JPS6122852B2 - - Google Patents
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- JPS6122852B2 JPS6122852B2 JP10984379A JP10984379A JPS6122852B2 JP S6122852 B2 JPS6122852 B2 JP S6122852B2 JP 10984379 A JP10984379 A JP 10984379A JP 10984379 A JP10984379 A JP 10984379A JP S6122852 B2 JPS6122852 B2 JP S6122852B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
本発明は磁気記録媒体、特に金属磁性材料より
成る磁性層を有する磁気記録媒体の製法に係わ
る。 近時、高記録密度の要求に応じて金属磁性材
料、例えばCo,Co−Cr,Co−Ni,Fe,Ni等の
金属磁性材料を真空蒸着、特に斜め蒸着、或るい
はイオンプレーテイング、電気メツキ等によつて
非磁性基体上に例えばその長手方向に沿つて金属
粒子を配向した状態で被着して成る磁気記録媒体
は充填密度(パツキングデンシテイ)が大で高抗
磁力Hcを有するが故に脚光を浴びるに至つてい
る。特に金属磁性材料の非磁性基体上への斜め蒸
着によつて磁性層を形成するようにしたものにあ
つては、高い充填密度が得られ、高抗磁力Hcが
得られてすぐれた磁気特性を有するので、広く検
討されるに至つている。しかしながら、この方法
による場合、金属磁性材料の斜め蒸着によるがた
めに蒸着効率が低く、工業的に難点があり、また
蒸着膜の機械的強度において必ずしも十分なもの
といえない欠点がある。 本発明においては、このように欠点を解消した
金属磁性材料により磁性層を有する磁気記録媒体
を得ることができるようにした磁気記録媒体の製
法を提供するものである。 本発明においては、耐熱性にすぐれた非磁性基
体、例えばポリイミドフイルム、あるいはポリア
ミドフイルム等のプラスチツクフイルム上に、金
属磁性材料、例えばCo,Co−Cr,Co−Ni,
Fe,Ni等を蒸着、イオンプレーテイング、スパ
ツタリング等のいわゆるドライプレーテイングに
よつて、または無電界メツキあるいは電界メツキ
等の手段、望ましくは斜め蒸着によつて金属磁性
材料を被着形成する。そしてその後この金属磁性
材料層を、200℃〜450℃の温度で酸素を含む雰囲
気中でアニール処理する。 次に、本発明の一実施例を説明する。 実施例 1 図面に示すような真空ベルジヤ、すなわち容器
1を設け、この容器1を真空ポンプに連結して排
気する。容器1内には、加熱手段2が設けられこ
れによつて前述した金属磁性材料の蒸着源3か
ら、金属磁性材料が蒸発するようになされる。4
は発熱体すなわち蒸着源3の加熱手段2の電源を
示す。一方、この蒸着源3に対向して案内ドラム
15が設けられ、これを巡つて非磁性基体すなわ
ちポリミイド、ポリアミドフイルム等のプラスチ
ツクフイルム6がその供給ロール7から巻き取り
ロール8に向つて移行するようになされている。
また蒸着源3と非磁性基体6を案内する案内ドラ
ム5との間には蒸着遮蔽体9が設けられ、これに
穿設された窓9aを通じて蒸着源3より蒸発した
金属磁性材料が非磁性基体6上に斜めに蒸着され
るようになされる。 本実施例においては、このような蒸着装置を用
いて非磁性基体6に磁性層の形成を行う。基体6
は例えば厚さ12μmのポリアミドフイルムを用い
得る。容器1内の真空度は、例えば2×10-6〜5
×10-5Torrにし、蒸着源3としてはCoを用いて
フイルムすなわち基体上への入射角が65℃程度に
なるように設定して非磁性基体6上に1000Å〜
3000Åの厚さをもつて金属磁性材料層すなわち
Co層を被着した。このようにして得た磁性層の
磁気特性は、その抗磁力Hcが約600Oe(エルス
テツド)であり角型比Rsは約95%であつた。そ
して、その蒸着効率は約4〜5%となつた。そし
て、特に本発明においては、このようにして得た
磁気記録媒体に対してアニール処理を施す。この
アニール処理は200℃の酸素雰囲気中で1時間行
つたものを試料1とし、300℃で酸素50%の雰囲
気中で1時間行つたものを試料2とし、350℃で
酸素70%の雰囲気中で1時間行つたものを試料3
として、その夫々のアニール処理を施したもの
と、アニール処理を施す以前における磁気媒体の
夫々の抗磁力Hcと角型比Rsを表1に示す。また
表1中にはダイアモンド針で所定の力をもつてひ
つかいてアニールが未処理のものに対して5μm
の傷幅を形成したと同条件でひつかいた場合の傷
幅の測定結果を示した。
成る磁性層を有する磁気記録媒体の製法に係わ
る。 近時、高記録密度の要求に応じて金属磁性材
料、例えばCo,Co−Cr,Co−Ni,Fe,Ni等の
金属磁性材料を真空蒸着、特に斜め蒸着、或るい
はイオンプレーテイング、電気メツキ等によつて
非磁性基体上に例えばその長手方向に沿つて金属
粒子を配向した状態で被着して成る磁気記録媒体
は充填密度(パツキングデンシテイ)が大で高抗
磁力Hcを有するが故に脚光を浴びるに至つてい
る。特に金属磁性材料の非磁性基体上への斜め蒸
着によつて磁性層を形成するようにしたものにあ
つては、高い充填密度が得られ、高抗磁力Hcが
得られてすぐれた磁気特性を有するので、広く検
討されるに至つている。しかしながら、この方法
による場合、金属磁性材料の斜め蒸着によるがた
めに蒸着効率が低く、工業的に難点があり、また
蒸着膜の機械的強度において必ずしも十分なもの
といえない欠点がある。 本発明においては、このように欠点を解消した
金属磁性材料により磁性層を有する磁気記録媒体
を得ることができるようにした磁気記録媒体の製
法を提供するものである。 本発明においては、耐熱性にすぐれた非磁性基
体、例えばポリイミドフイルム、あるいはポリア
ミドフイルム等のプラスチツクフイルム上に、金
属磁性材料、例えばCo,Co−Cr,Co−Ni,
Fe,Ni等を蒸着、イオンプレーテイング、スパ
ツタリング等のいわゆるドライプレーテイングに
よつて、または無電界メツキあるいは電界メツキ
等の手段、望ましくは斜め蒸着によつて金属磁性
材料を被着形成する。そしてその後この金属磁性
材料層を、200℃〜450℃の温度で酸素を含む雰囲
気中でアニール処理する。 次に、本発明の一実施例を説明する。 実施例 1 図面に示すような真空ベルジヤ、すなわち容器
1を設け、この容器1を真空ポンプに連結して排
気する。容器1内には、加熱手段2が設けられこ
れによつて前述した金属磁性材料の蒸着源3か
ら、金属磁性材料が蒸発するようになされる。4
は発熱体すなわち蒸着源3の加熱手段2の電源を
示す。一方、この蒸着源3に対向して案内ドラム
15が設けられ、これを巡つて非磁性基体すなわ
ちポリミイド、ポリアミドフイルム等のプラスチ
ツクフイルム6がその供給ロール7から巻き取り
ロール8に向つて移行するようになされている。
また蒸着源3と非磁性基体6を案内する案内ドラ
ム5との間には蒸着遮蔽体9が設けられ、これに
穿設された窓9aを通じて蒸着源3より蒸発した
金属磁性材料が非磁性基体6上に斜めに蒸着され
るようになされる。 本実施例においては、このような蒸着装置を用
いて非磁性基体6に磁性層の形成を行う。基体6
は例えば厚さ12μmのポリアミドフイルムを用い
得る。容器1内の真空度は、例えば2×10-6〜5
×10-5Torrにし、蒸着源3としてはCoを用いて
フイルムすなわち基体上への入射角が65℃程度に
なるように設定して非磁性基体6上に1000Å〜
3000Åの厚さをもつて金属磁性材料層すなわち
Co層を被着した。このようにして得た磁性層の
磁気特性は、その抗磁力Hcが約600Oe(エルス
テツド)であり角型比Rsは約95%であつた。そ
して、その蒸着効率は約4〜5%となつた。そし
て、特に本発明においては、このようにして得た
磁気記録媒体に対してアニール処理を施す。この
アニール処理は200℃の酸素雰囲気中で1時間行
つたものを試料1とし、300℃で酸素50%の雰囲
気中で1時間行つたものを試料2とし、350℃で
酸素70%の雰囲気中で1時間行つたものを試料3
として、その夫々のアニール処理を施したもの
と、アニール処理を施す以前における磁気媒体の
夫々の抗磁力Hcと角型比Rsを表1に示す。また
表1中にはダイアモンド針で所定の力をもつてひ
つかいてアニールが未処理のものに対して5μm
の傷幅を形成したと同条件でひつかいた場合の傷
幅の測定結果を示した。
【表】
上掲の表1より明らかなように、本発明製法に
よる場合、抗磁力Hcが向上することが判る。こ
れは酸素雰囲気中でのアニール処理によつて、蒸
着された粒子の表面が酸化されて粒子間の分離が
行われ、これによつて抗磁力が高められたと思わ
れる。 また、本発明による場合、抗磁力Hcのみなら
ず、機械的強度も、その傷幅測定によつて明らか
なように格段的に向上していることが判る。 尚、熱処理温度すなわちアニール処理温度を
200℃〜450℃に選定する理由は、200℃未満で
は、アニールによる特性向上が左程顕著ではな
く、また450℃を越えると、基体6に加熱による
影響が生じてくることに図る。 尚、上述した例においては、雰囲気が酸素雰囲
気について行つた場合であるが、不活性ガスと酸
素の混合ガス中でのアニール処理においても抗磁
力Hcと機械的強度の向上が図られた。この場合
においても粒子の表面に何らかの化合物が生じ、
これによつて粒界の分離が行われて抗磁力Hcの
向上が高められるものと思われる。 また、上述したように本発明製法によれば、そ
の磁気特性すなわち抗磁力の向上に伴つて、例え
ば同程度の抗磁力を得る場合に、その斜め蒸着の
入射角を、従来に比し小さくすることができこれ
に伴つて蒸着効率を高める効果を奏することがで
きる。因みに、Coを入射角度50゜にセツトし
て、その蒸着を行つたところ、Hcが400Oe,Rs
は95%で、蒸着効率は約7%であつた。これを試
料2と同様の条件でアニール処理をしたところ、
そのHcは600Oeにまで向上させることができ
た。 上述したように本発明製法によれば、磁性材料
層の機械的強度の向上を図ることができたことに
よつて磁気媒体の耐久性の向上を図ることができ
また抗磁力Hcの向上により短波長特性の改善、
高密度記録化が可能となり実用に供してその利益
は甚大である。
よる場合、抗磁力Hcが向上することが判る。こ
れは酸素雰囲気中でのアニール処理によつて、蒸
着された粒子の表面が酸化されて粒子間の分離が
行われ、これによつて抗磁力が高められたと思わ
れる。 また、本発明による場合、抗磁力Hcのみなら
ず、機械的強度も、その傷幅測定によつて明らか
なように格段的に向上していることが判る。 尚、熱処理温度すなわちアニール処理温度を
200℃〜450℃に選定する理由は、200℃未満で
は、アニールによる特性向上が左程顕著ではな
く、また450℃を越えると、基体6に加熱による
影響が生じてくることに図る。 尚、上述した例においては、雰囲気が酸素雰囲
気について行つた場合であるが、不活性ガスと酸
素の混合ガス中でのアニール処理においても抗磁
力Hcと機械的強度の向上が図られた。この場合
においても粒子の表面に何らかの化合物が生じ、
これによつて粒界の分離が行われて抗磁力Hcの
向上が高められるものと思われる。 また、上述したように本発明製法によれば、そ
の磁気特性すなわち抗磁力の向上に伴つて、例え
ば同程度の抗磁力を得る場合に、その斜め蒸着の
入射角を、従来に比し小さくすることができこれ
に伴つて蒸着効率を高める効果を奏することがで
きる。因みに、Coを入射角度50゜にセツトし
て、その蒸着を行つたところ、Hcが400Oe,Rs
は95%で、蒸着効率は約7%であつた。これを試
料2と同様の条件でアニール処理をしたところ、
そのHcは600Oeにまで向上させることができ
た。 上述したように本発明製法によれば、磁性材料
層の機械的強度の向上を図ることができたことに
よつて磁気媒体の耐久性の向上を図ることができ
また抗磁力Hcの向上により短波長特性の改善、
高密度記録化が可能となり実用に供してその利益
は甚大である。
図は本発明製法に用いる金属蒸着装置の一例の
略線的断面図である。 1は真空蒸着容器、3は蒸着源、6は非磁性基
体、9は蒸着遮蔽体である。
略線的断面図である。 1は真空蒸着容器、3は蒸着源、6は非磁性基
体、9は蒸着遮蔽体である。
Claims (1)
- 1 非磁性基体上にCo系金属磁性材料層を形成
した後、200℃〜450℃の酸素を含む非還元性雰囲
気中で熱処理することを特徴とする磁気記録媒体
の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10984379A JPS5633810A (en) | 1979-08-29 | 1979-08-29 | Preparation of magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10984379A JPS5633810A (en) | 1979-08-29 | 1979-08-29 | Preparation of magnetic recording medium |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5633810A JPS5633810A (en) | 1981-04-04 |
JPS6122852B2 true JPS6122852B2 (ja) | 1986-06-03 |
Family
ID=14520599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10984379A Granted JPS5633810A (en) | 1979-08-29 | 1979-08-29 | Preparation of magnetic recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5633810A (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57198543A (en) * | 1981-05-28 | 1982-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
JPS58212116A (ja) * | 1982-06-04 | 1983-12-09 | Hitachi Condenser Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPS5982637A (ja) * | 1982-11-04 | 1984-05-12 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
JPS59165244A (ja) * | 1983-03-08 | 1984-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置 |
JPS59173919A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-02 | 富士電機株式会社 | しや断器の油圧操作器 |
JPS6199925A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-19 | Nec Corp | 磁気記憶体およびその製造方法 |
JPH07120596B2 (ja) * | 1987-10-23 | 1995-12-20 | 株式会社安川電機 | 強磁性薄膜の形成方法 |
US20030059604A1 (en) | 2001-09-05 | 2003-03-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Material coated with dispersion of ferromagnetic nanoparticles, and magnetic recording medium using the material |
JP4524078B2 (ja) * | 2002-05-31 | 2010-08-11 | 富士フイルム株式会社 | 磁性粒子およびその製造方法、並びに、磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1979
- 1979-08-29 JP JP10984379A patent/JPS5633810A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5633810A (en) | 1981-04-04 |
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