JPS59157826A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS59157826A JPS59157826A JP58031561A JP3156183A JPS59157826A JP S59157826 A JPS59157826 A JP S59157826A JP 58031561 A JP58031561 A JP 58031561A JP 3156183 A JP3156183 A JP 3156183A JP S59157826 A JPS59157826 A JP S59157826A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
形成してなる磁気記録媒体の強磁性金属薄膜層におけろ
腐食の問題を解決した、改良された磁気記録媒体の製造
方法に関する。
腐食の問題を解決した、改良された磁気記録媒体の製造
方法に関する。
近年、高密度磁気記録への要求の高まりとともに真空蒸
着、スパッタリング、イオングＶ −ティング等の方法
により、非磁性基材上に強磁性金属薄膜層を形成したい
わゆる金属薄膜型の磁気記録媒体が開発されている。こ
れらの金属薄膜型の磁気記録媒体は通常のバインダー？
使用する磁気記録媒体に比べて高密度記録が可能である
他、種々の利点を有しており実用化への努力が種々性わ
れている。
着、スパッタリング、イオングＶ −ティング等の方法
により、非磁性基材上に強磁性金属薄膜層を形成したい
わゆる金属薄膜型の磁気記録媒体が開発されている。こ
れらの金属薄膜型の磁気記録媒体は通常のバインダー？
使用する磁気記録媒体に比べて高密度記録が可能である
他、種々の利点を有しており実用化への努力が種々性わ
れている。
しかしこのよウＴｘ金属薄膜型の磁気記録媒体の強磁性
金属薄膜層として通常よく用いられるＣｏあるいばＦｅ
等を含む強磁性薄膜層は材料組成そのものが腐食に対し
て弱く、又Ｃｏを含む強磁性薄膜層の場合、磁気記録媒
体としての磁気特性を向上させるため一途には斜め蒸着
法により形成するので薄膜の構造は柱状構造となり，柱
状粒子と柱状粒子との間にすき間が生じているため、腐
食の問題は重大である。又、強磁性薄膜層形成時の基材
の熱ダメージを少な（する、磁気記録媒体としての出力
を大きくする、ノイズを減少させ木等の目的から強磁性
薄膜層を厚み方向に複数に分割（例えば３分割）し、分
割された各強磁性薄膜層間の中間膜として非磁性金属、
例えばＡＩ、 Ｃｒ、 Ｔｉ、 Ｓｎ等の金属膜が配さ
れている。このような中間膜を伴なう層構成で磁気記録
媒体が形成されていると、中間膜と強磁性薄膜層との間
で電気化学的な腐食が生じるため、腐食が進行しやす（
、このような金属薄膜型の磁気記録媒体の最大の欠点と
なっている。
金属薄膜層として通常よく用いられるＣｏあるいばＦｅ
等を含む強磁性薄膜層は材料組成そのものが腐食に対し
て弱く、又Ｃｏを含む強磁性薄膜層の場合、磁気記録媒
体としての磁気特性を向上させるため一途には斜め蒸着
法により形成するので薄膜の構造は柱状構造となり，柱
状粒子と柱状粒子との間にすき間が生じているため、腐
食の問題は重大である。又、強磁性薄膜層形成時の基材
の熱ダメージを少な（する、磁気記録媒体としての出力
を大きくする、ノイズを減少させ木等の目的から強磁性
薄膜層を厚み方向に複数に分割（例えば３分割）し、分
割された各強磁性薄膜層間の中間膜として非磁性金属、
例えばＡＩ、 Ｃｒ、 Ｔｉ、 Ｓｎ等の金属膜が配さ
れている。このような中間膜を伴なう層構成で磁気記録
媒体が形成されていると、中間膜と強磁性薄膜層との間
で電気化学的な腐食が生じるため、腐食が進行しやす（
、このような金属薄膜型の磁気記録媒体の最大の欠点と
なっている。
特に中間膜として用いられる非磁性金檎としてＡ１を用
いた場合、膜形成の容易さ、磁気特性に悪影響な与えな
いこと、低価格等の面からは非常にすぐれている反面、
前述した電気化学的な腐食が者しく、大きな問題点とな
・つている。
いた場合、膜形成の容易さ、磁気特性に悪影響な与えな
いこと、低価格等の面からは非常にすぐれている反面、
前述した電気化学的な腐食が者しく、大きな問題点とな
・つている。
本発明者は上記した従来技術の欠点を解消せんとして、
種々研究の結果、非磁性金属薄膜層を形成するのに反応
ガス中でイオンブレーティング法を行なうと、上記の欠
点が解消されることが見い出された。
種々研究の結果、非磁性金属薄膜層を形成するのに反応
ガス中でイオンブレーティング法を行なうと、上記の欠
点が解消されることが見い出された。
本発明は上記の事実にもとづ（ものであって、即ち、本
発明、は、非砿性基材上に、非磁性金属薄１模層を形成
させる工程と強磁性金属薄膜層を形成させる工程とを記
載順に行ない、必要に応磁性金稿薄膜層の形成を、非磁
性金属を用いた反応ガス中におけるイオンブレーティン
グ法により行なうことを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法をその主旨とするものである。
発明、は、非砿性基材上に、非磁性金属薄１模層を形成
させる工程と強磁性金属薄膜層を形成させる工程とを記
載順に行ない、必要に応磁性金稿薄膜層の形成を、非磁
性金属を用いた反応ガス中におけるイオンブレーティン
グ法により行なうことを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法をその主旨とするものである。
以下本発明について記す。
本発明による磁気記録媒体の製造方法において。
まずポリエステル、ポリイミド、ポリアミド等のプラス
チックフィルム等の非磁性基材ｌ上に非磁性金属薄膜層
−を非磁性金拠の薄膜形成時に該金属と反応する酸素、
窒素等の反応ガス中でイオンブレーティングにより形成
する場合、非磁性金属ビ溶融加熱する手段としては通常
の抵抗加熱、電子ビーム加熱、筒周波誘導加熱等が使用
でき、又イオン化する手段としては直流励起、交流励起
のいずれを用いてもよく、反応ガス中でグロー放電ヲ生
じさせればよい。反応ガス中でイオンブレーティングに
より非磁性金属薄膜層を形成する場合、例えば反応ガス
としてチッ素な用い、非磁性金属としてＡＩを用いた時
にはＡ１層の少な（とも一部がチツ化されろためＡ１層
上に強磁性金属薄膜層（例えばＣｏ−Ｎｉ合金）を形成
した場合、イオンブレーティングにより形成したＡ１層
と強磁性金４薄膜層との間で、電気化学的な腐食が著し
く減少する。これは反応ガスとして酸素を用いた場合も
同様であ°すＡ１層の少な≦とも一部が酸化されこのた
めに′電気化学的な腐食が減少する。
チックフィルム等の非磁性基材ｌ上に非磁性金属薄膜層
−を非磁性金拠の薄膜形成時に該金属と反応する酸素、
窒素等の反応ガス中でイオンブレーティングにより形成
する場合、非磁性金属ビ溶融加熱する手段としては通常
の抵抗加熱、電子ビーム加熱、筒周波誘導加熱等が使用
でき、又イオン化する手段としては直流励起、交流励起
のいずれを用いてもよく、反応ガス中でグロー放電ヲ生
じさせればよい。反応ガス中でイオンブレーティングに
より非磁性金属薄膜層を形成する場合、例えば反応ガス
としてチッ素な用い、非磁性金属としてＡＩを用いた時
にはＡ１層の少な（とも一部がチツ化されろためＡ１層
上に強磁性金属薄膜層（例えばＣｏ−Ｎｉ合金）を形成
した場合、イオンブレーティングにより形成したＡ１層
と強磁性金４薄膜層との間で、電気化学的な腐食が著し
く減少する。これは反応ガスとして酸素を用いた場合も
同様であ°すＡ１層の少な≦とも一部が酸化されこのた
めに′電気化学的な腐食が減少する。
このようにイオンブレーティングにより非磁性金属層２
を形成する場合、反応ガスを含む装置内の真空度はｌｉ
４〜１０″ｒｏｒｒ程度であり、グロー放電の電圧は直
流励起の場合Ｏり〜二〇に′ｖ程度、又交流励起の場合
は電力で１００〜５ＯＯＷ程度が望ましい。又、形成さ
れる非磁性金属層の膜厚は０．０／″−０，／μ？ｎ程
度が望ましい。
を形成する場合、反応ガスを含む装置内の真空度はｌｉ
４〜１０″ｒｏｒｒ程度であり、グロー放電の電圧は直
流励起の場合Ｏり〜二〇に′ｖ程度、又交流励起の場合
は電力で１００〜５ＯＯＷ程度が望ましい。又、形成さ
れる非磁性金属層の膜厚は０．０／″−０，／μ？ｎ程
度が望ましい。
このようにして形成した非磁性金属薄膜層コの上に強磁
性金属薄膜層３を形成する。強磁性金属薄膜層成のため
使用される強破性金稿はＣｏ、Ｆａ、Ｎｉ等の金属単体
、あるいはＣｏ Ｆｅ、 Ｃｏ−Ｎｉ。
性金属薄膜層３を形成する。強磁性金属薄膜層成のため
使用される強破性金稿はＣｏ、Ｆａ、Ｎｉ等の金属単体
、あるいはＣｏ Ｆｅ、 Ｃｏ−Ｎｉ。
Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｎｉ、 Ｃｏ−Ｃｒ、 Ｃｏ
−Ｃｕ、 Ｃｏ−Ａｕ。
−Ｃｕ、 Ｃｏ−Ａｕ。
Ｃｏ −Ｙ 、 Ｃｏ−Ｌａ、 Ｃｏ−Ｐｒ％Ｃｏ−Ｇ
ｄ、 Ｃｏ−８ｍ。
ｄ、 Ｃｏ−８ｍ。
Ｃｏ−Ｐｔ％Ｃｏ−Ｆｅ−Ｃｒ、 Ｃｏ Ｆｅ −Ｎ
ｉ −Ｏｒ、 Ｆｅ Ｒｈ％Ｆｅ−Ｃｕ％Ｆｅ−Ｃｒ
、 Ｎ１−＝Ｃｕ、 Ｍｎ−Ｂ１、Ｍｎ−８ｂ。
ｉ −Ｏｒ、 Ｆｅ Ｒｈ％Ｆｅ−Ｃｕ％Ｆｅ−Ｃｒ
、 Ｎ１−＝Ｃｕ、 Ｍｎ−Ｂ１、Ｍｎ−８ｂ。
Ｍｎ Ａ１等が用いられ１強磁性金属薄膜層の形成方
法としては真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法などが採用されろ。
法としては真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法などが採用されろ。
以上の説明では非磁性基材ｌ上に、非磁性金属薄膜層コ
と強磁性金属薄膜層３とが記載順に形成されるが、これ
らの２つの層を遂次形成す石工程馨更に繰り返すことに
より、非磁性金属薄膜Ｊ８と強磁性金属薄膜層とが例え
ば層ダ及び層りのごとく交互に形成され、最底層が強磁
性金属薄膜層となった、複数の強磁性金属薄膜層並びに
各強磁性金属薄膜層間及び非磁性基材由〜強磁性金属薄
膜Ｊ￥Ｉコ間に設けられた非磁性金属薄膜とを有する磁
気記録媒体が得られる。
と強磁性金属薄膜層３とが記載順に形成されるが、これ
らの２つの層を遂次形成す石工程馨更に繰り返すことに
より、非磁性金属薄膜Ｊ８と強磁性金属薄膜層とが例え
ば層ダ及び層りのごとく交互に形成され、最底層が強磁
性金属薄膜層となった、複数の強磁性金属薄膜層並びに
各強磁性金属薄膜層間及び非磁性基材由〜強磁性金属薄
膜Ｊ￥Ｉコ間に設けられた非磁性金属薄膜とを有する磁
気記録媒体が得られる。
以上の本発明によれば、従来の製造方法に用いるのとは
ｇ同様で、反応ガスの導入手段のみを付加した製造装置
により、効率良（製造が行なえ、得られる磁気記録媒体
の耐食性が従来のものにくらべて向上している。
ｇ同様で、反応ガスの導入手段のみを付加した製造装置
により、効率良（製造が行なえ、得られる磁気記録媒体
の耐食性が従来のものにくらべて向上している。
以下１本発明を実施例及び比較例により更に具体的に説
明ｆろ。
明ｆろ。
実施例１
厚さ６μｍのポリエチレンテＶフタＶ−トフイルムにＡ
１層を以下の条件による直流イオンブＶ−ティング法で
厚みが３００＾になるよう形成し第１層とした。
１層を以下の条件による直流イオンブＶ−ティング法で
厚みが３００＾になるよう形成し第１層とした。
真空度； １ｓＸｔｏ”Ｔｏｒｒ （チッ素雰囲気）直
流印加電界；りＷｍ 次にこのようにして形成したＡ１薄膜上に。Ｃｏ ：
Ｎｉ−７： ３０合金を用い、以下の条件による斜方蒸
着法で厚みが１Ｏ００Ｘになるよう磁性層を形成し第二
層とした。
流印加電界；りＷｍ 次にこのようにして形成したＡ１薄膜上に。Ｃｏ ：
Ｎｉ−７： ３０合金を用い、以下の条件による斜方蒸
着法で厚みが１Ｏ００Ｘになるよう磁性層を形成し第二
層とした。
真空度； Ａ Ｘ ／ Ｑ−’Ｔｏｒｒ （空気）斜方
入射角；ｌＯ 次にこのようにして形成した磁性層上にＡ１層を厚み３
００にとなるよう前記第１層形成と同条件で形成しさら
にこの上に前と同様の条件でＣｏ −Ｎ ｉ層を厚み１
ｏｏｏＸｖｃなるよう形成した。
入射角；ｌＯ 次にこのようにして形成した磁性層上にＡ１層を厚み３
００にとなるよう前記第１層形成と同条件で形成しさら
にこの上に前と同様の条件でＣｏ −Ｎ ｉ層を厚み１
ｏｏｏＸｖｃなるよう形成した。
このよ５にして非磁性基材上に非磁性金属Ｍ。
磁性金属膜、非磁性金與膜、磁性金属膜の順に積層した
多層構成の磁気記録媒体を得た。
多層構成の磁気記録媒体を得た。
実施例λ
厚さ６μｍのポリエチレンテレフタノートフィルム上に
Ａ１層を以下の条件による高周波イオンブレーティング
法で３０θ久形成した。
Ａ１層を以下の条件による高周波イオンブレーティング
法で３０θ久形成した。
真空度りｘ ７ Ｆ’ Ｔｏｒｒ （酸素雰囲気）直流
加速電界ｌＩ賜へ、高周波励起電カー〇〇Ｗ以下実施例
１と同様の条件でＣｏ−Ｎｉ磁性層。
加速電界ｌＩ賜へ、高周波励起電カー〇〇Ｗ以下実施例
１と同様の条件でＣｏ−Ｎｉ磁性層。
Ａ１層、 ｃｏ−Ｎｉ層を順次積層し、多層構成の磁気
記録媒体を得た。
記録媒体を得た。
比較例
厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
Ａ１層を以下の条件による真空蒸着法で厚み３θｏＸに
なるよう形成した。
Ａ１層を以下の条件による真空蒸着法で厚み３θｏＸに
なるよう形成した。
真空度／ Ｘ ／ ｆ’ Ｔｏｒｒ （空気）以下実施
例１と同様の条件でＣｏ−Ｎｉ層、前記と同じＡ１層、
Ｃｏ−Ｎｉ層を順次積層し、多層構成の磁気記録媒体
な得た。このようにして得られた磁気記録媒体の磁気特
性を表１に、及び耐食性を表−に示す。
例１と同様の条件でＣｏ−Ｎｉ層、前記と同じＡ１層、
Ｃｏ−Ｎｉ層を順次積層し、多層構成の磁気記録媒体
な得た。このようにして得られた磁気記録媒体の磁気特
性を表１に、及び耐食性を表−に示す。
以上の結果に示すように本発明の方法により製造した多
層構成磁気記録媒体は、非磁性層の材料としてＡＩを使
用しているにもかかわらず、耐食性が著しく向上してい
る。
層構成磁気記録媒体は、非磁性層の材料としてＡＩを使
用しているにもかかわらず、耐食性が著しく向上してい
る。
一４図は本発明によって得られる磁気記録媒体の一例乞
示す断面図である。 ｌ・・・０１・・基 材 コ、ダ・・・・・・非磁性金＠薄膜層 ３、夕・・・・・・強磁性金属薄膜層 特許出願人 大日本印刷株式会社
示す断面図である。 ｌ・・・０１・・基 材 コ、ダ・・・・・・非磁性金＠薄膜層 ３、夕・・・・・・強磁性金属薄膜層 特許出願人 大日本印刷株式会社
Claims (4)
- （１）非磁性基材上に、非磁性金属薄膜層を形成させる
工程と強磁性金属薄膜層を形成させろ工程とを記載順に
行ない、必要に応じ℃、画工属薄膜層の形成を、非磁性
金属乞用いた反応ガス中におけろイオンブレーティング
法により行なうこと乞特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。 - （２）非磁性金稿はアルミニウムであることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - （３）反応ガスはチッ素ガスであることを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法。 - （４）反応ガスは酸素ガスであることを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58031561A JPS59157826A (ja) | 1983-02-26 | 1983-02-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58031561A JPS59157826A (ja) | 1983-02-26 | 1983-02-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59157826A true JPS59157826A (ja) | 1984-09-07 |
| JPH0376539B2 JPH0376539B2 (ja) | 1991-12-05 |
Family
ID=12334584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58031561A Granted JPS59157826A (ja) | 1983-02-26 | 1983-02-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59157826A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6196510A (ja) * | 1984-10-17 | 1986-05-15 | Hitachi Ltd | 高透磁率多層磁性体膜 |
| JPH01238106A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Nec Corp | 耐食性強磁性薄膜 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5634150A (en) * | 1979-08-25 | 1981-04-06 | Hitachi Maxell Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-02-26 JP JP58031561A patent/JPS59157826A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5634150A (en) * | 1979-08-25 | 1981-04-06 | Hitachi Maxell Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6196510A (ja) * | 1984-10-17 | 1986-05-15 | Hitachi Ltd | 高透磁率多層磁性体膜 |
| JPH01238106A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Nec Corp | 耐食性強磁性薄膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0376539B2 (ja) | 1991-12-05 |
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