JPS6148128A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPS6148128A
JPS6148128A JP16986084A JP16986084A JPS6148128A JP S6148128 A JPS6148128 A JP S6148128A JP 16986084 A JP16986084 A JP 16986084A JP 16986084 A JP16986084 A JP 16986084A JP S6148128 A JPS6148128 A JP S6148128A
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nitrogen
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cooling
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Tadashi Yasunaga
正 安永
Ryuji Shirahata
龍司 白幡
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はテープ状基体上(=磁気記録層として強磁性金
属薄膜を設けてなる磁気記録媒体の製造方法に関し、特
に磁気特性にすぐれる金属薄膜製磁気記録謀体の製造方
法に関する。
〔従来技術〕
従来磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にr−Fe
2O3、COをドープしたr−F’e2o3、p e 
304、CoをドープしたFe3O4、r−Fe203
とpe304のベルトライド化合物、CrO2等の磁性
粉末あるいは強磁性合金粉末等を粉末磁性材料を塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジェン共重
合体、エポキシ樹脂、ポリウレタンm脂等の有機バイン
ダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる塗布型の
ものが広く使用されてきている。近年高密度記録への要
求の高まりと共に真空蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティング等のペーパーデポジション法あるいは電気
メッキ、無電解メッキ等のメッキ法により形成される強
磁性金属薄膜を磁気記録層とする、バインダーを使用し
ない、いわゆる非バインダー型磁気記録媒体が注目を浴
びており実用化への努力が種々行なわれている。
従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録:二必要な磁性層薄層化が信号
出力の低下をもたらすため限界にきており、かつその製
造工程も複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大
きな附帯設備を要するという欠点を有しているう非バイ
ンダー型の磁気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和
磁化を有する強磁性金属をバインダーの如き非磁性物質
を含有しない状態で薄膜として形成せしめるため、高密
度記録化のために超薄層化できるという利点を有し、し
かもその製造工程はより簡略化される。
高密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
して、高抗磁力化、薄形化が理論的(;も実験的にも提
唱されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さく
へ薄層化が容易で、飽和磁束密度の大きい非バインダー
型磁気記録媒体への期待は大きい。
とくに真空蒸着6:よる方法は、メッキの場合のような
排液処理を必要とせず製造工程も簡単で膜の析出速度も
大きくできるため非常::メリットが大きい。真空蒸着
によって磁気記録媒体に望ましい抗磁力および素置性を
有する磁性膜を製造する態と′しては、米国特許334
t2632号、同33グコ433号等に述べられている
斜め蒸着法が知られているう 実際にテープ状基体に斜め蒸着法により強磁性金属薄膜
を設は磁気記録媒体を製造するに際しては、テープ状基
体を冷却キャン(二沿って搬送せしめ蒸発源より蒸発せ
しめられた磁性金属材料の蒸気流を移動するテープ状基
体に斜めに入射蒸着せしめる方法が行なわれる。この際
、基体I:対して入射する蒸気流の入射角が大きいほど
高抗磁力の強磁性金属薄膜が得られるが入射角が大きい
と蒸着効率が低下するという現象があり製造上好ましく
ない、比較的低入射角C二て抗磁力の高い強磁性金属薄
膜を形成させる方法として斜め蒸着の際(;酸素を導入
させる方法が提案されており、例えば特開昭!、!”−
41/4tuJ号にはテープ状移動基体に対する蒸気流
の入射角(0)が高入射角(θmax)から低入射角(
θmin )へと連続的に変化するように前記基本を移
動せしめると共に、低入射(#min )近傍に酸化性
ガスを導入する方法が開示されている。この方法によれ
ば高抗磁力の膜は得られるが角型性が劣化するという欠
点を有していた。
磁気特性を改良する方法として真空槽に窒素ガスヲ導入
しつつコバルトをポリエステルフィルム基板に対し斜め
蒸着させる方法が「真空」第コダ巻、第9号、コ4tj
−、2ダ!は−ジに開示されている。しかしながら長尺
テープ状基体を速続的に搬送しつつ、かつ入射角が連続
的区−変化するよう(二蒸着が行なわれる斜め蒸着法(
二より磁気テープを製造する場合には単書二真空槽壁よ
り臭突槽中(=窒素ガスを導入しても磁気特性の夕良は
得られなかった。さらに特開昭J−,r−322j4を
号には入射角却、制のマスクの先端部からガスを噴射さ
せることによりマスク先端部への蒸着材料の付着を防止
し長手方向にわたって均一な磁気特性の磁気テープを得
る方法が開示されている。しかしながら長尺蒸着におけ
る蒸着材料のマスク先端部への付着による規制入射角変
化I:起因する磁気特性の変化防止1:ガス噴射が効果
あるとの開示があるが、ガス導入そのものによる磁気特
性の改良C:ついては何ら言及されていない。さら【−
特開昭!I−タ@/3j号にはコバルト蒸気流中に窒素
酸化物ガスを導入し7つつM着により磁気記録媒体を製
造する方法が開示されているが、磁気特性の改良および
潤滑剤塗布した場合の摩擦係数の改良が望まれていたう 〔発明の目的〕 本発明の第1の目的は、上記の欠点を改良した磁気記録
媒体、特に磁気特性のすぐれた磁気記録媒体の製造方法
を提供すること:;ある。さらに本発明の第2の目的は
潤滑剤塗布により低摩擦係数を示す磁気記録媒体の製造
方法を提供すること(=ある。
〔発明の構成〕
本発明は、冷却キャンに沿って移動するテープ状基体に
対して蒸発導より蒸発せしめられた磁性金属材料の蒸気
流の入射角(θ)が高入射角(0m1lX)から低入射
角(θmin )へど連続的に変化するように蒸着せし
めて磁気記録媒体を製造する方法において、該基体の近
傍かつ低入射角(θmin )蒸気流付近(二ガス導入
部を配し、窒素ガス、窒素酸化物ガスあるいは窒素ガス
と酸素ガスの混合ガスあるいは窒素酸化物ガスと酸素ガ
スの混合ガスを導入しつつ強磁性金属薄膜を形成するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法に関する。さら
に上記製造方法において窒素ifスあるいは窒素酸化物
ガスと酸素ガスとの混合比〔酸素ガス、/(窒累ifス
J5るいは窒素酸化物ガス)〕をθ〜2.0としたこと
を特徴とした磁気記録媒体の製造方法に関する。さらC
:本発明は上記製造方法において冷却キャンの中心から
ガス導入部迄の距離(R)と冷却キャンの半径(「)と
の比(R/r)が/、10以下となるようにガス導入部
を配設して強磁性金属薄膜を形成することを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法(−関する。
第1図は本発明による磁気記録媒体の製造方法の一実施
態様を示している。真空容器/の内部は仕切り壁λによ
ってL室3と下室グに仕切られており、それぞれ排気ロ
!、乙により独立に真空排気されるようになっている、
上室3鑑:はテープ状基体7の送出しロール♂と巻取り
ロール9が配設されている、送出ロール♂からのテープ
状基体7は冷却キャン10に沿って下室yへ移動する。
下室グには蒸発源//が設置されてい・C磁性金属材料
/コは加熱され、その蒸気流/3はマスク/Zを介して
冷却キャン/(7に日って移動するテープ状基体7の上
C:到達し蒸着膜として付着する。マスク/4tは基体
7C;対する所望の入射角の蒸気流13の4が、冷却キ
ャン10面上の基体7に到達せしめられるように配設さ
れている。テープ状基体2が冷却キャン10の回転(図
では右回転)により移動するにつれ磁性金属材料の蒸着
流/3の基体7に対する入射角(θ)は高入射角(θm
a、x)から低入射角(θmin)へと連続的に減少す
るように蒸着が行なわれる。冷却キャン10面上の基体
7の近傍で且つ低入射角(θmin)蒸気流近傍にガス
導入ノズルl!を設置するウガス導入ノズル/!は、冷
却キャン10の中心からの距離(R)と冷却キャン10
の半径(「)との比R/ rがハ10以下の範囲となる
ような位置に設置されており、ここから窒素ガスあるい
は窒素酸化物ガスあるいは窒素と酸素の混合ガスあるい
は窒素酸化物と酸素の混合ガスが吹き出される。磁性薄
膜の形成されたテープ状基体7は冷却キャン10に母っ
て下室グから上室3へ移動した後巻取りロールタに巻取
られるようになっている。
本発明に用いられる磁性金属材料としては% F es
Co、Ni等の金属、あるいはFe−Co、li’e 
−Ni、C0−Ni、  Fe−Co−Ni、Fe−R
h。
pe−Cu、C0−Cu% Co−Au、Co−Y。
GO−La、Cu −Pr %Co −Qrl 、  
Co −Sm。
Co−Pt、Ni−Cu、Mn−81% Mn−8b。
Mn−ACFe−Cr% Co−Cr、Ni −Cr、
pe−Co−Cr、Ni −Co−Cr %l;’e−
Co −Ni−Cr等の強磁性合金である。特に好まし
いのはCOあるいはCOを7o重p%り上含有するよう
な合金である5強磁性M、膜は単層でも枦層してもよく
その総厚は、磁気記録媒体として充分な出力を与え得る
厚さおよび高密度記録の充分行える薄さを心動とするこ
とから一般(;は約0.0.2μmから3.0μm1好
ましくは0.0!μmからコ。
Opmである。
本発明に用いられる基体としてはポリエチレンテレフタ
レート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三
酢酸セルロース、ポリカポネート、ポリエチレンナフタ
レートのようなプラスチックベースが好ましい。さらに
アルミニクム、黄銅、ステンレススチール、チタンのよ
うな金属帯も基体として用いられる。
本発明において入射角としては一般には200〜りO″
が望ましく、特に高入射角(θmax)は60’ 〜9
0’、低入射角(θmin)はコθ0〜7j0が望まし
いう 窒素酸化物ガスとしてはN01N20、N2O3、N0
2・ N2O4、N2O5が使用される)本発明の磁気
記録謀体は、磁性金属薄膜上に潤滑剤層を塗設するとと
(二より、摩擦係数の低い、走行性C:すぐれるものと
することができる。潤滑剤としては特公昭j4−261
90号公報等に記載の従来公知のそれが使用できる。
〔実施例〕
次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが本発明
はこれらに限定されるものではない。
実楕例−7 第1図に示された装置を用いて、/コ、jμm厚のポリ
エチレンテレフタレートフィルムの基体上に強磁性金属
薄膜を形成せし、め磁気テープを作製した、冷却キャン
の半径j j Ommで3比がハOfとなるようノズル
を設けたフィルム幅io。
mm、フィルム搬送速度xom1分とし高入射角(θm
ax)を90’、低入射角(θrnin)をtio’と
しCoNi合金(Ni:xO重量係)を蒸発させて膜厚
/、2θθAとなるよう強磁性金属薄膜を形成した。ノ
ズルipから窒素ガスおよび酸素ガスの比を変えた混合
ガスを導入し数種のサンプルを作成したつこうして得ら
れたサンプルの強磁性金属薄膜の表面に潤滑剤としてス
テアリルアルコールを/ Om f 7m 2となるよ
う塗布し磁気テープとした。磁気テープの磁気特性およ
びgmm径のステンレス棒(SUS  3o3)に対し
て往復70回摺動させた後の摩擦係数を測定した。
7111定結果は表/のとおりである。
これから明らかなよう(=窒素ガスと酸素ガスとの混合
比がO−a、Oとなるようにノズル/jからガスを導入
すると磁気特性にすぐれかつ低摩擦係数の磁気記録媒体
が得られるつ 実施例−一 ノズル/!から窒素ガスを32occ1分導入し、他は
実施例/と同様1:磁気テープを作製した。
この際ノズル/jの位置を変化させ種々のμ比に対する
磁気テープを作製しその磁気特性、摩擦係数を実施例−
7と同様にして測定した。また比較のため礪二第1図の
装置においてノズル16から窒素ガスを供給したサンプ
ルも作製した。結果を表コに示すっ 試料NO,4t、  10.  //、  /、2、/
3.14tの比較からノズルを7値で/、10以下とな
るように設置して窒素ガスを導入することによりすぐれ
た磁気記録媒体の得られることが明らかである。
実施例−3 第1図に示された装置において冷却キャンの半径を<<
、2jmmとした装置により、?、!μm厚のポリエデ
レンテレフタレートフイルムの基体上に強磁性金属薄膜
を形成せしめ磁気テープを作製した。フィルム幅JOO
mm、フィルム搬送速度!om1分とし高入射角(#m
ax)を♂z6、低入射角(θmin)をダ!0としC
oCr合金(Cr:!重量′%)の蒸着膜を膜厚1zo
oAとなるよう形成せしめたうしかる後蒸着膜表面に潤
滑剤としてステアリルアルコールを10mf/m2とな
るようI:塗布して磁気テープとした。ガスとしてはN
20ガスを使用し、N20ガスと酸素ガスの混合比およ
びノズル位置をかえて作製したサンプルについて実施例
/と同様シニシて磁気特性を測定したところ表3のごと
くであった。
これから明らかなように本発明の製造方法により作製し
た磁気テープはすぐれた磁気特性を有すると共に摩擦係
数の小さいものである。
〔発明の効果〕
このように冷却キャンに分って移動するテープ状基体の
近傍かつ低入射角(θmin)の蒸気流付近C:ガス導
入部を配し窒素ガス、窒素酸化物ガスあるいは窒素ガス
と酸素ガスの混合ガス、窒素酸化物ガスと酸素ガスの混
合ガスを導入しつつ斜めM着により強磁性金属薄膜を形
成することC;より、磁気特性にすぐれると共茗二潤滑
剤塗布により低摩擦係数の磁気記録媒体を得ることがで
きるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による磁気記録媒体の製造方法を実抱す
るための真空蒸着装置の一例を示している。 /・・・真空容器、λ・・・仕切壁、3・・・上室、グ
・・・下室、!、6・・・排気孔、7・・・基体、!・
・・送り出しロール、?・・・巻取りロール、/θ・・
・冷却キャン、//・・・蒸発源、/2・・・磁性金属
材料、/3・・・磁性金属材料蒸気流、/4t・・・マ
スク、/j・・・ガス導入ノズル、/6・・・従来方法
によるガス導入ノズル

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)冷却キヤンに沿つて移動するテープ状基体に対し
    て、蒸発源より蒸発せしめられた磁性金属材料の蒸気流
    の入射角(θ)が高入射角(θmax)から低入射角(
    θmin)へと連続的に変化するように蒸着して磁気記
    録媒体を製造する方法において、該基体の近傍かつ低入
    射角(θmin)蒸気流付近にガス導入部を配し窒素ガ
    ス、窒素酸化物ガス、窒素と酸素との混合ガスあるいは
    窒素酸化物と酸素との混合ガスを導入しつつ強磁性金属
    薄膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
    法。
  2. (2)窒素ガスあるいは窒素酸化物ガスと酸素ガスとの
    混合比〔酸素ガス/(窒素ガスあるいは窒素酸化物ガス
    )〕を0〜2.0としたことを特徴とする特許請求の範
    囲第(1)項記載の磁気記録媒体の製造方法。
  3. (3)冷却キヤンの中心からガス導入部迄の距離(R)
    と冷却キヤンの半径(r)との比(R/r)が1.10
    以下となるようにガス導入部を配設して強磁性金属薄膜
    を形成することを特徴とする特許請求の範囲第(1)項
    記載の磁気記録媒体の製法。
JP16986084A 1984-08-14 1984-08-14 磁気記録媒体の製造方法 Granted JPS6148128A (ja)

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