JPS6199925A - 磁気記憶体およびその製造方法 - Google Patents
磁気記憶体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6199925A JPS6199925A JP21987084A JP21987084A JPS6199925A JP S6199925 A JPS6199925 A JP S6199925A JP 21987084 A JP21987084 A JP 21987084A JP 21987084 A JP21987084 A JP 21987084A JP S6199925 A JPS6199925 A JP S6199925A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide
- magnetic
- medium
- contg
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は磁気的記憶装置（磁気ディスク装置または磁気
ドラム装置な−ど）に用いられる磁気・記憶体およびそ
の製造方法に関する。
ドラム装置な−ど）に用いられる磁気・記憶体およびそ
の製造方法に関する。
（従来技術とその問題点）
一般に記録再生磁気ヘッド（以下ヘッドと呼ぶ）と磁気
記憶体とを構成部とする磁気記憶装置の記録再生方法に
は次のような方法がある。すなわち操作開始時にヘッド
と磁気記憶体面とを接触状態でセットした後、磁気記憶
体に所要の回転を与えることによりヘッドと磁気記憶体
面との間に空気層分の空間を作り、この状態で記録再生
をする方法である（コンタクト・スタート・ストップ方
式。
記憶体とを構成部とする磁気記憶装置の記録再生方法に
は次のような方法がある。すなわち操作開始時にヘッド
と磁気記憶体面とを接触状態でセットした後、磁気記憶
体に所要の回転を与えることによりヘッドと磁気記憶体
面との間に空気層分の空間を作り、この状態で記録再生
をする方法である（コンタクト・スタート・ストップ方
式。
以下Ｃ８Ｓ方式と呼ぶ）。この方法では操作終了時に磁
気記憶体の回転が止まり、この時ヘッドと磁気記憶体面
は操作開始時と同様に接触摩擦状態にある。
気記憶体の回転が止まり、この時ヘッドと磁気記憶体面
は操作開始時と同様に接触摩擦状態にある。
これらの接触摩擦状態におけるヘッドと磁気記憶体の間
に生じる摩擦力は、ヘッド詔よび磁気記憶体を摩耗させ
ついにはヘッドおよび磁性媒体に傷を生じせしめること
がある。また前記接触摩擦状態においてヘッドのわずか
な姿勢の変化がヘッドにかかる荷重を不均一にさせヘッ
ドおよび磁気記憶体表面に傷を作ることもある。
に生じる摩擦力は、ヘッド詔よび磁気記憶体を摩耗させ
ついにはヘッドおよび磁性媒体に傷を生じせしめること
がある。また前記接触摩擦状態においてヘッドのわずか
な姿勢の変化がヘッドにかかる荷重を不均一にさせヘッ
ドおよび磁気記憶体表面に傷を作ることもある。
この傷の発生を防ぐために従来から特公昭４２−２００
２５に示す様にコバルト−燐又はコバルト−ニッケル燐
合金の表面を高湿度に保ち表面にＣｏ、Ｏ，の保＠膜層
を形成させたり、また特公昭４９−２９４４５に示す様
ｌこコバルト−燐合金の表頁を硝酸などで調整した彼、
２００〜２９０℃の温度で焼成してＣＯｓ ０４ 、ｃ
ｏ、ｏｓ、ｃｏｏなどからなる保護膜層を形成させるこ
とが知られているが、いずれも耐摩耗性が不十分で多数
回のＣ８Ｓの繰り返しにおいて磁気記憶体の傷の発生を
防ぐことが出来なかった。また高湿度の雰囲気において
コバルト酸化物は容易に水分の浸水を許し、耐食性に問
題があった。特にコバルト酸化物は５００Ａ以下の薄い
膜ｌこおいて耐久性と耐食性の劣化が著るしい。
２５に示す様にコバルト−燐又はコバルト−ニッケル燐
合金の表面を高湿度に保ち表面にＣｏ、Ｏ，の保＠膜層
を形成させたり、また特公昭４９−２９４４５に示す様
ｌこコバルト−燐合金の表頁を硝酸などで調整した彼、
２００〜２９０℃の温度で焼成してＣＯｓ ０４ 、ｃ
ｏ、ｏｓ、ｃｏｏなどからなる保護膜層を形成させるこ
とが知られているが、いずれも耐摩耗性が不十分で多数
回のＣ８Ｓの繰り返しにおいて磁気記憶体の傷の発生を
防ぐことが出来なかった。また高湿度の雰囲気において
コバルト酸化物は容易に水分の浸水を許し、耐食性に問
題があった。特にコバルト酸化物は５００Ａ以下の薄い
膜ｌこおいて耐久性と耐食性の劣化が著るしい。
（発明の目的）
本発明の目的は１００Ａ以下の超薄膜においても耐摩耗
性に優れ、かつ耐食性に優れた保護層を有する磁気記憶
体とその製造方法を提供することにある。
性に優れ、かつ耐食性に優れた保護層を有する磁気記憶
体とその製造方法を提供することにある。
（発明の構成）
すなわち本発明の磁気記憶体は下地体の上にＣｒ又はｆ
ｉ、ｅを含む磁性媒体が被覆され、該媒体上に１００Ａ
以下のクロム酸化物又はレニウム酸化物を含む酸化物か
らなる保護層が浴数されてなる構造の磁気記憶体と、下
地体の上にＲｅ又は（ｒを含む合金からなる磁性媒体が
被覆され、該媒体の表面に、。
ｉ、ｅを含む磁性媒体が被覆され、該媒体上に１００Ａ
以下のクロム酸化物又はレニウム酸化物を含む酸化物か
らなる保護層が浴数されてなる構造の磁気記憶体と、下
地体の上にＲｅ又は（ｒを含む合金からなる磁性媒体が
被覆され、該媒体の表面に、。
１００＾以下のクロム酸化物又はレニウム酸化物を含む
酸化層が形成され、該酸化層の上に潤滑剤が被覆されて
なる構造の磁気記憶体であり、また本発明の磁気記憶体
の製造方法は下地体の上にｃｒ又はＲｅを含む磁性媒体
を被覆し、酸素イオンを含むプラズマ中でその表面を酸
化することを特徴とする磁気記憶体の製造方法と下地体
の上にＯｒ又はＲｅを含む磁性媒体を被覆し酸素を有す
る雰囲気中で焼成することにより、その表面を酸化する
ことを特徴とする磁気記憶体の製造方法である。
酸化層が形成され、該酸化層の上に潤滑剤が被覆されて
なる構造の磁気記憶体であり、また本発明の磁気記憶体
の製造方法は下地体の上にｃｒ又はＲｅを含む磁性媒体
を被覆し、酸素イオンを含むプラズマ中でその表面を酸
化することを特徴とする磁気記憶体の製造方法と下地体
の上にＯｒ又はＲｅを含む磁性媒体を被覆し酸素を有す
る雰囲気中で焼成することにより、その表面を酸化する
ことを特徴とする磁気記憶体の製造方法である。
（構成の詳細な説Ｆｆｉ）
次に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の磁気記憶体の部分断面図で下地体１は
アルミ合金又は、陽極酸化アルマイト、Ｎ１−ｐメッキ
膜、Ｃｒａ Ｆ ｅ Ｎ １ 、 ＭＯまたはＷ等を被
覆のアルミ合金、又はポリエステル、ポリイミドポリア
ミドイミド、ポリサルフォン、芳香族ポリエーテルなど
のプラスチック、又はｃｒ Ｊ’ｅＮｉ ＩＭＯ，Ｗな
どの金属、又はガラス板又はセラミックスである。次に
この下地体１の上に磁性媒体２としてｃｏｃｒ、Ｃ０Ｎ
ｉＣｒ 、Ｃ０ＰｔＣｒ、（：ｏｐｅ（ｒ 、ｃ。
アルミ合金又は、陽極酸化アルマイト、Ｎ１−ｐメッキ
膜、Ｃｒａ Ｆ ｅ Ｎ １ 、 ＭＯまたはＷ等を被
覆のアルミ合金、又はポリエステル、ポリイミドポリア
ミドイミド、ポリサルフォン、芳香族ポリエーテルなど
のプラスチック、又はｃｒ Ｊ’ｅＮｉ ＩＭＯ，Ｗな
どの金属、又はガラス板又はセラミックスである。次に
この下地体１の上に磁性媒体２としてｃｏｃｒ、Ｃ０Ｎ
ｉＣｒ 、Ｃ０ＰｔＣｒ、（：ｏｐｅ（ｒ 、ｃ。
ＰｄＣｒ 、 Ｃ０Ｒｕ Ｃｒ 、 ｃｏｖｃ ｒ 、
（：：ｏＭｎ （ｒ、 Ｃ０ＷＣｒ。
（：：ｏＭｎ （ｒ、 Ｃ０ＷＣｒ。
ｃｏｏｓｃｒ、ＣｏＴａＣｒ、（’ｏＴｉＣｒ、ＣｏＣ
ｕ（：ｒ、ｃ。
ｕ（：ｒ、ｃ。
Ｂ１Ｃｒ、ＣｏＣｄＣｒ、ＣｏＢｅＣｒ、ＣｏＺｎＣｒ
＋Ｃｏ’ＭｇＣｒ、Ｃ０ＲｈＣｒ、Ｃ０８ＣＣｒ、ｃｏ
ｙｃｒ、Ｃ０ＲＥＣｒ（ＲＥ：希土類元素）、ＦｅＲＩ
Ｃｒ、ＮＩＲＥＣｒｍＦｅＣｒ、ＮｉＣｒなどのＣｒを
含む合金又はＣ０Ｒｅ＃Ｃ０ＮｉＲｅ＊ＣｏＲｅＰｔＣ
ｏＮ１ＲｅＰ、ＣｏＮｉＭｎＲｅＰｓＣ。
＋Ｃｏ’ＭｇＣｒ、Ｃ０ＲｈＣｒ、Ｃ０８ＣＣｒ、ｃｏ
ｙｃｒ、Ｃ０ＲＥＣｒ（ＲＥ：希土類元素）、ＦｅＲＩ
Ｃｒ、ＮＩＲＥＣｒｍＦｅＣｒ、ＮｉＣｒなどのＣｒを
含む合金又はＣ０Ｒｅ＃Ｃ０ＮｉＲｅ＊ＣｏＲｅＰｔＣ
ｏＮ１ＲｅＰ、ＣｏＮｉＭｎＲｅＰｓＣ。
ｃｒＲｅ ｍ ＦｅＲｅ 、ＮｉＲｅなどのＲｅを含む
合金かめつき法、スパッタリング法又は真空蒸着法、イ
オンプレーテインク法などによって被覆される。
合金かめつき法、スパッタリング法又は真空蒸着法、イ
オンプレーテインク法などによって被覆される。
該磁性媒体２の表面にＣｒｔ０３．Ｃ０Ｃｒ、Ｑ番、ｌ
ｉ’ｅＯｒ！０４を始めとするクロム酸化物あるいはｆ
ｅｅαｈＣＯＲｅＯｓなどのレニウム酸化物を含む酸化
物層３ ゛が熱酸化法あるいはプラズマ酸化法に
より形成される。
ｉ’ｅＯｒ！０４を始めとするクロム酸化物あるいはｆ
ｅｅαｈＣＯＲｅＯｓなどのレニウム酸化物を含む酸化
物層３ ゛が熱酸化法あるいはプラズマ酸化法に
より形成される。
該酸化物層の上に潤滑層４が回転塗布法、蒸着法、スプ
レー法、浸漬法、転写法、などにより被覆される。
レー法、浸漬法、転写法、などにより被覆される。
該潤滑層を形成する潤滑剤はパーフロロアルキルポリエ
ーテル、官能基を有するパーフロロアルキルポリエーテ
ル、パーフロロアルカン、ポリトリフロロクロルエチレ
ン、ポリテトラフロロエチレン、ポリテトラフロロエチ
レンテロマー、パーフロロカルボン酸、パーフロロアル
コール、パーフロロカルボン酸エステル、パーフロロア
ルコールノ脂肪酸エステル、パーフロロアルキルアルコ
キシシラン、７０口シリコーン、パーフロロアルキルス
ルホン酸、パーフロロアルキルスルホン酸アンモニウム
、脂肪族アルキルアルコキシシラン高級脂肪酸、高級脂
肪アルコール、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド
脂肪アミン、不飽和高級脂肪酸、長鎖脂肪族炭化水素、
ポリアルキレングリコール、シリコーンオイル、ポリオ
キシエチレン、ネオペンチルポリオール脂肪酸エステル
、ポリフェニルエーテルなどがある。
ーテル、官能基を有するパーフロロアルキルポリエーテ
ル、パーフロロアルカン、ポリトリフロロクロルエチレ
ン、ポリテトラフロロエチレン、ポリテトラフロロエチ
レンテロマー、パーフロロカルボン酸、パーフロロアル
コール、パーフロロカルボン酸エステル、パーフロロア
ルコールノ脂肪酸エステル、パーフロロアルキルアルコ
キシシラン、７０口シリコーン、パーフロロアルキルス
ルホン酸、パーフロロアルキルスルホン酸アンモニウム
、脂肪族アルキルアルコキシシラン高級脂肪酸、高級脂
肪アルコール、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミド
脂肪アミン、不飽和高級脂肪酸、長鎖脂肪族炭化水素、
ポリアルキレングリコール、シリコーンオイル、ポリオ
キシエチレン、ネオペンチルポリオール脂肪酸エステル
、ポリフェニルエーテルなどがある。
前記クロム酸化物あるいはレニウム酸化物を含む酸化物
は、硬度が高く、耐摩耗性に優れているだけでなく、優
れた不働体として働き、１００Ａ以下の薄い膜厚におい
ても磁性媒体を腐食から防ぐことが出来る。
は、硬度が高く、耐摩耗性に優れているだけでなく、優
れた不働体として働き、１００Ａ以下の薄い膜厚におい
ても磁性媒体を腐食から防ぐことが出来る。
第２図は、本発明の別の磁気記憶体の部沙断面図である
。第２図において、下地体１．アよび磁性媒体２．およ
び醸化／ＩＩ３は第１図と同じであるが、第１図におけ
る潤滑層４が被覆されていない。
。第２図において、下地体１．アよび磁性媒体２．およ
び醸化／ＩＩ３は第１図と同じであるが、第１図におけ
る潤滑層４が被覆されていない。
実施例
次に実施例により本発明の詳細な説明する。
（実施例１）
ニッケルー燐めっき膜が被覆され表面祖さ０．０２μｍ
に鏡面仕上げされた下地体１の上に磁性媒体２としてＣ
ｒを１５重量％含むＣＯＣｒ合金をｒ、ｆ・スパッタリ
ング法により０．３μｍ被覆した。さらに咳磁性媒体を
被覆したディスク状円板を２９０℃で２時間空気中で焼
成することによりＣｒおよびＣＯの酸化物からなる酸化
層を２０λ厚に形成し、磁気ディスクを作った。
に鏡面仕上げされた下地体１の上に磁性媒体２としてＣ
ｒを１５重量％含むＣＯＣｒ合金をｒ、ｆ・スパッタリ
ング法により０．３μｍ被覆した。さらに咳磁性媒体を
被覆したディスク状円板を２９０℃で２時間空気中で焼
成することによりＣｒおよびＣＯの酸化物からなる酸化
層を２０λ厚に形成し、磁気ディスクを作った。
実施例２
実施例１と同様にして但し磁性媒体２としてＣ０Ｃｒ合
金を被覆した後、１０−”ｔｏｒｒのＮｏガスを含む高
周波プラズマ雰囲気に基板温度２００℃で１分間さらす
ことにより該媒体表面に５ＯＡのＣｒおよびＣＯの酸化
物からなる酸化層を形成させ磁気ディスクを作った。
金を被覆した後、１０−”ｔｏｒｒのＮｏガスを含む高
周波プラズマ雰囲気に基板温度２００℃で１分間さらす
ことにより該媒体表面に５ＯＡのＣｒおよびＣＯの酸化
物からなる酸化層を形成させ磁気ディスクを作った。
実施例３
実施例２と同様にして但し１０−” ｔｏｒｒの０！ガ
スを含む高周波プラズマ雰囲気を用いて磁気ディスクを
作った。
スを含む高周波プラズマ雰囲気を用いて磁気ディスクを
作った。
実施例４
実施例１と同様にして但し磁性媒体２としてＣｏＮｌＲ
ｅＰ合金を無電解めっき法により０．５μｍ被覆した。
ｅＰ合金を無電解めっき法により０．５μｍ被覆した。
さらに該磁性媒体を被覆したディスク状円板を２５０℃
で３時間空気中で焼成することによりＲｅおよびＣＯお
よびＮｉの酸化物からなる酸化層を３ＯＡに形成し、磁
気ディスクを作った。
で３時間空気中で焼成することによりＲｅおよびＣＯお
よびＮｉの酸化物からなる酸化層を３ＯＡに形成し、磁
気ディスクを作った。
実施例５
実施例４と同様にして但し磁性媒体２としてＣ０Ｎ１Ｒ
ｅＰ合金を被覆した後、１０−” ｔｏｒｒのＮｏガス
を含む高周波プラズマ雰囲気に基板温度２２０℃で５分
間さらすことにより該媒体表面に１０ＯＡのＲｅおよび
ＣＯおよびＮｉの酸化物からなる酸化層を形成させて磁
気ディスクを作った。
ｅＰ合金を被覆した後、１０−” ｔｏｒｒのＮｏガス
を含む高周波プラズマ雰囲気に基板温度２２０℃で５分
間さらすことにより該媒体表面に１０ＯＡのＲｅおよび
ＣＯおよびＮｉの酸化物からなる酸化層を形成させて磁
気ディスクを作った。
実施例６
実施例５と同様にして但し１０−ｔｏｒｒの０！ガスを
含む高周波プラズマ雰囲気を用いて磁気ディスクを作っ
た。
含む高周波プラズマ雰囲気を用いて磁気ディスクを作っ
た。
実施例７
実施例１と同様にして但しＣｒおよびＣｏの酸化物から
なる酸化層の上に次の構造のパーフロロアルキルポリエ
ーテルの０．１重量％トリクロルトリフロロエタン（以
下フレオンを称する）溶液を回転塗布法により５０λ厚
に塗布して潤滑層を形成し磁気ディスクを作った。
なる酸化層の上に次の構造のパーフロロアルキルポリエ
ーテルの０．１重量％トリクロルトリフロロエタン（以
下フレオンを称する）溶液を回転塗布法により５０λ厚
に塗布して潤滑層を形成し磁気ディスクを作った。
Ｈ，Ｃ００ＣＣＦ、−０÷Ｃ２Ｆ４吻千ＣＦ２Ｏ古ＣＦ
。
。
Ｃ００ＣＲ。
実施例８
実施例２と同様にして但しＣｒおよびＣＯの酸化物から
なる酸化層の上に次の構造のパーフロロアルキルポリエ
ーテルの０．５重量％フレオン溶液を回転塗布法により
Ｚｏｏ＾厚に塗布して潤滑層を形成し磁気ディスクを作
った。
なる酸化層の上に次の構造のパーフロロアルキルポリエ
ーテルの０．５重量％フレオン溶液を回転塗布法により
Ｚｏｏ＾厚に塗布して潤滑層を形成し磁気ディスクを作
った。
Ｆｓ ＣＯ＋Ｃｔ Ｆ４−０士世ＣＦ、Ｏ±。ＣＦ。
実施例９
実施例４と同様にして但しＲｅおよびＣＯ詔よびＮｉの
酸化物からなる酸化層の上に次の構造のパ−フロロアル
キルポリエーテルの０．３重量％フレオン溶液を回転塗
布法により３０＾厚に塗布して潤滑層を形成し磁気ディ
スクを作った。
酸化物からなる酸化層の上に次の構造のパ−フロロアル
キルポリエーテルの０．３重量％フレオン溶液を回転塗
布法により３０＾厚に塗布して潤滑層を形成し磁気ディ
スクを作った。
ＨＯＣＨｚ ＣＦｔ −Ｏ＋Ｃｚ Ｆ４−０ ＋＋ＣＦ
ｔ Ｏ÷７ＣＦ、ＣＨＩＯＨ 実施例１０ 実施例５と同様にして但しＲｅおよびＣＯｋよびＮｉの
酸化物からなる酸化層の上に次の構造のシリコーンオイ
ルの０．１重量％）ルエン溶液を回転塗布法によりＩＯ
Ａ厚に塗布して潤滑層を形成し磁気ディスクを作った。
ｔ Ｏ÷７ＣＦ、ＣＨＩＯＨ 実施例１０ 実施例５と同様にして但しＲｅおよびＣＯｋよびＮｉの
酸化物からなる酸化層の上に次の構造のシリコーンオイ
ルの０．１重量％）ルエン溶液を回転塗布法によりＩＯ
Ａ厚に塗布して潤滑層を形成し磁気ディスクを作った。
比較例１
実施例１と同様にして但し下地体の上に磁性媒体２とし
てｃｏ−ｐ合金を無電解めっき法により０．２μｍ厚に
被覆し、特公昭４９−２９４４５に開示されたものと同
様な方法で該磁性媒体表面にＣｏ酸化物からなる保護層
を形成させ、磁気ディスクを作った。
てｃｏ−ｐ合金を無電解めっき法により０．２μｍ厚に
被覆し、特公昭４９−２９４４５に開示されたものと同
様な方法で該磁性媒体表面にＣｏ酸化物からなる保護層
を形成させ、磁気ディスクを作った。
比較例２
比較例１と同様にして但しＣＯＰ合金による磁性媒体２
の上に特公昭４２−２００２５に開示されたものと同様
な方法で該磁性媒体表面にＣｏ酸化物からなる保護層を
形成させ、磁気ディスクを作った。
の上に特公昭４２−２００２５に開示されたものと同様
な方法で該磁性媒体表面にＣｏ酸化物からなる保護層を
形成させ、磁気ディスクを作った。
（発明の効果）
実施例１〜１０及び比較例１．２で示した磁気ディスク
を用いて荷重１５ｆのＡ４０．・ＴｉＣ製コアを有する
ヘッドスライダを用いて多数回のコンタクト・スタート
・ストップ（Ｃ８Ｓ）の繰り返し摩耗試験を行ない傷が
生じた回数を次表に示す。
を用いて荷重１５ｆのＡ４０．・ＴｉＣ製コアを有する
ヘッドスライダを用いて多数回のコンタクト・スタート
・ストップ（Ｃ８Ｓ）の繰り返し摩耗試験を行ない傷が
生じた回数を次表に示す。
また相対湿度９８ ％、温度９０℃において１０日間環
境試験を行ない、エラーの増加率を調べた上記の結果よ
り実施例１〜ｌＯのＣｒ又はＲｅを含む磁性媒体上にＣ
ｒ又は’Ｒｅの酸化物を含む酸化層が形成されたまたは
該酸化層の上に潤滑層が被覆された磁気ディスクは比較
例１または２のコバルト酸化物からなる保護膜を有する
磁気ディスクに比べ飛躍的に耐久性と耐食性が向上する
ことが分る。
境試験を行ない、エラーの増加率を調べた上記の結果よ
り実施例１〜ｌＯのＣｒ又はＲｅを含む磁性媒体上にＣ
ｒ又は’Ｒｅの酸化物を含む酸化層が形成されたまたは
該酸化層の上に潤滑層が被覆された磁気ディスクは比較
例１または２のコバルト酸化物からなる保護膜を有する
磁気ディスクに比べ飛躍的に耐久性と耐食性が向上する
ことが分る。
以上の様に実施例１〜１０で示した磁気ディスクは磁気
ディスク装置の信頼性を飛躍的に向上出来ることが分っ
た。
ディスク装置の信頼性を飛躍的に向上出来ることが分っ
た。
、なお本発明の実施例では磁気ディスクについて述べた
がフロッピーディスク、磁気テープ、磁気カードにも本
発明が有効であることは明らかである。
がフロッピーディスク、磁気テープ、磁気カードにも本
発明が有効であることは明らかである。
第１図及び第２図は本発明を示す部分断面図である。図
において １・・・下地体、２−ａ性媒体、３−・・酸化層、４・
・・潤滑層。 潤滑層 下地体 下地体
において １・・・下地体、２−ａ性媒体、３−・・酸化層、４・
・・潤滑層。 潤滑層 下地体 下地体
Claims (4)
- （１）下地体上にＣｒ又はＲｅを含む合金からなる磁性
媒体が被覆され、該媒体の表面に１００Å以下のクロム
酸化物又はレニウム酸化物を含む酸化層が形成された構
造を有することを特徴とする磁気記憶体。 - （２）下地体の上にＲｅ又はＣｒを含む合金からなる磁
性媒体が被覆され、該媒体の表面に１００Å以下のクロ
ム酸化物又はレニウム酸化物を含む酸化層が形成され、
該酸化層の上に潤滑剤が被覆されてなる構造を有するこ
とを特徴とする磁気記憶体。 - （３）下地体の上にＣｒ又はＲｅを含む磁性媒体を被覆
し、酸素イオンを含むプラズマ中でその表面を酸化する
ことを特徴とする磁気記憶体の製造方法。 - （４）下地体の上にＣｒ又はＲｅを含む磁性媒体を被覆
し、酸素を有する雰囲気中で焼成することによりその表
面を酸化することを特徴とする磁気記憶体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21987084A JPS6199925A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 磁気記憶体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21987084A JPS6199925A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 磁気記憶体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6199925A true JPS6199925A (ja) | 1986-05-19 |
Family
ID=16742345
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21987084A Pending JPS6199925A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 磁気記憶体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6199925A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1132499A2 (en) * | 2000-03-07 | 2001-09-12 | Ebara Corporation | Alloy coating, method for forming the same, and member for high temperature apparatuses |
| CN112226661A (zh) * | 2020-10-16 | 2021-01-15 | 内蒙金属材料研究所 | 一种耐烧蚀钼合金及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5633810A (en) * | 1979-08-29 | 1981-04-04 | Sony Corp | Preparation of magnetic recording medium |
| JPS57167133A (en) * | 1981-04-08 | 1982-10-14 | Hitachi Maxell Ltd | Production for magnetic recording medium |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP21987084A patent/JPS6199925A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5633810A (en) * | 1979-08-29 | 1981-04-04 | Sony Corp | Preparation of magnetic recording medium |
| JPS57167133A (en) * | 1981-04-08 | 1982-10-14 | Hitachi Maxell Ltd | Production for magnetic recording medium |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1132499A2 (en) * | 2000-03-07 | 2001-09-12 | Ebara Corporation | Alloy coating, method for forming the same, and member for high temperature apparatuses |
| EP1132499A3 (en) * | 2000-03-07 | 2004-02-25 | Ebara Corporation | Alloy coating, method for forming the same, and member for high temperature apparatuses |
| US6899926B2 (en) | 2000-03-07 | 2005-05-31 | Ebara Corporation | Alloy coating, method for forming the same, and member for high temperature apparatuses |
| CN112226661A (zh) * | 2020-10-16 | 2021-01-15 | 内蒙金属材料研究所 | 一种耐烧蚀钼合金及其制备方法 |
| CN112226661B (zh) * | 2020-10-16 | 2021-07-27 | 内蒙金属材料研究所 | 一种耐烧蚀钼合金及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4696845A (en) | Magnetic storage medium with lubricating coating | |
| JP2008257852A (ja) | ポリマー性ペルフルオロポリエーテルホスフォート潤滑剤トップコート | |
| JPH09282642A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US6572958B1 (en) | Magnetic recording media comprising a silicon carbide corrosion barrier layer and a c-overcoat | |
| JPS6199925A (ja) | 磁気記憶体およびその製造方法 | |
| US6468596B1 (en) | Laser-assisted in-situ fractionated lubricant and a new process for surface of magnetic recording media | |
| US7361380B1 (en) | Process for improving corrosion resistance of thin-film recording media & media obtained thereby | |
| JPH10251676A (ja) | 潤滑剤組成物およびこれを用いた磁気記録媒体 | |
| JPH0430084B2 (ja) | ||
| JP3888625B2 (ja) | 磁気ディスクおよびその製造方法 | |
| US6846542B1 (en) | UV treatment for improving performance of lubricated thin film recording media and media obtained thereby | |
| JPH10143836A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPS61208620A (ja) | 磁気デイスク | |
| JP2659016B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2616378B2 (ja) | 磁気記憶装置 | |
| JPS6113425A (ja) | 磁気記憶体およびその製造方法 | |
| JPS60209929A (ja) | 磁気記憶体およびその製造方法 | |
| Wah et al. | Ultraviolet irradiation of lubricant and additives thin films to reduce wear to the magnetic head | |
| JPS63117311A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH01269222A (ja) | 磁気ディスク及びその製造方法 | |
| JPH0612567B2 (ja) | ハード磁気ディスク及びその製造方法 | |
| JPH0610869B2 (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH02198001A (ja) | 磁気記録再生方法、磁気記録媒体および浮上型磁気ヘッド | |
| JPH10149527A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH08124148A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 |