JPS5850628A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5850628A JPS5850628A JP14865781A JP14865781A JPS5850628A JP S5850628 A JPS5850628 A JP S5850628A JP 14865781 A JP14865781 A JP 14865781A JP 14865781 A JP14865781 A JP 14865781A JP S5850628 A JPS5850628 A JP S5850628A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic
- vapor
- shaft
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸着による磁気記録媒体の製造方法に関し、特
に磁気特性が良好でかつ均一性の高い多層の磁性層から
なる磁気記録媒体を量産可能にすることを目的とするも
のである。
に磁気特性が良好でかつ均一性の高い多層の磁性層から
なる磁気記録媒体を量産可能にすることを目的とするも
のである。
産業の発達により磁気記録媒体は磁気カードや磁気ディ
スク、磁気テープ等により産業用、一般用を始めとして
各分野で種々の使用がなされている。一方磁気記録媒体
の磁性層の形成方法としては、主に磁性粉を適当なバイ
ンダーと混合して基板に塗布する方法や、磁性材料を直
接基板表面に形成する方法として例えば、ノノキ、スパ
ッタリンク、蒸着等による磁性薄膜形成方法が知られて
いる。
スク、磁気テープ等により産業用、一般用を始めとして
各分野で種々の使用がなされている。一方磁気記録媒体
の磁性層の形成方法としては、主に磁性粉を適当なバイ
ンダーと混合して基板に塗布する方法や、磁性材料を直
接基板表面に形成する方法として例えば、ノノキ、スパ
ッタリンク、蒸着等による磁性薄膜形成方法が知られて
いる。
上記のうち蒸着による磁性薄膜は極めて薄い均質な膜で
あることからその形成方法については過去多くの方法が
提案されて来ている。しかしこれらの磁性薄膜形成方法
の多く１は、小規模なバッチ方式によるものが主であり
、工業的量産性に欠けるという問題点があった。
あることからその形成方法については過去多くの方法が
提案されて来ている。しかしこれらの磁性薄膜形成方法
の多く１は、小規模なバッチ方式によるものが主であり
、工業的量産性に欠けるという問題点があった。
本発明・ハ、多層構造の磁性薄膜を蒸着により形成する
にあたり、基板を往復走行させることを特徴とするもの
である。以下本発明の一実施例を図面にもとづいて説明
する。
にあたり、基板を往復走行させることを特徴とするもの
である。以下本発明の一実施例を図面にもとづいて説明
する。
第１菌は本実施列を実現する際の製造装置の−例を示す
正面図である。本装置は、テープ状の基板を往復に移動
させ２つの蒸着源からの金嘱原子により多層の蒸着嘆を
形成するものである。
正面図である。本装置は、テープ状の基板を往復に移動
させ２つの蒸着源からの金嘱原子により多層の蒸着嘆を
形成するものである。
１は真空度を１０ ’Ｔｏｒｒ以下とした真空槽であり
、この真空槽１の内部に、呼さ１ｏμのテープ状の高分
子成形基板の巻出軸２、巻取軸３及びフリーローラ４，
６、蒸着円筒６の走行系がある。
、この真空槽１の内部に、呼さ１ｏμのテープ状の高分
子成形基板の巻出軸２、巻取軸３及びフリーローラ４，
６、蒸着円筒６の走行系がある。
７は上述のようにテープ状の基板であり、この走行系は
基板７を、蒸着円筒６を回転方向ＡもしくはＢとするこ
とにより正方向、逆方向走行させることが可能である。
基板７を、蒸着円筒６を回転方向ＡもしくはＢとするこ
とにより正方向、逆方向走行させることが可能である。
蒸着円筒６の中心下部には金属蒸気８．９の入射角αを
制限するだめの固定マスク１０があり、固定マスク１０
と蒸着円筒６との間にはガヌ雰面気を得るためのガスノ
ズル１１を設ける。このガスノズル１１によって矢印１
２゜１３に示す方向から蒸気８，９に向ってガスを供給
している。蒸気８，９を発生させるだめに、コモンベー
ス１４上にルツボ１５，１６を左右対称に置いてその中
の蒸発源１７．１８を電子銃１９゜２０からの電子ビー
ムを照射し加熱溶融を行なわ−（ｌｉｏ を使用した
。また真空槽１は基板７の巻取。
制限するだめの固定マスク１０があり、固定マスク１０
と蒸着円筒６との間にはガヌ雰面気を得るためのガスノ
ズル１１を設ける。このガスノズル１１によって矢印１
２゜１３に示す方向から蒸気８，９に向ってガスを供給
している。蒸気８，９を発生させるだめに、コモンベー
ス１４上にルツボ１５，１６を左右対称に置いてその中
の蒸発源１７．１８を電子銃１９゜２０からの電子ビー
ムを照射し加熱溶融を行なわ−（ｌｉｏ を使用した
。また真空槽１は基板７の巻取。
巻出系と蒸着系を防着板２１によって仕切り、排気管２
２を経て排気装置２３により真空槽内を１０Ｔｏｒｒ以
下の真空状態を得ている。
２を経て排気装置２３により真空槽内を１０Ｔｏｒｒ以
下の真空状態を得ている。
上記の製造装置で、前述した如く厚さ１０μ、長さ５ｏ
ｏｏ、１１の高分子成形基板７を巻出軸２がら巻取軸３
にセットして蒸着円筒６を回転方向人で回転した。この
時蒸発源は１７のみ蒸発状態にして蒸発させた。蒸気８
は蒸着円筒６外周に密着した基板７に対し初期入射角（
最大入射角）α１−９０の位置から蒸着され入射角が連
続に変化しながら最少入射角α２の位置までの間で蒸着
される。すなわち薄膜層の成長は基板７の而に対してほ
ぼ水平な角度からに１ぼ垂直な角度までの範囲で構成さ
れる。次に回転方向Ａで巻取軸３に巻取られた基板７を
回転方向Ｂで最初の巻出軸２に巻取る方向に走行させな
がら蒸発源１８からの蒸気９を最大入射角α４＝９０’
（回転入方向がらずれば一９０’ ）の位置から最小
入射角α３の位置までの間で連続蒸着を行なう。なおこ
の時蒸着源１７は停止しておく。
ｏｏ、１１の高分子成形基板７を巻出軸２がら巻取軸３
にセットして蒸着円筒６を回転方向人で回転した。この
時蒸発源は１７のみ蒸発状態にして蒸発させた。蒸気８
は蒸着円筒６外周に密着した基板７に対し初期入射角（
最大入射角）α１−９０の位置から蒸着され入射角が連
続に変化しながら最少入射角α２の位置までの間で蒸着
される。すなわち薄膜層の成長は基板７の而に対してほ
ぼ水平な角度からに１ぼ垂直な角度までの範囲で構成さ
れる。次に回転方向Ａで巻取軸３に巻取られた基板７を
回転方向Ｂで最初の巻出軸２に巻取る方向に走行させな
がら蒸発源１８からの蒸気９を最大入射角α４＝９０’
（回転入方向がらずれば一９０’ ）の位置から最小
入射角α３の位置までの間で連続蒸着を行なう。なおこ
の時蒸着源１７は停止しておく。
上記の実施例では、基板上に形成された蒸着による磁性
層を模式的に示すと第２図のような多層構造を有する断
面となる。７は基板、２４は回転方向ムでの蒸着による
磁性層、２５は回転方向Ｂでの蒸着による磁性層である
。
層を模式的に示すと第２図のような多層構造を有する断
面となる。７は基板、２４は回転方向ムでの蒸着による
磁性層、２５は回転方向Ｂでの蒸着による磁性層である
。
一般的に蒸着では蒸着レートとの関葆、また磁気記録媒
体としての必要飽和磁束密度等の関係から一度の蒸着で
は条件を満せない場合が多く数１に分けて蒸着する多層
構造が用いられる。本発明は上述した如く多層構造とす
る上で基板７を正逆方向に走行させそれぞれ走行時に蒸
着を行なうため製造時間を大幅に短縮でき、捷だ必要最
大磁束密度の確保等が容易に得られる。
体としての必要飽和磁束密度等の関係から一度の蒸着で
は条件を満せない場合が多く数１に分けて蒸着する多層
構造が用いられる。本発明は上述した如く多層構造とす
る上で基板７を正逆方向に走行させそれぞれ走行時に蒸
着を行なうため製造時間を大幅に短縮でき、捷だ必要最
大磁束密度の確保等が容易に得られる。
第３図に斜め蒸着によるコバルトの酸素ガス中蒸着によ
る蒸気入射角と抗磁力の関係を示す。一般的には最小入
射角の大きい方が大きい抗磁力を示す。上記実施列の場
合にも磁性層２４．２５がそれぞれ単独であれば第３図
の特性を有する。一方多層構造では上記の特性は多少歪
みを有することになるが磁気記録媒体としては全く問題
はない。
る蒸気入射角と抗磁力の関係を示す。一般的には最小入
射角の大きい方が大きい抗磁力を示す。上記実施列の場
合にも磁性層２４．２５がそれぞれ単独であれば第３図
の特性を有する。一方多層構造では上記の特性は多少歪
みを有することになるが磁気記録媒体としては全く問題
はない。
なお上記の実施例では２層構造の磁性層を形成しだが、
同一の装置を用いてさらに多層に形成してもよい。まだ
本発明１４基板の形状や蒸澹源の材料なども上記に限定
されないものであることは言うまでもない。
同一の装置を用いてさらに多層に形成してもよい。まだ
本発明１４基板の形状や蒸澹源の材料なども上記に限定
されないものであることは言うまでもない。
上記の実施例からも明らかなように本発明は、テープ状
の基板を真空槽中で往復走行させ、往路。
の基板を真空槽中で往復走行させ、往路。
復路で異なる蒸発源により蒸着を行なう製造方法である
から、多層構造の磁性層を非常に能率よく、かつ均一な
状態で形成でき、１産に適し、蒸着による物理特性に潰
れた磁気記録媒体を安価に製造することが可能となるも
のである。
から、多層構造の磁性層を非常に能率よく、かつ均一な
状態で形成でき、１産に適し、蒸着による物理特性に潰
れた磁気記録媒体を安価に製造することが可能となるも
のである。
第１図は本発明の一実施例に適する製造装置の列を示す
正面図、第２図は磁気記録媒体の構成を示す断面図、第
３図は酸素雰囲気中におけるコバｌシト蒸着時の最小入
射角に対する抗磁力の特性的、線図である。 １・・・・・・真空槽、２・・・・・・巻出軸、３・・
・・・・巻取軸、６・・・・・・蒸着円筒、７・・・・
・・基板、１７．１８・・・・・・蒸発源、１９．２０
・・・・・・電子ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
正面図、第２図は磁気記録媒体の構成を示す断面図、第
３図は酸素雰囲気中におけるコバｌシト蒸着時の最小入
射角に対する抗磁力の特性的、線図である。 １・・・・・・真空槽、２・・・・・・巻出軸、３・・
・・・・巻取軸、６・・・・・・蒸着円筒、７・・・・
・・基板、１７．１８・・・・・・蒸発源、１９．２０
・・・・・・電子ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図
Claims (1)
- テープ状の基板を正方向または逆方向に走行可能となし
、この基板を真空槽中に導入して、蒸着円筒上に当接し
て走行させ、この蒸着円筒に対向して設けた第１．第２
の２つの蒸着源およびその熱源を備えて、前記基板が正
方向に走行する時にはこの時の走行基板に対して初期入
射角が９０゜である前記第１の蒸着源により蒸着を行な
い、Ａｉ前記基板が逆方向に走行する時にはこの時の走
行基板に対して初期入射角が９０°である第２の蒸着源
により蒸着を行なうことを特徴とする磁シ（記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14865781A JPS5850628A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14865781A JPS5850628A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5850628A true JPS5850628A (ja) | 1983-03-25 |
Family
ID=15457702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14865781A Pending JPS5850628A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5850628A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5525398A (en) * | 1991-03-22 | 1996-06-11 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic recording medium and method for making |
| WO2003038141A3 (de) * | 2001-10-31 | 2003-10-23 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur herstellung einer uv-absorbierenden transparenten abriebschutzschicht |
| US20230111296A1 (en) * | 2021-10-07 | 2023-04-13 | Western Digital Technologies, Inc. | Longitudinal Sensor Bias Structures and Method of Formation Thereof |
-
1981
- 1981-09-18 JP JP14865781A patent/JPS5850628A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5525398A (en) * | 1991-03-22 | 1996-06-11 | Tdk Corporation | Perpendicular magnetic recording medium and method for making |
| WO2003038141A3 (de) * | 2001-10-31 | 2003-10-23 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur herstellung einer uv-absorbierenden transparenten abriebschutzschicht |
| US20230111296A1 (en) * | 2021-10-07 | 2023-04-13 | Western Digital Technologies, Inc. | Longitudinal Sensor Bias Structures and Method of Formation Thereof |
| US11631535B1 (en) * | 2021-10-07 | 2023-04-18 | Western Digital Technologies, Inc. | Longitudinal sensor bias structures and method of formation thereof |
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