JPS60113330A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS60113330A JPS60113330A JP22015083A JP22015083A JPS60113330A JP S60113330 A JPS60113330 A JP S60113330A JP 22015083 A JP22015083 A JP 22015083A JP 22015083 A JP22015083 A JP 22015083A JP S60113330 A JPS60113330 A JP S60113330A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は、良好な磁気特性を有する磁気記録媒体の製造
方法に関し、さらに詳しくは非磁性基材上に斜方蒸着法
により形成されたＦｅ系薄膜が設けられてなる磁気記録
媒体の製造方法に関する。
方法に関し、さらに詳しくは非磁性基材上に斜方蒸着法
により形成されたＦｅ系薄膜が設けられてなる磁気記録
媒体の製造方法に関する。
発明の技術的背景ならびにその問題点
近年、高密度磁気記録への要求の高まりとともに、Ｘ空
、１着、ス・ぐツタリ／グ、イオ／シレーティ／グなど
の方法Ｃ本明細書では、これら気相な通じての被着物質
の移行および基材への被着を伴う方法を一括して「蒸着
」と称する）により基材上に強磁性金属薄膜が形成され
たいわゆる蒸着型の磁気記録媒体が開発されている。こ
れら蒸Ｍ型の磁気記録媒体は、通常の・マイ／グーを使
用する磁気記録媒体に比べて高密度記録が可能であるな
ど種々の利点を有しており、実用化への努力が払われて
いる。
、１着、ス・ぐツタリ／グ、イオ／シレーティ／グなど
の方法Ｃ本明細書では、これら気相な通じての被着物質
の移行および基材への被着を伴う方法を一括して「蒸着
」と称する）により基材上に強磁性金属薄膜が形成され
たいわゆる蒸着型の磁気記録媒体が開発されている。こ
れら蒸Ｍ型の磁気記録媒体は、通常の・マイ／グーを使
用する磁気記録媒体に比べて高密度記録が可能であるな
ど種々の利点を有しており、実用化への努力が払われて
いる。
このような金属薄膜型磁気記録媒体は、非磁性基材上に
、該基材上に立てた垂線と基材に差し向げられる蒸気流
とのなす角度で示される入射角を約２０°以上にして、
強磁性金属が蒸着されて形成されている。この強磁性金
属としては、Ｃ０１Ｎｉ１Ｃｒ％Ｆｅあるいはこれらの
強磁性金属を主体とする合金が主として用いられており
、このうち特にＣＯあるいはＣｏを生体とする合金から
構成される金属薄膜に関する研究が精力的に進められて
いる。
、該基材上に立てた垂線と基材に差し向げられる蒸気流
とのなす角度で示される入射角を約２０°以上にして、
強磁性金属が蒸着されて形成されている。この強磁性金
属としては、Ｃ０１Ｎｉ１Ｃｒ％Ｆｅあるいはこれらの
強磁性金属を主体とする合金が主として用いられており
、このうち特にＣＯあるいはＣｏを生体とする合金から
構成される金属薄膜に関する研究が精力的に進められて
いる。
一方、強磁性金属であるＦｅあるいはＦｅを主体とする
合金（以下Ｆｅ系合金という）からなる金属薄膜は、Ｃ
ＯあるいはＣｏ系合金からなる金属薄膜と比較してその
製造コストが安く、しかもシ公、歪率が低いなどの種々
の利点があるが、反面抗磁力ＨＣの膜厚依存性が大きく
、また角型比が小さいという磁気記録媒体としては重大
な欠陥があり、実用化するに至っていないのが現状であ
る。
合金（以下Ｆｅ系合金という）からなる金属薄膜は、Ｃ
ＯあるいはＣｏ系合金からなる金属薄膜と比較してその
製造コストが安く、しかもシ公、歪率が低いなどの種々
の利点があるが、反面抗磁力ＨＣの膜厚依存性が大きく
、また角型比が小さいという磁気記録媒体としては重大
な欠陥があり、実用化するに至っていないのが現状であ
る。
発明の目的ならびにその概要
本発明は、強磁性金属が非磁性基材上に設けられてなる
金属薄膜型磁気記録媒体に伴なう技術的欠点を一挙に解
決しようとするものであって、以下のような目的を有す
る。
金属薄膜型磁気記録媒体に伴なう技術的欠点を一挙に解
決しようとするものであって、以下のような目的を有す
る。
（ａ） ＣｏあるいはＣｏ系合金と比較して、製造コス
トが安く、しかもＳ／Ｎ、歪率が低い金Ｊｆ４薄ｊ模型
磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
トが安く、しかもＳ／Ｎ、歪率が低い金Ｊｆ４薄ｊ模型
磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
（ｂ） 抗磁力Ｈｃ が大きくかつ膜厚依存性が小さく
、しかも良好な角型比を有する金属薄膜型磁気記録媒体
の製造方法を提供すること。
、しかも良好な角型比を有する金属薄膜型磁気記録媒体
の製造方法を提供すること。
本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、斜方蒸着によ
り非磁性基材上にＦｅあるいはＦｅ系合金からなる金属
薄膜を複数層積層して磁気記録媒体を製造するに際して
、以下の工程（１）〜（Ｉｎ）を含むことを特徴として
いる。
り非磁性基材上にＦｅあるいはＦｅ系合金からなる金属
薄膜を複数層積層して磁気記録媒体を製造するに際して
、以下の工程（１）〜（Ｉｎ）を含むことを特徴として
いる。
工程（Ｉ）：非磁性基材上に斜方蒸着によりＦｅあるい
はＦｅ系合金からなる金属薄膜な３００〜１００ＯＸの
膜厚で積層する、 工程（■）：工程（Ｉ）で得られた金属薄膜の表面を反
応性ガス中でグロー放電処理する、 工程θ［Ｉ）ニゲロー放電処理された金属薄膜上に、斜
方蒸着によりＦｅあるいはＦｅ系合金からなる金属薄膜
を３０ｄ〜１０００Ｘｏ）膜厚で積層する。
はＦｅ系合金からなる金属薄膜な３００〜１００ＯＸの
膜厚で積層する、 工程（■）：工程（Ｉ）で得られた金属薄膜の表面を反
応性ガス中でグロー放電処理する、 工程θ［Ｉ）ニゲロー放電処理された金属薄膜上に、斜
方蒸着によりＦｅあるいはＦｅ系合金からなる金属薄膜
を３０ｄ〜１０００Ｘｏ）膜厚で積層する。
さらに必要に応じて、工程（ＩＩ］）で得られたＦｅあ
るいはＦｅ系合金からなる金属薄膜にグロー放電処理を
加え、その後斜方蒸着によりＦｅあるいはＦｅ系合金か
らなる金属薄膜を３００〜１０００Ｘの膜厚で積層して
もよく、同様の操作を繰り返して、ＦｅあるいはＦｅ系
合金からなる金属薄膜を複数層積層して磁性記録媒体が
製造される。
るいはＦｅ系合金からなる金属薄膜にグロー放電処理を
加え、その後斜方蒸着によりＦｅあるいはＦｅ系合金か
らなる金属薄膜を３００〜１０００Ｘの膜厚で積層して
もよく、同様の操作を繰り返して、ＦｅあるいはＦｅ系
合金からなる金属薄膜を複数層積層して磁性記録媒体が
製造される。
従来、非磁性基材上に、斜方蒸着により、傾斜柱状構造
を有するＣｏあるいはＣｏ系合金からなる金属薄膜を積
層する磁気記録媒体の製造方法は知られていた。しかし
ながら、非磁性基材上に斜方蒸着によりＦｅあるいはＦ
ｅ系合金からなる金属薄膜を’ｒ＊層し、この金属薄膜
表面にグロー放電処理を加えた後、さらに別のＦｅある
いはＦｅ系合金からなる金属薄膜を斜方蒸着により積層
する磁気記録媒体の製造方法は知られていなかった。そ
して上記のような製造方法によって得られた磁気記録媒
体は、優れた抗磁力ならびに良好な角型比を有しており
、したがって本発明により始めて安価なＦｅあるいはＦ
ｅ系合金を強磁性金属薄膜として用いることが可能とな
った。
を有するＣｏあるいはＣｏ系合金からなる金属薄膜を積
層する磁気記録媒体の製造方法は知られていた。しかし
ながら、非磁性基材上に斜方蒸着によりＦｅあるいはＦ
ｅ系合金からなる金属薄膜を’ｒ＊層し、この金属薄膜
表面にグロー放電処理を加えた後、さらに別のＦｅある
いはＦｅ系合金からなる金属薄膜を斜方蒸着により積層
する磁気記録媒体の製造方法は知られていなかった。そ
して上記のような製造方法によって得られた磁気記録媒
体は、優れた抗磁力ならびに良好な角型比を有しており
、したがって本発明により始めて安価なＦｅあるいはＦ
ｅ系合金を強磁性金属薄膜として用いることが可能とな
った。
３、発明の詳細な説明
以下本発明を図面に言及しながら説明する。
本発明に係る磁気記録媒体１は、次のようにして製造さ
れる。まず、非磁性基材２上に、斜方蒸着により、傾斜
柱状構造を有するＦｅ第１蒸層層３を３００〜１０００
Ｘの膜厚で積層する。
れる。まず、非磁性基材２上に、斜方蒸着により、傾斜
柱状構造を有するＦｅ第１蒸層層３を３００〜１０００
Ｘの膜厚で積層する。
このｐｅ第１蒸８１６３の膜厚が３００Ｘ未満では、傾
斜柱状構造を有する膜が未熟で光分な磁束が得られずし
かも形状異方性効果も光分に認められず、良好な角型比
ならびに抗磁力が得られないため好ましくない。一方そ
の膜厚が１ｏｏｏＸを超えると、傾斜柱状構造が成長し
すぎ、横方向に隣り合う傾斜柱の先端部で、傾斜柱同志
が癒着し、磁気特性の劣化すなわち角型比ならびに抗磁
力の低下が認められるため好ましくない。
斜柱状構造を有する膜が未熟で光分な磁束が得られずし
かも形状異方性効果も光分に認められず、良好な角型比
ならびに抗磁力が得られないため好ましくない。一方そ
の膜厚が１ｏｏｏＸを超えると、傾斜柱状構造が成長し
すぎ、横方向に隣り合う傾斜柱の先端部で、傾斜柱同志
が癒着し、磁気特性の劣化すなわち角型比ならびに抗磁
力の低下が認められるため好ましくない。
このＦｅ第１蒸着層３を非磁性基材２上に斜方蒸着べよ
り積層する際には、非磁性基材２上に立てた垂線と該基
材に蒸着源から差し向けられる蒸気流とのなす角で示さ
れる入射角は、２０°以上好ましくは４５°以上に保た
れることが望ましい。
り積層する際には、非磁性基材２上に立てた垂線と該基
材に蒸着源から差し向けられる蒸気流とのなす角で示さ
れる入射角は、２０°以上好ましくは４５°以上に保た
れることが望ましい。
非磁性基材２としては、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム、ポリイミドフィルム、？リヵーゼネートフイル
ムなどの合成樹樹フィルム、またはアルミニウム箔、非
磁性ニッケル箔、銅箔、ステンレスＮ などの非磁性金
属箔あるいはガラス、セラミック板などが用いられる。
ィルム、ポリイミドフィルム、？リヵーゼネートフイル
ムなどの合成樹樹フィルム、またはアルミニウム箔、非
磁性ニッケル箔、銅箔、ステンレスＮ などの非磁性金
属箔あるいはガラス、セラミック板などが用いられる。
磁気記録媒体をテープ状に製造する場合には、耐熱性、
抗張力および寸法安定性を備えた基材を用いることが好
ましく、この点で膜厚４−２５μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルムが好ｆＬい。
抗張力および寸法安定性を備えた基材を用いることが好
ましく、この点で膜厚４−２５μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルムが好ｆＬい。
矢に、上記のようにして積層されたＦｅ第１蒸着層３０
表面を反応性ガス中でグロー放電処理する。反応性ガス
としては、酸素、窒素゛、アノモニアガス、フッ累ガス
、７う／ガスなどが用いられ。
表面を反応性ガス中でグロー放電処理する。反応性ガス
としては、酸素、窒素゛、アノモニアガス、フッ累ガス
、７う／ガスなどが用いられ。
これらの反応性ガスはｔｏ−２〜１０−’Ｔｏｒｒ程度
の圧力で存在させることが好ましい。また５、この際グ
ロー放電電圧は、１００〜５００ Ｗの範囲に設定する
ことが好ましい。
の圧力で存在させることが好ましい。また５、この際グ
ロー放電電圧は、１００〜５００ Ｗの範囲に設定する
ことが好ましい。
次いで、グロー放電処理されたＦｅ第１蒸着層３上に、
斜方蒸着により傾斜柱状構造を有″′ｆ′るＦｅ第２蒸
着層４を、３００〜１ｏｏｏＸの膜厚でｆ＊１−する。
斜方蒸着により傾斜柱状構造を有″′ｆ′るＦｅ第２蒸
着層４を、３００〜１ｏｏｏＸの膜厚でｆ＊１−する。
このＦｅ第２蒸着層４の膜厚を３００〜１ｏｏｏＸの膜
厚に制御する理由は、Ｆｅ第１蒸Ｍ層の膜厚を制（財）
した場合の理由と同様である。
厚に制御する理由は、Ｆｅ第１蒸Ｍ層の膜厚を制（財）
した場合の理由と同様である。
Ｆｅ第１蒸着層３とＦｅ第２蒸着層４とを積層する際に
、第１図に示すように、Ｆｅ第１蒸着層３における傾斜
柱状構造の長手方向に沿った傾斜線５と、Ｆｅ第２蒸着
層４における傾斜柱状構造の長手方向に沿った傾斜線６
とが、基材２上に立てた仮想垂線７を境にして同一方向
になるように、画然着層を積層してもよい。また、第２
図に示すように、Ｆｅ第１蒸着層３の傾斜線５とＦｅ第
２蒸着層４の傾斜線６とを、基材２上に立てた仮想垂線
７を境にして左右に別れるように、画然着層を積層する
ことは、得られる磁気記録媒体の磁気特性を向上させる
上で好ましい。
、第１図に示すように、Ｆｅ第１蒸着層３における傾斜
柱状構造の長手方向に沿った傾斜線５と、Ｆｅ第２蒸着
層４における傾斜柱状構造の長手方向に沿った傾斜線６
とが、基材２上に立てた仮想垂線７を境にして同一方向
になるように、画然着層を積層してもよい。また、第２
図に示すように、Ｆｅ第１蒸着層３の傾斜線５とＦｅ第
２蒸着層４の傾斜線６とを、基材２上に立てた仮想垂線
７を境にして左右に別れるように、画然着層を積層する
ことは、得られる磁気記録媒体の磁気特性を向上させる
上で好ましい。
本発明においては、Ｆｅ蒸着層の表面を、酸菓、窒素な
どの反応性ガス芽囲気中でグロー放電処理することによ
って、Ｆｅ蒸着層の表向の一部で酸化反応あるいは窒化
反応などが起こると推測され、これによって優れた磁気
特性を有する磁気記録媒体が得られるのであろうと考え
られる。
どの反応性ガス芽囲気中でグロー放電処理することによ
って、Ｆｅ蒸着層の表向の一部で酸化反応あるいは窒化
反応などが起こると推測され、これによって優れた磁気
特性を有する磁気記録媒体が得られるのであろうと考え
られる。
一方、第１図に示すような肉類斜線５．６が仮想垂線７
を境にして同一方向になるように画然着層が積層されて
いる場合Ｆｅ蒸着層の表面に何らグロー放電処理を施こ
さないかあるいはＦｅ蒸着層の表面にグロー放電処理を
施こすがアルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中
でのグロー放電処理であると、優れた磁気特性を有する
磁気記録媒体は得られない。これは、上記のよ５な場合
には、下層であるＦｅ第工蒸着層３の傾斜柱状構造上に
その柱状構造を延長するような形でＦｅ第２蒸着層の傾
斜柱状構造が積層され、あたかも１回の蒸着で画然着層
が形成されたようになり、良好な磁気特性を与える膜厚
範囲を越えてしまうためであろうと考えられる。
を境にして同一方向になるように画然着層が積層されて
いる場合Ｆｅ蒸着層の表面に何らグロー放電処理を施こ
さないかあるいはＦｅ蒸着層の表面にグロー放電処理を
施こすがアルゴン、ヘリウムなどの不活性ガス雰囲気中
でのグロー放電処理であると、優れた磁気特性を有する
磁気記録媒体は得られない。これは、上記のよ５な場合
には、下層であるＦｅ第工蒸着層３の傾斜柱状構造上に
その柱状構造を延長するような形でＦｅ第２蒸着層の傾
斜柱状構造が積層され、あたかも１回の蒸着で画然着層
が形成されたようになり、良好な磁気特性を与える膜厚
範囲を越えてしまうためであろうと考えられる。
上記の具体例においては、蒸着源金属としてＦｅが用（
＾られていたが、本発明においては、Ｆｅと他の強徴性
金属たとえばＣｏ、 Ｎｉ、 Ｃｕ、 Ｃｒなどとの合
金を蒸着源金属とすることもでき、この場合には、Ｆｅ
は５０重駿％以上で含まれることが望ましい。
＾られていたが、本発明においては、Ｆｅと他の強徴性
金属たとえばＣｏ、 Ｎｉ、 Ｃｕ、 Ｃｒなどとの合
金を蒸着源金属とすることもでき、この場合には、Ｆｅ
は５０重駿％以上で含まれることが望ましい。
！た、上記の具体例においては、Ｆｅ蒸着層は非磁性基
材上に２層積層されていたが、Ｆｅ蒸着層を３層以上、
上記のような操作の繰り返しにより非磁性基材上に斜方
蒸着により積層することもできる。
材上に２層積層されていたが、Ｆｅ蒸着層を３層以上、
上記のような操作の繰り返しにより非磁性基材上に斜方
蒸着により積層することもできる。
本発明に係る磁気記録媒体は、具体的には、たとえば第
３図に示すような装置を用いて形成される。この磁気記
録媒体製造装置８は、第１真空槽９と第２真空槽１０と
に仕切り板１１によって区画された真空装置からなり、
第１真空僧９および第２真空槽【０をまたがるようにし
て、第１冷却キヤ／１２および第２冷却キヤ／１３が設
けられている。第１真空槽９には、非磁性基材２を送出
するための巻出ロール１４、第１案内ロール１５、グロ
ー放電装置１６、第２案内ロール１７、および巻取ロー
ル１８が設けられている。そして第２真空槽１０内には
、第１冷却キヤンの側下部に加熱手段１９を備えた第１
蒸着源２０戟また第２冷却キヤ／の側下部に加熱手段２
１を備えた第２蒸着源ｎが設けられており、第１冷却キ
ヤ／１２と第２冷却キヤノ１３とは隔板おによって隔て
られている。また第１冷却キヤ／１２の下部には、第１
遮蔽板囚が設けられており、基材２上に立てた垂線２５
ａ、 ２５ｂ・・・と第１蒸着源加から該基材２に差し
向けられる蒸気流２６ａ、 ２６ｂ・・・とのなす角度
で示される入射角θ１、θ２・・・が２０゜以上に保た
れているようになっている。同様に第２冷却キヤ／１３
の下部には、第２遮蔽板谷が設けられている。
３図に示すような装置を用いて形成される。この磁気記
録媒体製造装置８は、第１真空槽９と第２真空槽１０と
に仕切り板１１によって区画された真空装置からなり、
第１真空僧９および第２真空槽【０をまたがるようにし
て、第１冷却キヤ／１２および第２冷却キヤ／１３が設
けられている。第１真空槽９には、非磁性基材２を送出
するための巻出ロール１４、第１案内ロール１５、グロ
ー放電装置１６、第２案内ロール１７、および巻取ロー
ル１８が設けられている。そして第２真空槽１０内には
、第１冷却キヤンの側下部に加熱手段１９を備えた第１
蒸着源２０戟また第２冷却キヤ／の側下部に加熱手段２
１を備えた第２蒸着源ｎが設けられており、第１冷却キ
ヤ／１２と第２冷却キヤノ１３とは隔板おによって隔て
られている。また第１冷却キヤ／１２の下部には、第１
遮蔽板囚が設けられており、基材２上に立てた垂線２５
ａ、 ２５ｂ・・・と第１蒸着源加から該基材２に差し
向けられる蒸気流２６ａ、 ２６ｂ・・・とのなす角度
で示される入射角θ１、θ２・・・が２０゜以上に保た
れているようになっている。同様に第２冷却キヤ／１３
の下部には、第２遮蔽板谷が設けられている。
このような構成を有する装置において、非磁性基材２は
、巻出ロール１４から第１冷却キヤｙ１２ｆｃ涜って巻
回移送されて第２真空槽１０に至り、ここで第１蒸着源
かから差し向けられた蒸気流２６ａ。
、巻出ロール１４から第１冷却キヤｙ１２ｆｃ涜って巻
回移送されて第２真空槽１０に至り、ここで第１蒸着源
かから差し向けられた蒸気流２６ａ。
２６ｂ・・・に接してＦｅ第１蒸着）ｆｉ３が積層され
る。
る。
そして基材２は第１案内ロール１５を経て、グロー放電
装置１６に至り、ここでＦｅ第１蒸着層３の表面にグロ
ー放電処理が施こされる。グロー放電処理が施こされた
基材２は、第２案内ロール１７を経て第２冷却キヤノ１
３に浴って巻回移送されて第２真空槽１０に至り、ここ
で第２蒸漸源２２から差し向けられた蒸気流２６Ｇ、２
６ｄ Ｋ接じてＦｅ第２蒸着層４が積層された後、磁気
記録媒体として巻取ロール１８に巻取られろ。
装置１６に至り、ここでＦｅ第１蒸着層３の表面にグロ
ー放電処理が施こされる。グロー放電処理が施こされた
基材２は、第２案内ロール１７を経て第２冷却キヤノ１
３に浴って巻回移送されて第２真空槽１０に至り、ここ
で第２蒸漸源２２から差し向けられた蒸気流２６Ｇ、２
６ｄ Ｋ接じてＦｅ第２蒸着層４が積層された後、磁気
記録媒体として巻取ロール１８に巻取られろ。
なお、第１真空槽９内には、グロー放′Ｉ４！時に槽内
に反応性ガスを導入するためのガス導入系あが設けられ
ている。
に反応性ガスを導入するためのガス導入系あが設けられ
ている。
基材２上にＦｅ蒸着層を積層するに際して、最低入射角
θｍｉｎは４５°〜８０°であることが望ましく、また
基材２は、蒸気流がり期において高入射角で基材２上に
差し向けられ、後期においては低入射角で基材２上に差
し向けられる方向に第１および第２冷却キヤノ１２．１
３上を巻回移行されることが望ましい。
θｍｉｎは４５°〜８０°であることが望ましく、また
基材２は、蒸気流がり期において高入射角で基材２上に
差し向けられ、後期においては低入射角で基材２上に差
し向けられる方向に第１および第２冷却キヤノ１２．１
３上を巻回移行されることが望ましい。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。
らの実施例に限定されるものではない。
実施例１
６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム基体上に
、第３図に示す装置を用いて、最小入射角６５°で斜方
蒸着により、Ｆｅ第１蒸着層を８５０Ｘの膜厚で積層し
た。この際第２真空槽内の真空度は５ Ｘ １０ Ｔｏ
ｒｒに調節されていた。
、第３図に示す装置を用いて、最小入射角６５°で斜方
蒸着により、Ｆｅ第１蒸着層を８５０Ｘの膜厚で積層し
た。この際第２真空槽内の真空度は５ Ｘ １０ Ｔｏ
ｒｒに調節されていた。
次いで、０□ガスがＩ Ｘ １０ Ｔｏｒｒが導入され
た第１真空槽内でＦｅ第１蒸着層表面に、２００Ｗの放
電電圧でグロー放電処理を施こした。
た第１真空槽内でＦｅ第１蒸着層表面に、２００Ｗの放
電電圧でグロー放電処理を施こした。
次に、グロー放電処理が施こされたＦｅ第１蒸着層上に
、最小入射角６５°で斜方蒸着によりＦｅ第２蒸着層を
８５０Ｘの膜厚で積層して、磁気記録媒体を製造した。
、最小入射角６５°で斜方蒸着によりＦｅ第２蒸着層を
８５０Ｘの膜厚で積層して、磁気記録媒体を製造した。
得られた磁気記録媒体の抗磁力Ｈｃ［Ｏｅ］、飽和磁束
密度Ｂｍ［Ｇａｕｓｓ］、残留磁束密度Ｂ ｒ （Ｇａ
ｕｓｓ ）を測定し、角型化（Ｂｒ／Ｂｍ）とともに表
に示す。
密度Ｂｍ［Ｇａｕｓｓ］、残留磁束密度Ｂ ｒ （Ｇａ
ｕｓｓ ）を測定し、角型化（Ｂｒ／Ｂｍ）とともに表
に示す。
実施例２
蒸着源としてＦｅ−Ｎｔ（８：２重量比）のＦｅ系合金
を用いた以外は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を
作成した。
を用いた以外は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を
作成した。
得られた磁気記録媒体の抗磁力、飽和磁束密度、残留磁
束密度を測定し、角型比とともに表に示す。
束密度を測定し、角型比とともに表に示す。
比較例Ｉ
Ｆｅ第１蒸着層の表面に、Ｉ Ｘ １０ Ｔｏｒｒのア
ルザル雰囲気下でのグロー放電処理を施こした以外は、
実施例１と同様にして磁気記録媒体をＩ！ｌ！造した。
ルザル雰囲気下でのグロー放電処理を施こした以外は、
実施例１と同様にして磁気記録媒体をＩ！ｌ！造した。
得られた磁気記録媒体の抗磁力、飽和磁束密度、残留磁
束密度を測定し、角型比とともに表に示す。
束密度を測定し、角型比とともに表に示す。
比較例２
Ｆｅ第１蒸着層の表面に、グロー放電処理を施こさなか
った以外は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を製造
した。
った以外は、実施例１と同様にして磁気記録媒体を製造
した。
得られた磁気記録媒体の抗磁力、飽和磁束密度、残留磁
束密度を測定し、角型比とともに表に示す。
束密度を測定し、角型比とともに表に示す。
この表から、本発明に係る磁気記録媒体は、高い抗磁力
ならびに角型比を有しており、したがって良好な磁気％
性を備えていることがわかる。
ならびに角型比を有しており、したがって良好な磁気％
性を備えていることがわかる。
第１図および第２図は本発明により製造された磁気記録
媒体の断面図であり、第３図は磁気記録媒体を製造する
ために使用する装置の概略断面図である。 １・・・磁気記録媒体、２・・・非磁性基材、３・・・
Ｆｅ第１蒸着層、４・・・Ｆｅ第２蒸着層、１２・・・
第１冷却キヤ／、Ｉ３・・・第２冷却キヤ／、Ｉ６・・
・グロー放電装置。
媒体の断面図であり、第３図は磁気記録媒体を製造する
ために使用する装置の概略断面図である。 １・・・磁気記録媒体、２・・・非磁性基材、３・・・
Ｆｅ第１蒸着層、４・・・Ｆｅ第２蒸着層、１２・・・
第１冷却キヤ／、Ｉ３・・・第２冷却キヤ／、Ｉ６・・
・グロー放電装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １非磁性基材上に、斜方蒸着によりＦｅあるいはＦｅ系
合金からなる金属薄膜を複数層積層して磁気記録媒体な
製造するに際して、以下の工程（１）−一を含むことを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法： 工程（Ｉ）：非磁性基材上に斜方蒸着によりＦｅあるい
はＦｅ系合金からなる金属薄膜を ３００〜１０００Ｘの膜厚で積層する、工程（■）：工
程（Ｉ）で得られた金属薄膜の表面を、反応性ガス中で
グロー放電処理する、 工程（［１１） ニゲロー放電処理された金属薄膜上に
、斜方蒸着によりＦｅあるいはＦｅ系合金からなる金属
薄膜を３００〜１ｏｏｏＸの膜厚で積層する。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22015083A JPS60113330A (ja) | 1983-11-22 | 1983-11-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22015083A JPS60113330A (ja) | 1983-11-22 | 1983-11-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60113330A true JPS60113330A (ja) | 1985-06-19 |
| JPH0510732B2 JPH0510732B2 (ja) | 1993-02-10 |
Family
ID=16746673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22015083A Granted JPS60113330A (ja) | 1983-11-22 | 1983-11-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60113330A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009028055A1 (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-05 | Canon Anelva Corporation | スパッタリングによる成膜方法とその装置 |
| US8241699B2 (en) | 2007-03-09 | 2012-08-14 | Panasonic Corporation | Deposition apparatus and method for manufacturing film by using deposition apparatus |
| JP2013139619A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-18 | Research Inst Of Industrial Science & Technology | 硬質コーティング層とその形成方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5385403A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
| JPS5753539A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and apparatus for forming coating film in vacuum |
-
1983
- 1983-11-22 JP JP22015083A patent/JPS60113330A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5385403A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
| JPS5753539A (en) * | 1980-09-17 | 1982-03-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and apparatus for forming coating film in vacuum |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2009028055A1 (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-05 | Canon Anelva Corporation | スパッタリングによる成膜方法とその装置 |
| JP4503098B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2010-07-14 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタリングによる成膜方法とその装置 |
| JPWO2009028055A1 (ja) * | 2007-08-29 | 2010-11-25 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタリングによる成膜方法とその装置 |
| US8043483B2 (en) | 2007-08-29 | 2011-10-25 | Canon Anelva Corporation | Film forming method by sputtering and sputtering apparatus thereof |
| JP2013139619A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-18 | Research Inst Of Industrial Science & Technology | 硬質コーティング層とその形成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0510732B2 (ja) | 1993-02-10 |
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