等といっ
た提案がこれ１でなされてきた。しかるにこれらの手段
はいずれも磁化を低下させるものであり、金属薄膜媒体
の有利さを損なうことなく耐蝕性を保持する方法が望ま
れている。
属薄膜型磁気記録媒体は理想的であるものの、金属薄膜
である、という点から耐蝕性に劣る、という弱点を有し
ている。よって金属薄膜型磁気記録媒体の研究には常に
耐蝕性解決という問題が何句してくる。その対策として
は種々の提案がなされておシ、例えば磁性金属薄膜の表
面等全酸化、窒化、あるいは炭化させるという手段（例
えば特開昭３０−３３１０６号公報）金属薄膜の表面上
にＳｔ Ｏ２、Ｓｒ Ｃ等の保護被膜を設けるという手
段（例えば特開昭ｊＯ−１０μ６０２号公報）あるいは
磁性金属成分中に耐腐食性に優れた添加元素を加えるも
の（列えは特開昭！Ｗ−ｔＧ１０７３号公報）等といっ
た提案がこれ１でなされてきた。しかるにこれらの手段
はいずれも磁化を低下させるものであり、金属薄膜媒体
の有利さを損なうことなく耐蝕性を保持する方法が望ま
れている。
更に云えば耐蝕性、腐食性と一口に呼んでも多くの耐蝕
性がある。つまり、いわゆる結露、発露（あるいはその
サイクル）による錆発生、海岸近くでみられる微粒塩を
核とした塩害、更に）１２Ｓ。
性がある。つまり、いわゆる結露、発露（あるいはその
サイクル）による錆発生、海岸近くでみられる微粒塩を
核とした塩害、更に）１２Ｓ。
Ｓ ０２ 、Ｎ Ｏｘガス等腐食性ガスによるものとい
った具合であり、同一の金属材料をもってしても殆んど
同一の材料と思えぬほどに腐食の態様は異なるものであ
る。従来、金属薄模型磁気記録媒体の耐蝕性評価は、上
記の結露プロセスの錆発生の有無、高温高湿（例えば４
ｏ０ＣりＯ％ＲＨ）雰囲気下保存での飽和磁束量の減少
といった点が主になされているが、本発明者らは更に腐
食性ガスによる腐食テストヲ各種磁気記録媒体につき実
施し、金属薄膜型磁気記録媒体特にコパル）ｆ主成分と
して含む金属薄膜媒体はＳＯ２ガスに対する耐蝕性に劣
ることを見出した。金属薄膜媒体の使用環境を考えるに
、ＳＯ２ガス汚染雰囲気は大都市工場地帯、等あるいは
欧州の一部等がめシ、充分な実用性能を持った磁気記録
媒体としては耐Ｓ０２ガス腐食性全付与する必要があっ
た。
った具合であり、同一の金属材料をもってしても殆んど
同一の材料と思えぬほどに腐食の態様は異なるものであ
る。従来、金属薄模型磁気記録媒体の耐蝕性評価は、上
記の結露プロセスの錆発生の有無、高温高湿（例えば４
ｏ０ＣりＯ％ＲＨ）雰囲気下保存での飽和磁束量の減少
といった点が主になされているが、本発明者らは更に腐
食性ガスによる腐食テストヲ各種磁気記録媒体につき実
施し、金属薄膜型磁気記録媒体特にコパル）ｆ主成分と
して含む金属薄膜媒体はＳＯ２ガスに対する耐蝕性に劣
ることを見出した。金属薄膜媒体の使用環境を考えるに
、ＳＯ２ガス汚染雰囲気は大都市工場地帯、等あるいは
欧州の一部等がめシ、充分な実用性能を持った磁気記録
媒体としては耐Ｓ０２ガス腐食性全付与する必要があっ
た。
したがって、本発明の目的は、ＳＯ２ガスに対し十分な
耐腐食性を有し、かつ摩擦係数の低減さｎた磁気記録媒
体を提供することにある。
耐腐食性を有し、かつ摩擦係数の低減さｎた磁気記録媒
体を提供することにある。
本発明者は、上記問題点に対し媒体の製造方法、及び製
造工程の点から検討を加え、簡便な手段にて上記問題点
を解決することができた。
造工程の点から検討を加え、簡便な手段にて上記問題点
を解決することができた。
すなわち、不発明は非磁性基体上に金属薄膜磁性層を設
け、更に該金属薄膜磁性層上に潤滑、保護層を設ける製
造方法において、上記金属薄膜磁性層表面金グロー放電
雰囲気にさらし、その後直ち罠保護潤滑層ケ設けること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法、に関する。
け、更に該金属薄膜磁性層上に潤滑、保護層を設ける製
造方法において、上記金属薄膜磁性層表面金グロー放電
雰囲気にさらし、その後直ち罠保護潤滑層ケ設けること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法、に関する。
但し、テープ形態で使用するため、磁性膜と逆側の面に
パック・コーティング層金設けること、あるいは基体と
磁性膜の間に面状改良、磁性膜結晶性改良等の目的で中
間層を設けること、あるいは表裏両面共に磁性金属薄膜
を設けること等の手段を付加することはできる。また、
本発明の一改良形態として磁性金属薄膜上に金属、酸化
物、窒化物、炭化物等の保護膜を設置し、この上に本発
明の手段、即ち表面をグロー放電に嘔らし、その ｊ− 後直ちに保護潤滑層を設けることもできる。
パック・コーティング層金設けること、あるいは基体と
磁性膜の間に面状改良、磁性膜結晶性改良等の目的で中
間層を設けること、あるいは表裏両面共に磁性金属薄膜
を設けること等の手段を付加することはできる。また、
本発明の一改良形態として磁性金属薄膜上に金属、酸化
物、窒化物、炭化物等の保護膜を設置し、この上に本発
明の手段、即ち表面をグロー放電に嘔らし、その ｊ− 後直ちに保護潤滑層を設けることもできる。
金属薄膜型磁気記録媒体の製造に際してグロー放１ｔヲ
利用することに関しては、例えば、磁性薄膜成膜中にグ
ロー放電全共存させる技術であり、これはもつとも簡単
な形態のイオンブレーテインダ法である。また、磁性膜
成膜直後酸化性ガスのグロー放電にさらす技術（特願昭
３ター、２７ｔ２．２７号公報）等もある。
利用することに関しては、例えば、磁性薄膜成膜中にグ
ロー放電全共存させる技術であり、これはもつとも簡単
な形態のイオンブレーテインダ法である。また、磁性膜
成膜直後酸化性ガスのグロー放電にさらす技術（特願昭
３ター、２７ｔ２．２７号公報）等もある。
更に、従来の巻取蒸着装償は、通常成膜ゾーンの直前、
直後にグロー放電ゾーンを有する（例えば第７図つ。第
１図では下室≠内にて真空蒸着成膜をする直前及び直後
にてグロー放電ゾーン３、りを有している。成膜ゾーン
直前の放電ゾーン３は主に基板／／にイオンボンバード
処理ｋｍして基板？物理的に洗浄する作用が主である。
直後にグロー放電ゾーンを有する（例えば第７図つ。第
１図では下室≠内にて真空蒸着成膜をする直前及び直後
にてグロー放電ゾーン３、りを有している。成膜ゾーン
直前の放電ゾーン３は主に基板／／にイオンボンバード
処理ｋｍして基板？物理的に洗浄する作用が主である。
対して成膜ゾーン直後の放電ゾーンタは成膜後の磁気記
録媒体に除電全施し、シワ等金防ぐのが主な目的である
。つ１りこれらのグロー放電処理は上記の機能を持つも
のであシ、本発明のグロー放電処理とはその目的を異に
するものである。
録媒体に除電全施し、シワ等金防ぐのが主な目的である
。つ１りこれらのグロー放電処理は上記の機能を持つも
のであシ、本発明のグロー放電処理とはその目的を異に
するものである。
本発明は例えば第１図の如き装置で巻取軸１０に巻き取
られた巻取蒸着品の処理工程に関している。この巻取蒸
着品全巻きほぐしつつグロー放電にさらし、かつその後
直ちに保護潤滑層を塗布するものである。グロー放電処
理は別途の専用装置全使用しても良いが第１図の装置を
兼用することも関便である。この時には下呈≠内の真空
蒸着作業は行なわず、図の搬送系を逆転して放電ゾーン
タ、３を使ってグロー放電処理しても良い。あるいは放
置しておいた巻取蒸着品を第１図の装置にセットし、放
電ゾーン３％Ｆ（６るいは片側）のみを作動させてグロ
ー放電処理しても良い。放電ゾーン内にはＮｅ、Ａｒ、
Ｋｒ等の希ガスあるいは０２、Ｎ２、ＣＯ２等の標準的
なガス等を導入してグロー放ｔｆｆｉ起こさせる。こ九
は目的によるわけであって、膜表面の物理的改質を望め
ば希ガスを使い、同じく化学的改質を望めば反応性ガス
全便う、という具合に選択すれば良い。但し、放電特性
は導入ガス種、あるいは圧力によシ大きく異なることは
当然でおシその都度適した条件を見出す必要がある。
られた巻取蒸着品の処理工程に関している。この巻取蒸
着品全巻きほぐしつつグロー放電にさらし、かつその後
直ちに保護潤滑層を塗布するものである。グロー放電処
理は別途の専用装置全使用しても良いが第１図の装置を
兼用することも関便である。この時には下呈≠内の真空
蒸着作業は行なわず、図の搬送系を逆転して放電ゾーン
タ、３を使ってグロー放電処理しても良い。あるいは放
置しておいた巻取蒸着品を第１図の装置にセットし、放
電ゾーン３％Ｆ（６るいは片側）のみを作動させてグロ
ー放電処理しても良い。放電ゾーン内にはＮｅ、Ａｒ、
Ｋｒ等の希ガスあるいは０２、Ｎ２、ＣＯ２等の標準的
なガス等を導入してグロー放ｔｆｆｉ起こさせる。こ九
は目的によるわけであって、膜表面の物理的改質を望め
ば希ガスを使い、同じく化学的改質を望めば反応性ガス
全便う、という具合に選択すれば良い。但し、放電特性
は導入ガス種、あるいは圧力によシ大きく異なることは
当然でおシその都度適した条件を見出す必要がある。
上記グロー放電処理全行ない更にその後直ちに保護潤滑
層全磁性薄膜表面に塗布する。直ちに、という言葉は定
量性に欠けるうらみかめるが、グロー放電処理を行なっ
ても、その後の塗布工程との間に時間上おくと表面が空
気中の不純物で汚されてしまうためでおろうが効果を失
してしまう。
層全磁性薄膜表面に塗布する。直ちに、という言葉は定
量性に欠けるうらみかめるが、グロー放電処理を行なっ
ても、その後の塗布工程との間に時間上おくと表面が空
気中の不純物で汚されてしまうためでおろうが効果を失
してしまう。
が、本発明の巻取蒸着品の場会は、巻かれた形状にある
ためその間にはさま７″した金属薄膜表面は割合に清浄
な状態に長くとどめることができ、この両工程のインタ
ーバルは７０時間以内、望ましくは７時間以内である。
ためその間にはさま７″した金属薄膜表面は割合に清浄
な状態に長くとどめることができ、この両工程のインタ
ーバルは７０時間以内、望ましくは７時間以内である。
一方、パッチ装置、インライン装置で作成さｎるような
シート形状のものけ表面の汚染が早く進むため、この両
工程のインターバルは７時間以内望ましくは７０分以内
でめる。
シート形状のものけ表面の汚染が早く進むため、この両
工程のインターバルは７時間以内望ましくは７０分以内
でめる。
伺、７個の装置にグロー放電処理ゾーンと滑剤塗布ゾー
ン全ともにそなえた形態とすれば、上記の様なインター
バルの問題は消失する（第２図９゜第２図では巻取蒸着
品、２７會送シ出し、グロー放電ゾーン、２３でグロー
放電処理全行ない、塗布ヘッド２４Ｌにて保護潤滑層を
塗布し、乾燥シー７２ｊにてこれ全乾燥する。
ン全ともにそなえた形態とすれば、上記の様なインター
バルの問題は消失する（第２図９゜第２図では巻取蒸着
品、２７會送シ出し、グロー放電ゾーン、２３でグロー
放電処理全行ない、塗布ヘッド２４Ｌにて保護潤滑層を
塗布し、乾燥シー７２ｊにてこれ全乾燥する。
保護潤滑層に使用される化合物としてはオレイン酸、ミ
リステ／酸、ステアリン酸、等の炭素数／２〜／Ｊ’個
の脂肪酸、それらの金属塩、それらのエステル、及びそ
れら脂肪酸のフッ素償換化合物等がありうるが、少なく
とも３０％以上脂肪酸あるいは脂肪酸金属塩を含有する
ことが望ましい。
リステ／酸、ステアリン酸、等の炭素数／２〜／Ｊ’個
の脂肪酸、それらの金属塩、それらのエステル、及びそ
れら脂肪酸のフッ素償換化合物等がありうるが、少なく
とも３０％以上脂肪酸あるいは脂肪酸金属塩を含有する
ことが望ましい。
これらの塗布量は３〜３０ ｍｇ／ ” ％好１しく
は３〜７３〜７ｍ でめる。逆に金属薄膜表面と親和性
の強い官能基を持たない化合物は本発明の効果が十分に
得られない。
は３〜７３〜７ｍ でめる。逆に金属薄膜表面と親和性
の強い官能基を持たない化合物は本発明の効果が十分に
得られない。
これらの化合物は、メタノール、エタノール、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等の有機溶剤に適
宜溶解し通常の方法によジ塗布される。
チルケトン、メチルイソブチルケトン等の有機溶剤に適
宜溶解し通常の方法によジ塗布される。
金属磁性薄膜層を形成する金属合金としては、ＣＯ主体
の金属合金例えばＣｏ、Ｃｏ−Ｎｔ。
の金属合金例えばＣｏ、Ｃｏ−Ｎｔ。
Ｃｏ−Ｃｒ、Ｇｏ−ＦｅＸＣｏ−Ｐｔ、 Ｃｏ−Ｒｅ等
がある。筐た、本発明の効果のｌ：）である−ター 耐５（Ｊ２腐食性ではＣｏ主体合金はどには弱くないも
のの、後に実施例で述べるように走行耐久性の点からＦ
ｅ、ＴｂＦｅ、ＰｅＣｏ、ＴｂＦｅＣｏ、Ｆｅ−Ｎ、Ｆ
ｅＱｘ等の金属を薄膜化したものも本発明の効果かえら
れる。
がある。筐た、本発明の効果のｌ：）である−ター 耐５（Ｊ２腐食性ではＣｏ主体合金はどには弱くないも
のの、後に実施例で述べるように走行耐久性の点からＦ
ｅ、ＴｂＦｅ、ＰｅＣｏ、ＴｂＦｅＣｏ、Ｆｅ−Ｎ、Ｆ
ｅＱｘ等の金属を薄膜化したものも本発明の効果かえら
れる。
以下実施例に基づいて更に説明するが本発明は以下の実
施例にのみ限られるものではない。
施例にのみ限られるものではない。
（実施例１）
第１図に示す真空蒸着装置を用いてＣｏＮ１−Ｕ蒸着テ
ープを作成した。材料は”８ＯＮ’２゜を用い、１００
ｍｍ幅の２μ厚ポリエチレンテレフタレートフイルム上
に酸素を導入し一’）つ、２００ｏｈ厚のＣｏＮ１Ｕ磁
性層を付着せしめ、巻き取りローラ１０に巻きとった。
ープを作成した。材料は”８ＯＮ’２゜を用い、１００
ｍｍ幅の２μ厚ポリエチレンテレフタレートフイルム上
に酸素を導入し一’）つ、２００ｏｈ厚のＣｏＮ１Ｕ磁
性層を付着せしめ、巻き取りローラ１０に巻きとった。
この巻取蒸着品を大気中に３日間放置した後、再び第１
図の送シだしローラコにセットし、グロー放電ゾーンＱ
−作動畑せてグロー放電雰囲気した。？内にはＡｒを導
入し、放電電圧はＡＣｌｏＯＯＶ、 グロー電流値は０
、／ ｊ ｍＡ／ｃｒｎ２の条件でｉｏ秒間磁性層表
面をボンバードする。こうして得られたサンプル全真空
槽よシ取りだし、３０分後に磁性層表面にステアリン酸
のメチルエチルケトン溶液を塗布量ｆ／２ｍｙ／ｍ
となるよう塗布した。しかる後にこれｆ ｒ ｍ ｍ幅
に裁断してスリットサンプルを得た。
図の送シだしローラコにセットし、グロー放電ゾーンＱ
−作動畑せてグロー放電雰囲気した。？内にはＡｒを導
入し、放電電圧はＡＣｌｏＯＯＶ、 グロー電流値は０
、／ ｊ ｍＡ／ｃｒｎ２の条件でｉｏ秒間磁性層表
面をボンバードする。こうして得られたサンプル全真空
槽よシ取りだし、３０分後に磁性層表面にステアリン酸
のメチルエチルケトン溶液を塗布量ｆ／２ｍｙ／ｍ
となるよう塗布した。しかる後にこれｆ ｒ ｍ ｍ幅
に裁断してスリットサンプルを得た。
（比較例１）
、実施例／にてグロー放電処理を行わずその他の条件は
同じとしてスリットサンプルを得た。
同じとしてスリットサンプルを得た。
（実施例２）
通常のパツナ式スパッタリング装置にて、ＲＦス／冑フ
ッタリング法よりＣｏ Ｃｒ 組成よシなるＣ
ｏＣｒ媒体をポリイミドベース上に得た（嗅厚３０００
Ａ）このシート媒体を同じ装置内に放置した壕壕Ａｒグ
ロー放′亀雰囲気にさらした。
ッタリング法よりＣｏ Ｃｒ 組成よシなるＣ
ｏＣｒ媒体をポリイミドベース上に得た（嗅厚３０００
Ａ）このシート媒体を同じ装置内に放置した壕壕Ａｒグ
ロー放′亀雰囲気にさらした。
しかる後装置内に乾燥Ｎ２に送りこんでリークし、磁性
層表面上にオレイン酸銅浴液を手塗りで塗布した。
層表面上にオレイン酸銅浴液を手塗りで塗布した。
（比較例２）
実施例コにてグロー放電処理全行わずその他の条件は同
じとしてシートサンプル？得た。
じとしてシートサンプル？得た。
以上のようにして得られたサンプルにつき対ＳＯ２性を
調べた。腐食性試験は山崎精機研究所製ガス腐負試験装
置Ｇｌ、Ｐ−タ／Ｃ型？用いＳＯ２／ ｐ ｐｍ２ ｊ
ｏＣ７！％Ｒ）ｌ雰囲気下に７２時間放置した後外観
検査し評価した。また実施例／、比較例／のサンプルに
ついては、２３°０．５０％ＲＨ雰囲気中でＩＥＣ式牽
擦係数全ステンレスガイドボールに対して測定した。
調べた。腐食性試験は山崎精機研究所製ガス腐負試験装
置Ｇｌ、Ｐ−タ／Ｃ型？用いＳＯ２／ ｐ ｐｍ２ ｊ
ｏＣ７！％Ｒ）ｌ雰囲気下に７２時間放置した後外観
検査し評価した。また実施例／、比較例／のサンプルに
ついては、２３°０．５０％ＲＨ雰囲気中でＩＥＣ式牽
擦係数全ステンレスガイドボールに対して測定した。
すなわち本発明によれば金属薄膜型磁気記録媒体の対Ｓ
Ｏ２腐食性を大きく改良できる。また、μ値の安定性が
高いこともわかる。金稿薄膜磁性層表面と潤滑保護層と
の密着が良く結合が強固であることがこれらの効果をも
たらす原因と推測される。
Ｏ２腐食性を大きく改良できる。また、μ値の安定性が
高いこともわかる。金稿薄膜磁性層表面と潤滑保護層と
の密着が良く結合が強固であることがこれらの効果をも
たらす原因と推測される。
第７図は従来の巻取式蒸着装置を示す図である。
２：送ｐ出しローラ ３，９ニゲロー放電ゾーン
３：冷却ドラム ７：電子ビーム銃／ｌ：基体
第２図はグロー放電ゾーンを備えた塗布機を示す図であ
る。 ２１：送り出しローラ −１２：基体（被塗布品）２３
ニゲロー放電ゾーン ２グ：塗布ヘッド ２！：乾燥ゾーン特許出願人
富士写真フィルム株式会社第１図 第′図 ２３ 土１ ■）σ ６°ノ ２５ＩＴｌ／／、−２４
る。 ２１：送り出しローラ −１２：基体（被塗布品）２３
ニゲロー放電ゾーン ２グ：塗布ヘッド ２！：乾燥ゾーン特許出願人
富士写真フィルム株式会社第１図 第′図 ２３ 土１ ■）σ ６°ノ ２５ＩＴｌ／／、−２４
Claims (1)
- （１）非磁性基体上に磁性金属薄膜を設け、更にその上
に保護潤滑層を設ける磁気記録媒体の製造方法において
、該薄膜を設けた後、該薄膜表面をグロー放電雰囲気に
さらし、その後直ちに、保護潤滑層を設けることを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62118521A JPS63282921A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US07/192,981 US4876113A (en) | 1987-05-15 | 1988-05-12 | Method for producing magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62118521A JPS63282921A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63282921A true JPS63282921A (ja) | 1988-11-18 |
Family
ID=14738675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62118521A Pending JPS63282921A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4876113A (ja) |
| JP (1) | JPS63282921A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Citations (2)
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| JPS567235A (en) * | 1979-07-02 | 1981-01-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its production |
| JPS6045943A (ja) * | 1983-08-20 | 1985-03-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0685216B2 (ja) * | 1985-04-11 | 1994-10-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1987
- 1987-05-15 JP JP62118521A patent/JPS63282921A/ja active Pending
-
1988
- 1988-05-12 US US07/192,981 patent/US4876113A/en not_active Ceased
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS567235A (en) * | 1979-07-02 | 1981-01-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium and its production |
| JPS6045943A (ja) * | 1983-08-20 | 1985-03-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4876113A (en) | 1989-10-24 |
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