JPS6122852B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6122852B2
JPS6122852B2 JP10984379A JP10984379A JPS6122852B2 JP S6122852 B2 JPS6122852 B2 JP S6122852B2 JP 10984379 A JP10984379 A JP 10984379A JP 10984379 A JP10984379 A JP 10984379A JP S6122852 B2 JPS6122852 B2 JP S6122852B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
coercive force
vapor deposition
magnetic material
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP10984379A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5633810A (en
Inventor
Norio Yokoyama
Eisuke Myairi
Chuji Seki
Yasuyoshi Kudo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP10984379A priority Critical patent/JPS5633810A/ja
Publication of JPS5633810A publication Critical patent/JPS5633810A/ja
Publication of JPS6122852B2 publication Critical patent/JPS6122852B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体、特に金属磁性材料より
成る磁性層を有する磁気記録媒体の製法に係わ
る。 近時、高記録密度の要求に応じて金属磁性材
料、例えばCo,Co−Cr,Co−Ni,Fe,Ni等の
金属磁性材料を真空蒸着、特に斜め蒸着、或るい
はイオンプレーテイング、電気メツキ等によつて
非磁性基体上に例えばその長手方向に沿つて金属
粒子を配向した状態で被着して成る磁気記録媒体
は充填密度(パツキングデンシテイ)が大で高抗
磁力Hcを有するが故に脚光を浴びるに至つてい
る。特に金属磁性材料の非磁性基体上への斜め蒸
着によつて磁性層を形成するようにしたものにあ
つては、高い充填密度が得られ、高抗磁力Hcが
得られてすぐれた磁気特性を有するので、広く検
討されるに至つている。しかしながら、この方法
による場合、金属磁性材料の斜め蒸着によるがた
めに蒸着効率が低く、工業的に難点があり、また
蒸着膜の機械的強度において必ずしも十分なもの
といえない欠点がある。 本発明においては、このように欠点を解消した
金属磁性材料により磁性層を有する磁気記録媒体
を得ることができるようにした磁気記録媒体の製
法を提供するものである。 本発明においては、耐熱性にすぐれた非磁性基
体、例えばポリイミドフイルム、あるいはポリア
ミドフイルム等のプラスチツクフイルム上に、金
属磁性材料、例えばCo,Co−Cr,Co−Ni,
Fe,Ni等を蒸着、イオンプレーテイング、スパ
ツタリング等のいわゆるドライプレーテイングに
よつて、または無電界メツキあるいは電界メツキ
等の手段、望ましくは斜め蒸着によつて金属磁性
材料を被着形成する。そしてその後この金属磁性
材料層を、200℃〜450℃の温度で酸素を含む雰囲
気中でアニール処理する。 次に、本発明の一実施例を説明する。 実施例 1 図面に示すような真空ベルジヤ、すなわち容器
1を設け、この容器1を真空ポンプに連結して排
気する。容器1内には、加熱手段2が設けられこ
れによつて前述した金属磁性材料の蒸着源3か
ら、金属磁性材料が蒸発するようになされる。4
は発熱体すなわち蒸着源3の加熱手段2の電源を
示す。一方、この蒸着源3に対向して案内ドラム
15が設けられ、これを巡つて非磁性基体すなわ
ちポリミイド、ポリアミドフイルム等のプラスチ
ツクフイルム6がその供給ロール7から巻き取り
ロール8に向つて移行するようになされている。
また蒸着源3と非磁性基体6を案内する案内ドラ
ム5との間には蒸着遮蔽体9が設けられ、これに
穿設された窓9aを通じて蒸着源3より蒸発した
金属磁性材料が非磁性基体6上に斜めに蒸着され
るようになされる。 本実施例においては、このような蒸着装置を用
いて非磁性基体6に磁性層の形成を行う。基体6
は例えば厚さ12μmのポリアミドフイルムを用い
得る。容器1内の真空度は、例えば2×10-6〜5
×10-5Torrにし、蒸着源3としてはCoを用いて
フイルムすなわち基体上への入射角が65℃程度に
なるように設定して非磁性基体6上に1000Å〜
3000Åの厚さをもつて金属磁性材料層すなわち
Co層を被着した。このようにして得た磁性層の
磁気特性は、その抗磁力Hcが約600Oe(エルス
テツド)であり角型比Rsは約95%であつた。そ
して、その蒸着効率は約4〜5%となつた。そし
て、特に本発明においては、このようにして得た
磁気記録媒体に対してアニール処理を施す。この
アニール処理は200℃の酸素雰囲気中で1時間行
つたものを試料1とし、300℃で酸素50%の雰囲
気中で1時間行つたものを試料2とし、350℃で
酸素70%の雰囲気中で1時間行つたものを試料3
として、その夫々のアニール処理を施したもの
と、アニール処理を施す以前における磁気媒体の
夫々の抗磁力Hcと角型比Rsを表1に示す。また
表1中にはダイアモンド針で所定の力をもつてひ
つかいてアニールが未処理のものに対して5μm
の傷幅を形成したと同条件でひつかいた場合の傷
幅の測定結果を示した。
【表】 上掲の表1より明らかなように、本発明製法に
よる場合、抗磁力Hcが向上することが判る。こ
れは酸素雰囲気中でのアニール処理によつて、蒸
着された粒子の表面が酸化されて粒子間の分離が
行われ、これによつて抗磁力が高められたと思わ
れる。 また、本発明による場合、抗磁力Hcのみなら
ず、機械的強度も、その傷幅測定によつて明らか
なように格段的に向上していることが判る。 尚、熱処理温度すなわちアニール処理温度を
200℃〜450℃に選定する理由は、200℃未満で
は、アニールによる特性向上が左程顕著ではな
く、また450℃を越えると、基体6に加熱による
影響が生じてくることに図る。 尚、上述した例においては、雰囲気が酸素雰囲
気について行つた場合であるが、不活性ガスと酸
素の混合ガス中でのアニール処理においても抗磁
力Hcと機械的強度の向上が図られた。この場合
においても粒子の表面に何らかの化合物が生じ、
これによつて粒界の分離が行われて抗磁力Hcの
向上が高められるものと思われる。 また、上述したように本発明製法によれば、そ
の磁気特性すなわち抗磁力の向上に伴つて、例え
ば同程度の抗磁力を得る場合に、その斜め蒸着の
入射角を、従来に比し小さくすることができこれ
に伴つて蒸着効率を高める効果を奏することがで
きる。因みに、Coを入射角度50゜にセツトし
て、その蒸着を行つたところ、Hcが400Oe,Rs
は95%で、蒸着効率は約7%であつた。これを試
料2と同様の条件でアニール処理をしたところ、
そのHcは600Oeにまで向上させることができ
た。 上述したように本発明製法によれば、磁性材料
層の機械的強度の向上を図ることができたことに
よつて磁気媒体の耐久性の向上を図ることができ
また抗磁力Hcの向上により短波長特性の改善、
高密度記録化が可能となり実用に供してその利益
は甚大である。
【図面の簡単な説明】
図は本発明製法に用いる金属蒸着装置の一例の
略線的断面図である。 1は真空蒸着容器、3は蒸着源、6は非磁性基
体、9は蒸着遮蔽体である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 非磁性基体上にCo系金属磁性材料層を形成
    した後、200℃〜450℃の酸素を含む非還元性雰囲
    気中で熱処理することを特徴とする磁気記録媒体
    の製法。
JP10984379A 1979-08-29 1979-08-29 Preparation of magnetic recording medium Granted JPS5633810A (en)

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JP10984379A JPS5633810A (en) 1979-08-29 1979-08-29 Preparation of magnetic recording medium

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JP10984379A JPS5633810A (en) 1979-08-29 1979-08-29 Preparation of magnetic recording medium

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JPS5633810A JPS5633810A (en) 1981-04-04
JPS6122852B2 true JPS6122852B2 (ja) 1986-06-03

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ID=14520599

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Families Citing this family (9)

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Publication number Publication date
JPS5633810A (en) 1981-04-04

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