JPS6148127A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造方法

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JPS6148127A
JPS6148127A JP16985984A JP16985984A JPS6148127A JP S6148127 A JPS6148127 A JP S6148127A JP 16985984 A JP16985984 A JP 16985984A JP 16985984 A JP16985984 A JP 16985984A JP S6148127 A JPS6148127 A JP S6148127A
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JP
Japan
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gas
carbon dioxide
magnetic recording
cooling
recording medium
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JP16985984A
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English (en)
Inventor
Tadashi Yasunaga
正 安永
Ryuji Shirahata
龍司 白幡
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はテープ状基体上に磁気記録層として強磁性金属
薄膜金設けてなる磁気記録媒体の製造方法に関し、特に
磁気特性にすぐれると共に膜強度にすぐれ且つカールの
少ない金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する。
〔従来技術〕
従来磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にγ−F6
203、Cofドープしたr−FezO3、Fe0Co
ftドープしたF e 304.3  4% r−Fe20sとFeas4のベルトライド化合物、C
rO2等の磁性粉末あるいは強磁性合金粉末等を粉末磁
性材料全塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレンー
ヅタジエン共重合体、エポキシ樹n’+’l sポリウ
レタン樹脂等の有機バインダー中に分散せしめたもの金
塗布し乾燥させる塗布型のものが広く使用されてきてい
る。近年冒密度記録への要求の高まりと共に真空蒸着、
スパッタリング、イオンブレーティング等のハーノξ−
デポジション法あるいは電気メッキ、無電解メッキ等の
メッキ法により形成される強磁性金属薄膜を磁気記録層
とする、バインダー全使用しない、いわゆる非バインダ
ー型磁気記録媒体が注目を浴びており実用化への努力が
種々性なわれている。
従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
り飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な磁性層薄層化が信号出
力の低下をもたらすため限界にきておシ、かつその製造
工程も複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大き
な附帯設備を要するという欠点を有している。非バイン
ダー型の磁気記録媒体では上記酸化物、、cシ大きな飽
和磁化を有する強磁性金属をバインダーの如き非磁性物
質を含有しない状態で薄膜として形成せしめるため、高
密度記録化のために超薄層化できるという利点を有し、
しかもその製造工程はより簡略化される。
高密度記録化の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
して、高抗磁力化、薄形化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
層化が容易で、飽和磁束密度の大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい。
とくに真空蒸着による方法は、メッキの場合のような排
液処理全必要とせず製造工程も藺導で膜の析出速度も大
きくできるため非常にメリットが大きい。真空蒸着によ
って磁気記録媒体に望ましい抗磁力および角型性を有す
る磁性膜を製造する方法とIしては、米国特許JJ−λ
ぶ32号、同J3弘1433号等に述べられている斜め
蒸着法が知られている。
実際にテープ状基体に斜め蒸着法により強磁性金属薄膜
を設は磁気記録媒体を製造するに際しては、テープ状基
体を冷却キャンに沿って搬送せしめ蒸発源より蒸発せし
められた磁性金属材料の蒸気流を移動するテープ状基体
に斜めに入射蒸着せしめる方法が行なわれる。この際、
基体に対して入射する蒸気流の入射角が大きいほど高抗
磁力の磁性薄膜が得られるが入射角が大きいと蒸着効率
が低下するという現象があり製造上好ましくない。
比較的低入射角にて抗磁力の高い強磁性金属薄膜を形成
させる方法として斜め蒸着の際に散票を導入さ誓る方法
が提案されており、例えば特開昭!1−1/μ4c3号
には、テープ状移動基体に対する蒸気流の入射角(θ)
が高入射角(θmax)から低入射角(θmin)へと
連続的に変化するように前記基体全移動せしめると共に
、低入射角(θmin)近傍に酸化性ガスを導入する方
法が開示されている。この方法によれば高抗、磁力の膜
は得られるが角型性が劣化するという欠点を有していた
角型性の劣化を改良する方法として真空槽中に二酸化炭
素ガス管導入しつつ強磁性金属材料を支持体に対し斜め
蒸着せしめる方法が特開昭Jl−20r237号に開示
されている。しかしながら長尺テープ状基体を連続的に
搬送しつつ斜め蒸着により磁気テープを製造する場合に
は昨に真空槽壁より真空槽中に二酸化炭素ガスを導入し
ても磁気特性の改良が得られなかった。さらに従来の酸
化性ガスの導入あるいは二識化炭素ガスの導入しつつ斜
め蒸着して見られる磁気記録媒体においては、磁性膜と
しての膜強度が十分でなくVTR等で磁気テープt−走
行させた場合に耐久性が不十分でアリ、又蒸着後磁性膜
を内側としてカールがしばしば発生することがあり改良
が望まれていた。
〔発明の目的〕
本発明の第1の目的は、上記の欠点を改良した磁気記録
媒体、特に磁気特性のすぐれた磁気記録媒体の製造方法
を提供することにある。さらに本発明の第2の目的は、
膜強度にすぐれると共にカールの少ない磁気記録媒体の
製造方法を提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明は、冷却キャンに沿って移動するテープ状基体に
対して蒸発源より蒸発せしめられた強磁性金属材料の蒸
気流の入射角(θ)が高入射角(θmax)から低入射
角(0m i n )へと連続的に変化するように蒸着
せしめて磁気記録媒体を製造する方法において、核基体
の近傍かつ低入射角(θmin)蒸気流付近にガス導入
部を配し、二酸化炭素ガスあるいは二酸化炭素と酸素の
混合ガスを導入しつつ強磁性金属薄膜全形成することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法に関する。さらに上
記製造方法において二酸化炭素とr11素との混合比(
rR素ガス/二酸化炭素ガス)t−0−2,0とし九こ
とを特徴とした磁気記録媒体の製造方法に関する。さら
に本発明は上記製造方法において冷却キャンの中心から
ガス導入部迄の距離(R)と冷却キャンの半径(r)と
の比(R/r)がl。
IO以下となるようにガス導入部を配設して強磁性金属
薄膜を形成するととt−特徴とする磁気記録媒体の製造
方法に関する。
第1図は、本発明による磁気記録媒体の製造方法の一実
施態様を示している。真空容器lの内部は仕切り壁2に
よって上室Jと下室μに仕切られており、それぞれ排気
口よ、乙により独立に真空排気されるようになっている
。上室3にはテープ状基体7の送出しロールtと巻取り
ロール2が配設されている送出ロールtからのテープ状
基体7は冷却キャン10に沿って下室弘へ移動する。下
室弘には蒸発源//が設置されていて、磁性金属材料1
2は加熱され、その蒸気流13は、マスク/4ct−介
して冷却キャンioに沿って移動するテープ状基体7の
上に到達し蒸着膜として付着する。
マスク/4’は基体7に対する所望の入射角の蒸気流1
3のみが、冷却キャン10面上の基体7に到達せしめら
れるように配設されている。テープ状基体7が冷却キヤ
y10の回転(図では右回転)によグ移動するにつれ強
磁性金属材料の蒸気i/3の基体7に対する入射角(θ
)は高入射角(0max)から低入射角(θmin)へ
と連続的に変化するように蒸着が行なわれる。冷却キャ
ンlO面上の基体7の近傍でかつ低入射角(0m i 
n )蒸気流近傍にガス導入ノズルljを設置する。ガ
ス導入ノズル12は、冷却キャン10の中心からの距離
(R)と冷却キャン10の半径(r)との比R/rが/
、10以下となるように設置されており、ここから二酸
化炭素ガスあるいは二酸化炭素と酸素の混合ガスが吹き
出される。強磁性薄膜の形成されたテープ状基体7は冷
却キャ710に沿って下室弘から上皇3へ移動した後巻
取りロールタに巻取られるようになっている。
本発明に用いられる磁性金属材料としては、Fes 0
0% N1等の金属、わるいはFe  C05Fe−N
i%Co−Ni%Fe−Co−Ni%Fe−Rh%)’
6−Cu、Co−Cu%Co−Au、 CO−Y%Co
−La、 Co−p r%C。
−Gd、Co−8m%Co−PL、Ni−Cu。
Mn−B is Mn−8b%Mn−At5 Fe −
Cr、Co−Cr%Nt−Cr1p6−Co−Cr%N
i−Co−Cr%Fe−Co−Ni−Cr等の強磁性合
金である。特に好ましいのはCOあるいはCof70重
景−以重量有するような合金である。強磁性薄ItXは
尋層でも積層してもよくその総厚は、磁気記録媒体とし
て充分な出力を与え得る厚さおよび高密度記録の充分行
える薄さを必要とすることから一般には約0.02μm
からj、0μm、好ましくは0.01μmから4゜0μ
mである。
本発明に用いられる基体としてはポリエチレンテレフタ
レート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三
酢酸セルロース、ポリカポネート、ポリエチレンナフタ
レートのようなプラスチックベースが好ましい。さらに
アルミニウム、黄銅、ステンレススチール、チタンのよ
うな金属帯も基体として用いられる。
〔実施例〕
次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが本I発
明はこれらに限定されるものではない。
実施例−1 @/図に示された装置音用いて、lコ、3μm厚のポリ
エチレンテレフタレートフィルム基体上に強磁性金属薄
膜を形成せしめ磁気テープを作製した。冷却キャンの半
径Jjnで一比が7.O!となるようノズルを設けた。
フィルム幅70018%フィルム搬送速lf2am7分
とし、高入射角(θmax)り、70、低入射角(θm
in)!O’ としCoNi合金(NieuO重量%)
を蒸発させて膜厚i、xoolとなるよう強磁性金@薄
膜を形成し比。ノズル/!から二酸化炭素および酸素ガ
スの比を変えた混合ガスを導入し数種の磁気テープを作
成した。こうして得られた磁気テープの磁気特性、膜強
度、およびカールを測定した。膜強度は荷Mkかけた尖
端径O0μ闘のサファイア針で膜面を引掻いた時に、膜
抜けの生ずる時の荷重の大きさで求めた。またカールに
ついては一吋幅にスリットした磁気テープの幅方向のカ
ールの曲めた。測定した結果は表7のとおりである。
i4 /から明らかなように二酸化炭素ガスと酸素ガス
との混合比が0S−2,Oとなるようにノズル/!から
ガスを導入すると磁気特性、膜強閾、カールにおいてす
ぐれた磁気記録媒体が得られる。
実施例−2 ノズル/jから二酸化炭紫ガスf2IO印/分専大し、
他は実施例−1と同様に磁気テープを作製した。この際
ノズルljの位置を変化させ、種種の一比に対する磁気
テープ全作製しその磁気特性、膜強11カール全実施例
−1と同様にして測定した。ま几比較のために第1図の
装置においてノズル16から二酸化炭素ガスを供給し穴
サンプ表コにおいて試料I6μ、lλ、13、/A、/
下となるように設置して二識化炭素ガス全導入すること
によりすぐれた磁気記録媒体の得られる仁とが明らかで
ある。
実施例−3 第1図に示された装置を用い、Y、jμm淳のポリエチ
レンテレフタレートフィルム基体上に強磁性薄膜金形底
せしめ磁気テープを作製した。フィルム@J 0014
翼、フィルム搬送速度j Om/分とし、高入射角(θ
maX)’(110%低入射角(θmin)1<ct’
 とし、CoCr合金(Cr35重量%)の蒸着at膜
厚1zooAとなるよう形成せしめた。
二酸化炭素ガスと酸素ガスの混合比およびノズル位置を
かえて作製し友サンプルについて実施例1と同様にして
磁気特性、膜強匿およびカールを測定したところ表3の
ごとくであった。
これから明らかなように本発明の製造方法により作製し
た磁気テープはすぐれ几磁気特性、膜強度t−有し且つ
カールが少ないものである。
〔発明の効果〕
このように冷却キャンに沿って移動するテープ状基体の
近傍かつ低入射角(・17m1n)の蒸気流付近にガス
導入部を配し二酸化炭素ガスあるいは二酸化炭素ガスと
2素ガスの混合ガスを導入しつつ斜め蒸着により強磁性
金1i薄膜を形成することにより、磁気特性にすぐれる
と共に膜強度にすぐれかつカールの少ない金圀薄良型磁
気記録媒体が得られるものである。
【図面の簡単な説明】
第7図は、本発明による磁気記録媒体の製造方法を実施
するための一装置例を示している。 ハ・・真空容器、λ・・・仕切壁、3・・・上室、弘・
・・下意、!、4・・・排気孔、7・・・基体、t・・
・送シ出しロール、り・・・巻取りロール、IO・・・
冷却キャン、ll・・・蒸発源、12・・・磁性金属材
料、13・・・磁性金属材料蒸気流、lμ・・・マスク
、lj・・・ガス導入ノズル、/4・・・従来方法によ
るガス導入ノズル特許出願人 富士写真フィルム株式会
社手続補装置 昭和52年72月12日 1、事件の表示    昭和!2年特願第1691より
号2、発明の名称  磁気記録媒体の製造方法3、補正
をする者 事件との関係       特許出願人連絡先 〒10
6東京都港区西麻布2丁目26番30号4、補正の対象
  明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 l)明細書第を頁3行 「設されている」を 「役されている。」 と補正する。 コ)同書第70頁lI行 「 3 j 冨冒」  を 「3jOH」 と補正する。 3)同書第10頁Ir行 f旦比」を rR/rJ と補正する。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)冷却キヤンに沿つて移動するテープ状基体に対し
    て、蒸発源より蒸発せしめられた磁性金属材料の蒸気流
    の入射角(θ)が高入射角(θmax)から低入射角(
    θmin)へと連続的に変化するように蒸着して磁気記
    録媒体を製造する方法において、該基体の近傍かつ低入
    射角(θmin)蒸気流付近にガス導入部を配し二酸化
    炭素ガスあるいは二酸化炭素と酸素の混合ガスを導入し
    つつ強磁性金属薄膜を形成することを特徴とする磁気記
    録媒体の製造方法。
  2. (2)二酸化炭素ガスと酸素ガスとの混合比(酸素ガス
    /二酸化炭素ガス)を0〜2.0としたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第(1)項記載の磁気記録媒体の製造
    方法。
  3. (3)冷却キヤンの中心からガス導入部迄の距離(R)
    と冷却キヤンの半径(r)との比(R/r)が1.10
    以下の範囲となるようにガス導入部を配設して強磁性金
    属薄膜を形成することを特徴とする特許請求の範囲第(
    1)項記載の磁気記録媒体の製造方法。
JP16985984A 1984-08-14 1984-08-14 磁気記録媒体の製造方法 Pending JPS6148127A (ja)

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