JPH0559549A - 薄膜の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 - Google Patents
薄膜の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH0559549A JPH0559549A JP21954291A JP21954291A JPH0559549A JP H0559549 A JPH0559549 A JP H0559549A JP 21954291 A JP21954291 A JP 21954291A JP 21954291 A JP21954291 A JP 21954291A JP H0559549 A JPH0559549 A JP H0559549A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- film
- vapor deposition
- substrate
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 長尺基板に、種々の構成の多層薄膜を、基板
の１回の走行で形成し、設備を大型化する事なく、高い
量産性を実現できる薄膜の製造方法及び装置及び磁気記
録媒体を提供する。 【構成】 円筒状キャン３の周面に沿って走行する長尺
基板１に、複数の厚みの異なる薄膜を積層し、多層膜を
形成する際に、前記層の内で最も厚みの厚いａ層を室Ｂ
の蒸着源により蒸着法で形成し、前記層の内、前記ａ層
を除く少なくとも一層を、室Ｃのスパッタ源１８により
スパッター法で形成するものである。
の１回の走行で形成し、設備を大型化する事なく、高い
量産性を実現できる薄膜の製造方法及び装置及び磁気記
録媒体を提供する。 【構成】 円筒状キャン３の周面に沿って走行する長尺
基板１に、複数の厚みの異なる薄膜を積層し、多層膜を
形成する際に、前記層の内で最も厚みの厚いａ層を室Ｂ
の蒸着源により蒸着法で形成し、前記層の内、前記ａ層
を除く少なくとも一層を、室Ｃのスパッタ源１８により
スパッター法で形成するものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、長尺基板に多層の薄膜
を形成する方法および装置及び磁気記録媒体に関するも
のである。
を形成する方法および装置及び磁気記録媒体に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、長尺の高分子フィルムに薄膜
を形成して、コンデンサや磁気記録テープ、透明導電性
シート等の素材となる機能性フィルムや、または装飾用
フィルムを作成するには、例えば、薄膜ハンドブック
（日本学術振興会、薄膜第１３１委員会編、３編、４
２、オーム社刊）に示されているような巻き取り式蒸着
装置が用いられる。
を形成して、コンデンサや磁気記録テープ、透明導電性
シート等の素材となる機能性フィルムや、または装飾用
フィルムを作成するには、例えば、薄膜ハンドブック
（日本学術振興会、薄膜第１３１委員会編、３編、４
２、オーム社刊）に示されているような巻き取り式蒸着
装置が用いられる。
【０００３】その概要を、磁気記録媒体の場合を例にあ
げて、図５において説明する。この図５は主要部のみを
示し、構造物を収納する真空チャンバ、中間ローラ等
は、省略してある。
げて、図５において説明する。この図５は主要部のみを
示し、構造物を収納する真空チャンバ、中間ローラ等
は、省略してある。
【０００４】長尺の高分子フィルム１は、供給ロール２
ａから巻き出されて、矢印１６の方向に回転する円筒状
キャン３に、中間ローラ４、５によって所要巻付け角度
θ巻き付けられ、キャン３の回転にともなって駆動され
て走行し、巻取りロール２ｂに巻き取られる。
ａから巻き出されて、矢印１６の方向に回転する円筒状
キャン３に、中間ローラ４、５によって所要巻付け角度
θ巻き付けられ、キャン３の回転にともなって駆動され
て走行し、巻取りロール２ｂに巻き取られる。
【０００５】蒸発源６は、坩堝８と蒸着材料７及び例え
ば電子ビーム９を発生させる公知の電子ビーム発生装置
１１から構成され、坩堝８に収容された蒸着材料７は、
電子ビーム９により加熱され蒸発し、その蒸気１３の一
部はマスク１０の開口部１２を通ってキャン３に巻き付
けられたフィルム１に、マスク１０により設定された入
射角で入射して付着し、薄膜を形成する。ここで、入射
角を設けた斜方蒸着を用いるのは、磁気記録媒体の特性
を確保するためである。
ば電子ビーム９を発生させる公知の電子ビーム発生装置
１１から構成され、坩堝８に収容された蒸着材料７は、
電子ビーム９により加熱され蒸発し、その蒸気１３の一
部はマスク１０の開口部１２を通ってキャン３に巻き付
けられたフィルム１に、マスク１０により設定された入
射角で入射して付着し、薄膜を形成する。ここで、入射
角を設けた斜方蒸着を用いるのは、磁気記録媒体の特性
を確保するためである。
【０００６】また、キャン３は、熱媒体の循環による公
知の温度制御により所要の温度に制御されている。例え
ば、この構成で、Ｃｏ−Ｃｒから成る磁気記録媒体をポ
リイミドフィルム上に形成する場合には、媒体を垂直配
向させるために、フィルム１を約２５０℃に加熱してい
る。
知の温度制御により所要の温度に制御されている。例え
ば、この構成で、Ｃｏ−Ｃｒから成る磁気記録媒体をポ
リイミドフィルム上に形成する場合には、媒体を垂直配
向させるために、フィルム１を約２５０℃に加熱してい
る。
【０００７】また、磁気記録媒体の場合、多層膜の構成
とすることで、その磁気特性、即ち記録再生特性をさら
に向上させることができる。
とすることで、その磁気特性、即ち記録再生特性をさら
に向上させることができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の構成で、例
えば、図２（ａ）のように２つの磁性層を持つ磁気記録
媒体を製造する場合を説明する。各層２１、２２は、各
々所定の入射角で製膜され、またその傾斜方向は同方向
で、膜厚は、第１層２１より第２層２２の方が薄く設定
されている。
えば、図２（ａ）のように２つの磁性層を持つ磁気記録
媒体を製造する場合を説明する。各層２１、２２は、各
々所定の入射角で製膜され、またその傾斜方向は同方向
で、膜厚は、第１層２１より第２層２２の方が薄く設定
されている。
【０００９】まず、第１層２１のＣｏ−Ｃｒ膜を製膜す
る。そして、第１層と同方向に傾斜する第２層２２の酸
化Ｃｏ膜を形成するため、第１層２１を製膜終了後一度
巻戻した後、第１層同様に第２層を酸素を導入しながら
製膜する。
る。そして、第１層と同方向に傾斜する第２層２２の酸
化Ｃｏ膜を形成するため、第１層２１を製膜終了後一度
巻戻した後、第１層同様に第２層を酸素を導入しながら
製膜する。
【００１０】即ち、図５のような構成では、このような
多層媒体を形成するには、先の巻戻し工程をいれ最低３
回、フィルム１を走行させることになる。
多層媒体を形成するには、先の巻戻し工程をいれ最低３
回、フィルム１を走行させることになる。
【００１１】また、第１層２１、第２層２２を蒸着する
ためには、各々の蒸着材料を初めから溶解する必要があ
るため、実際に膜を基板上に形成するまでに、多くの時
間を要するものであった。
ためには、各々の蒸着材料を初めから溶解する必要があ
るため、実際に膜を基板上に形成するまでに、多くの時
間を要するものであった。
【００１２】この例の蒸着法に代え、スパッター法を用
いることもできるが、その製膜速度が蒸着法に比べ遅い
ため、大面積のフィルムへの製膜には、高い量産性が期
待できる蒸着法が、用いられていた。
いることもできるが、その製膜速度が蒸着法に比べ遅い
ため、大面積のフィルムへの製膜には、高い量産性が期
待できる蒸着法が、用いられていた。
【００１３】さらに、フィルム１は、複数回の往復走行
を経るにしたがい、ごみが付着したりローラ４、５等で
傷つけられたりして、表面欠陥が生じやすい。この表面
欠陥は、磁気記録媒体においては、記録再生時の信号欠
陥を生じるため、重要な問題となるものである。
を経るにしたがい、ごみが付着したりローラ４、５等で
傷つけられたりして、表面欠陥が生じやすい。この表面
欠陥は、磁気記録媒体においては、記録再生時の信号欠
陥を生じるため、重要な問題となるものである。
【００１４】また、上記工程を簡略化するため、キャン
３及び蒸着源６を同一真空チャンバー内に複数持つ装置
を用い、１回の走行で複数層を形成することが試みられ
ているが、このような装置は、設備として複雑でかなり
大型となるという問題があった。
３及び蒸着源６を同一真空チャンバー内に複数持つ装置
を用い、１回の走行で複数層を形成することが試みられ
ているが、このような装置は、設備として複雑でかなり
大型となるという問題があった。
【００１５】本発明は、かかる点に鑑み、設備の大型化
をほとんど行うことなく、簡単な構成で、欠陥の少ない
優れた特性の種々の構成の多層膜を、長尺に亘ってフィ
ルム上に形成できる、汎用性の高い、また著しく生産性
を向上できる、薄膜の製造方法及び製造装置を提供する
とともに、優れた記録再生特性を有する磁気記録媒体を
提供することを目的とするものである。
をほとんど行うことなく、簡単な構成で、欠陥の少ない
優れた特性の種々の構成の多層膜を、長尺に亘ってフィ
ルム上に形成できる、汎用性の高い、また著しく生産性
を向上できる、薄膜の製造方法及び製造装置を提供する
とともに、優れた記録再生特性を有する磁気記録媒体を
提供することを目的とするものである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】そして上記課題を解決す
るため、本発明は、円筒状キャンの周面に沿って走行す
る長尺基板に、複数の厚みの異なる薄膜を積層し、多層
膜を形成する際に、前記層の内で最も厚みの厚いａ層を
蒸着法により形成し、前記層の内、前記ａ層を除く少な
くとも一層をスパッター法により形成し、多層膜を形成
するものある。
るため、本発明は、円筒状キャンの周面に沿って走行す
る長尺基板に、複数の厚みの異なる薄膜を積層し、多層
膜を形成する際に、前記層の内で最も厚みの厚いａ層を
蒸着法により形成し、前記層の内、前記ａ層を除く少な
くとも一層をスパッター法により形成し、多層膜を形成
するものある。
【００１７】また、基板上に、蒸着法により形成され
た、ＣｏとＣｒを主成分とする第１磁性層と、前記第１
磁性層上にスパッター法により形成された、Ｃｏと酸素
を主成分とする第２磁性層を有することを特徴とする磁
気記録媒体である。
た、ＣｏとＣｒを主成分とする第１磁性層と、前記第１
磁性層上にスパッター法により形成された、Ｃｏと酸素
を主成分とする第２磁性層を有することを特徴とする磁
気記録媒体である。
【００１８】
【作用】本発明は上記手段により、設備の大型化をほと
んど行うことなく、蒸着法の高い製膜速度とスパッター
法の自由度の大きい設置姿勢活かした簡単な構成で、欠
陥の少ない優れた特性の種々の構成の多層膜を、長尺に
亘ってフィルム上に形成でき、著しく生産性を向上でき
るまた、多層の磁気記録媒体の製造に用いた場合は、欠
陥少ない特性の優れた均一な媒体を安定に形成できるた
め、媒体の記録再生特性の向上および信頼性を著しく向
上できる。
んど行うことなく、蒸着法の高い製膜速度とスパッター
法の自由度の大きい設置姿勢活かした簡単な構成で、欠
陥の少ない優れた特性の種々の構成の多層膜を、長尺に
亘ってフィルム上に形成でき、著しく生産性を向上でき
るまた、多層の磁気記録媒体の製造に用いた場合は、欠
陥少ない特性の優れた均一な媒体を安定に形成できるた
め、媒体の記録再生特性の向上および信頼性を著しく向
上できる。
【００１９】特に、蒸着法により形成されたＣｏとＣｒ
を主成分とする第１磁性層上に、スパッター法により形
成されたＣｏと酸素を主成分とする第２磁性層を設けた
構成の磁気記録媒体は、記録周波数に対し低域から高域
までの広い周波数範囲にわたって、優れた記録再生特性
を有するものである。
を主成分とする第１磁性層上に、スパッター法により形
成されたＣｏと酸素を主成分とする第２磁性層を設けた
構成の磁気記録媒体は、記録周波数に対し低域から高域
までの広い周波数範囲にわたって、優れた記録再生特性
を有するものである。
【００２０】
【実施例】以下、本発明を、多層の磁気記録媒体を製造
する場合に適用した実施例を、添付図面に基づいて説明
する。
する場合に適用した実施例を、添付図面に基づいて説明
する。
【００２１】図１は、本発明の一実施例における装置の
主要部の概略構成図である。構造物を収納する真空チャ
ンバ等は、省略してある。また、従来例と同一または同
等の機能を有する構成要素には同一番号を付け、詳細な
説明を省略する。
主要部の概略構成図である。構造物を収納する真空チャ
ンバ等は、省略してある。また、従来例と同一または同
等の機能を有する構成要素には同一番号を付け、詳細な
説明を省略する。
【００２２】実施例としてまず、図２（ａ）の構成、即
ち２層の同方向に傾斜した磁性層をもち、第１層２１を
Ｃｏ−Ｃｒを主成分とし膜厚約２００ｎｍ、第２層２２
が酸化Ｃｏを主成分とする膜厚６０ｎｍの媒体を形成す
る場合について説明する。
ち２層の同方向に傾斜した磁性層をもち、第１層２１を
Ｃｏ−Ｃｒを主成分とし膜厚約２００ｎｍ、第２層２２
が酸化Ｃｏを主成分とする膜厚６０ｎｍの媒体を形成す
る場合について説明する。
【００２３】尚、図２中の各層形成時の、フィルム１に
入射し膜を形成する粒子のフィルム１に対する概略の入
射角を、各層断面の斜線の傾きで示してある。
入射し膜を形成する粒子のフィルム１に対する概略の入
射角を、各層断面の斜線の傾きで示してある。
【００２４】図１中で、７は、Ｃｏ−Ｃｒを主成分とす
る蒸着材料で、８の坩堝に収容され、９の電子ビームに
より溶解蒸発させられる。この時、蒸気１３のフィルム
１に対する入射角はマスク開口部１２により規定され
る。また１８は、公知の例えばマグネトロン型スパッタ
ー源であり、スパッターガスにはＡｒと酸素との混合ガ
スを用い、ターゲット近傍に、図には示さないが、導入
管により導入し、酸素の存在する雰囲気中で、Ｃｏター
ゲットをスパッターし、走行中のフィルム１に向かっ
て、飛散させるものである。
る蒸着材料で、８の坩堝に収容され、９の電子ビームに
より溶解蒸発させられる。この時、蒸気１３のフィルム
１に対する入射角はマスク開口部１２により規定され
る。また１８は、公知の例えばマグネトロン型スパッタ
ー源であり、スパッターガスにはＡｒと酸素との混合ガ
スを用い、ターゲット近傍に、図には示さないが、導入
管により導入し、酸素の存在する雰囲気中で、Ｃｏター
ゲットをスパッターし、走行中のフィルム１に向かっ
て、飛散させるものである。
【００２５】この場合、図３に示すように、スパッター
源１８は、ターゲット１９の法線とフィルム１法線との
角度β（＞０）を設け設置されており、斜方スパッター
法によりフィルム１上に薄膜を形成できるようになって
いる。
源１８は、ターゲット１９の法線とフィルム１法線との
角度β（＞０）を設け設置されており、斜方スパッター
法によりフィルム１上に薄膜を形成できるようになって
いる。
【００２６】また、図１中の各処理を行うＡ，Ｂ，Ｃ室
は、１４ａ，１４ｂ，１４ｃの差圧板により仕切られて
おり、図には示さないが、各真空ポンプや真空バルブを
制御することで、各々独立に所定の真空度に保たれてい
る。
は、１４ａ，１４ｂ，１４ｃの差圧板により仕切られて
おり、図には示さないが、各真空ポンプや真空バルブを
制御することで、各々独立に所定の真空度に保たれてい
る。
【００２７】供給ロール２ａより巻出され走行するフィ
ルム１は、まずＡ室において、図示しないが、加熱によ
りフィルムに含まれた水分や溶剤等をガスとして放出さ
せるガス出し処理工程や、グロー放電等による基板表面
処理工程を経た後、キャン３に沿いながらＢ室にはい
る。
ルム１は、まずＡ室において、図示しないが、加熱によ
りフィルムに含まれた水分や溶剤等をガスとして放出さ
せるガス出し処理工程や、グロー放電等による基板表面
処理工程を経た後、キャン３に沿いながらＢ室にはい
る。
【００２８】Ｂ室において、フィルム１には、斜方蒸着
により、第１層２１であるＣｏ−Ｃｒ膜を形成される。
そして、さらに連続してＣ室において、先に形成された
フィルム１の第１層２１上に、酸素を雰囲気中での斜方
スパッター法で、第２層２２を形成される。
により、第１層２１であるＣｏ−Ｃｒ膜を形成される。
そして、さらに連続してＣ室において、先に形成された
フィルム１の第１層２１上に、酸素を雰囲気中での斜方
スパッター法で、第２層２２を形成される。
【００２９】フィルム１は、第２層を形成された後、図
には示さないが、フィルム１と薄膜２１、２２との熱収
縮差により生じるカールの除去や、フィルム１の帯電を
除去する工程を経た後、巻とり軸２ｂに巻取られる。
には示さないが、フィルム１と薄膜２１、２２との熱収
縮差により生じるカールの除去や、フィルム１の帯電を
除去する工程を経た後、巻とり軸２ｂに巻取られる。
【００３０】一般に、蒸着法はスパッター法より製膜速
度が速いことが知られているが、蒸着法では、蒸着材料
が溶融し液体であるため、斜めや逆さにできず、その設
置姿勢に制約がある。しかし、スパッター法では、原理
的にスパッター源１８の設置姿勢には制約がなく、蒸着
膜より緻密で記録再生特性ばかりでなく耐久性にも優れ
た膜が得られ易いことも知られている。
度が速いことが知られているが、蒸着法では、蒸着材料
が溶融し液体であるため、斜めや逆さにできず、その設
置姿勢に制約がある。しかし、スパッター法では、原理
的にスパッター源１８の設置姿勢には制約がなく、蒸着
膜より緻密で記録再生特性ばかりでなく耐久性にも優れ
た膜が得られ易いことも知られている。
【００３１】従って、蒸着法、スパッター法のこのよう
な特徴をそれぞれ生かし適用した図１の構成によれば、
即ち、膜厚のもっとも厚い層２１の形成に製膜速度の速
い蒸着法を、薄い層２２の形成に設置姿勢に自由度のあ
るスパッター法を用いた構成にすることで、走行速度を
従来の蒸着時に比べ落とすことなく、また複数のキャン
を用いることなく、図２（ａ）にしめす構成の磁気記録
媒体を、１回の巻取り走行で行うことができる。
な特徴をそれぞれ生かし適用した図１の構成によれば、
即ち、膜厚のもっとも厚い層２１の形成に製膜速度の速
い蒸着法を、薄い層２２の形成に設置姿勢に自由度のあ
るスパッター法を用いた構成にすることで、走行速度を
従来の蒸着時に比べ落とすことなく、また複数のキャン
を用いることなく、図２（ａ）にしめす構成の磁気記録
媒体を、１回の巻取り走行で行うことができる。
【００３２】このように、上層である膜２２をスパッタ
ー法で形成することで、蒸着法による膜よりも緻密な膜
が形成され、広い帯域の記録周波数に対し優れた電磁変
換特性を有する、即ち磁気記録再生特性の優れた媒体が
得られる。特に、上記例の、下層２１Ｃｏ−Ｃｒ＋上層
２２Ｃｏ＋酸素，あるいは、下層２１Ｃｏ−Ｃｒ＋上層
２２ＣｏーＣｒとしたものが優れた電磁変換特性を有す
る。
ー法で形成することで、蒸着法による膜よりも緻密な膜
が形成され、広い帯域の記録周波数に対し優れた電磁変
換特性を有する、即ち磁気記録再生特性の優れた媒体が
得られる。特に、上記例の、下層２１Ｃｏ−Ｃｒ＋上層
２２Ｃｏ＋酸素，あるいは、下層２１Ｃｏ−Ｃｒ＋上層
２２ＣｏーＣｒとしたものが優れた電磁変換特性を有す
る。
【００３３】さらに上記方法によれば、フィルム１上に
所定の構成の媒体が形成されるまでに走行する回数が、
大幅に低減できるため、付着するごみや、ローラ４、５
等で傷つけられることによる媒体の表面欠陥を大幅に低
減することができ、特性の安定した信頼性の高い磁気記
録媒体を製造することができる。
所定の構成の媒体が形成されるまでに走行する回数が、
大幅に低減できるため、付着するごみや、ローラ４、５
等で傷つけられることによる媒体の表面欠陥を大幅に低
減することができ、特性の安定した信頼性の高い磁気記
録媒体を製造することができる。
【００３４】また、別の例えば、図２（ａ）の２層の下
に、その結晶配向性を向上させるための２２層より薄い
下地層として、例えばＴｉを第０層２０として設けた、
図２（ｂ）の３層構成の媒体を形成する場合を説明す
る。この場合は、図４に示すようにＢ領域の前、即ち上
方に、Ｔｉのスパッター源をＣ室と同様に設置したＫ室
を設けた構成とすることで、先の３層構成の媒体を１回
の走行で形成することができる。
に、その結晶配向性を向上させるための２２層より薄い
下地層として、例えばＴｉを第０層２０として設けた、
図２（ｂ）の３層構成の媒体を形成する場合を説明す
る。この場合は、図４に示すようにＢ領域の前、即ち上
方に、Ｔｉのスパッター源をＣ室と同様に設置したＫ室
を設けた構成とすることで、先の３層構成の媒体を１回
の走行で形成することができる。
【００３５】さらに、図２（ａ）の２層の上に、２２層
とほぼ同じ厚さの酸化Ｃｏの磁性層を第４層として設け
た、図２（ｃ）の３層構成の媒体を形成する場合を説明
する。この場合、図では示さないが、図１のＣ室の後方
に、Ｃｏのスパッター源をＣ室と同様に設置したＤ室を
設けた構成とすることで、先の３層構成の媒体を１回の
走行で形成することができる。
とほぼ同じ厚さの酸化Ｃｏの磁性層を第４層として設け
た、図２（ｃ）の３層構成の媒体を形成する場合を説明
する。この場合、図では示さないが、図１のＣ室の後方
に、Ｃｏのスパッター源をＣ室と同様に設置したＤ室を
設けた構成とすることで、先の３層構成の媒体を１回の
走行で形成することができる。
【００３６】ここで、図２（ｃ）のように、２２層と２
３層では、フィルム１に入射する粒子の角度を異ならせ
る場合には、各々の製膜室Ｃ，Ｄで、所望の入射角度が
得られるよう各スパッター源の角度β（図３参照）を設
定すればよい。
３層では、フィルム１に入射する粒子の角度を異ならせ
る場合には、各々の製膜室Ｃ，Ｄで、所望の入射角度が
得られるよう各スパッター源の角度β（図３参照）を設
定すればよい。
【００３７】上記同様に、キャン３の周囲にスパッター
源等の製膜源を設置した製膜室を可能な数設けることに
より、多層構成の媒体を１回の走行で形成する事ができ
る。
源等の製膜源を設置した製膜室を可能な数設けることに
より、多層構成の媒体を１回の走行で形成する事ができ
る。
【００３８】尚、媒体構成によっては、図１あるいは図
４のような構成の装置を用い、複数回の走行によって製
膜される場合のあることは言うまでもない。
４のような構成の装置を用い、複数回の走行によって製
膜される場合のあることは言うまでもない。
【００３９】尚、上記実施例では、製膜法に蒸着法とス
パッター法のみを適用した例を示したが、設置姿勢の自
由度がある製膜法（例えばＣＶＤ等）であれば、スパッ
ター法同様に適用できることはいうまでもない。
パッター法のみを適用した例を示したが、設置姿勢の自
由度がある製膜法（例えばＣＶＤ等）であれば、スパッ
ター法同様に適用できることはいうまでもない。
【００４０】
【発明の効果】本発明によれば、フィルム上に多層薄膜
を１回の走行回数で形成でき、膜構成の自由度の大きい
製膜を簡単に実現できるとともに、設備を大型化するこ
となく、長尺に亘り表面欠陥の少ない優れた多層膜を、
従来に比べ格段に少ない工程で形成できるため、目的の
多層膜の著しい生産性の向上を実現できるものである。
を１回の走行回数で形成でき、膜構成の自由度の大きい
製膜を簡単に実現できるとともに、設備を大型化するこ
となく、長尺に亘り表面欠陥の少ない優れた多層膜を、
従来に比べ格段に少ない工程で形成できるため、目的の
多層膜の著しい生産性の向上を実現できるものである。
【００４１】特に、磁気記録媒体を製造する際には、表
面欠陥がなく、優れた記録再生特性をもつ磁気記録媒体
を長尺に亘り安定して製造することができる。
面欠陥がなく、優れた記録再生特性をもつ磁気記録媒体
を長尺に亘り安定して製造することができる。
【図１】本発明の１実施例における薄膜製造装置の概略
構成図
構成図
【図２】本発明を用いて製造される、各種多層膜の概略
構成を示した断面図
構成を示した断面図
【図３】図１の実施例装置のＣ室の詳細図
【図４】本発明の他の実施例における薄膜製造装置の概
略構成図
略構成図
【図５】従来の薄膜形成装置の概略構成図。
１ フィルム ２ａ 供給ロール ２ｂ 巻き取りロール ３ キャン ６ 蒸着源 ７ 蒸着材料 ８ るつぼ １０ａ、１０ｂ マスク １４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｋ 差圧板 １８ スパッター源 １９ ターゲット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/85 Ｃ 7303−5Ｄ 7303−5Ｄ
Claims (4)
- 【請求項１】円筒状キャンの周面に沿って走行する長尺
基板に、複数の厚みの異なる薄膜を積層し、多層膜を形
成する際に、前記層の内で最も厚みの厚いａ層を蒸着法
により形成し、前記層の内、前記ａ層を除く少なくとも
一層をスパッター法により形成することを特徴とする薄
膜の製造方法。 - 【請求項２】最も厚いａ層を除く少なくとも一層を、基
板への粒子の入射角を所定の角度としたスパッター法で
形成することを特徴とする請求項１記載の薄膜の製造方
法。 - 【請求項３】長尺基板と、所要温度に設定された円筒状
キャンと、前記キャンの周面に前記基板を巻き付け接触
させて走行させる走行手段と、前記キャンに巻き付けら
れた前記基板に、蒸発粒子を、所要の入射角で入射させ
て供給する蒸着源と、前記蒸着源による蒸発粒子の供給
前あるいは供給後あるいは供給前後で、前記キャンに巻
き付けられた前記基板に、蒸発粒子を、所要の入射角で
入射させて供給するスパッター源と、圧力が制御され前
記蒸着源を設置された蒸発室と、蒸発室とは独立して圧
力が制御され前記スパッター源を設置された室を設けた
真空容器からなることを特徴とする薄膜の製造装置。 - 【請求項４】基板上に、蒸着法により形成された、Ｃｏ
とＣｒを主成分とする第１磁性層と、前記第１磁性層上
にスパッター法により形成された、Ｃｏと酸素を主成分
とする第２磁性層を有することを特徴とする磁気記録媒
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21954291A JPH0559549A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 薄膜の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21954291A JPH0559549A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 薄膜の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0559549A true JPH0559549A (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=16737129
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21954291A Pending JPH0559549A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 薄膜の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0559549A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6855416B2 (en) | 2001-10-17 | 2005-02-15 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Thin film magnetic recording medium |
| DE10354090A1 (de) * | 2003-11-10 | 2005-06-30 | Creavac-Creative Vakuumbeschichtung Gmbh | Einrichtung zur Beschichtung von Flachbandkabel |
| US8241699B2 (en) | 2007-03-09 | 2012-08-14 | Panasonic Corporation | Deposition apparatus and method for manufacturing film by using deposition apparatus |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP21954291A patent/JPH0559549A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6855416B2 (en) | 2001-10-17 | 2005-02-15 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Thin film magnetic recording medium |
| DE10354090A1 (de) * | 2003-11-10 | 2005-06-30 | Creavac-Creative Vakuumbeschichtung Gmbh | Einrichtung zur Beschichtung von Flachbandkabel |
| DE10354090B4 (de) * | 2003-11-10 | 2009-01-08 | Creavac-Creative Vakuumbeschichtung Gmbh | Einrichtung zur Beschichtung von Flachbandkabel |
| US8241699B2 (en) | 2007-03-09 | 2012-08-14 | Panasonic Corporation | Deposition apparatus and method for manufacturing film by using deposition apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0559549A (ja) | 薄膜の製造方法及び製造装置並びに磁気記録媒体 | |
| JPS6046182B2 (ja) | 真空内被膜形成方法ならびに装置 | |
| JP2895971B2 (ja) | 光磁気記録媒体の作製方法 | |
| JPS6014408B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS5850628A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0762536A (ja) | 成膜装置 | |
| JPH05101383A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS61187127A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6043915B2 (ja) | 真空蒸着方法 | |
| JPS63310960A (ja) | 金属薄膜の製造法 | |
| JPH05101384A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH01156473A (ja) | 薄膜磁気記録媒体の製造装置及びその使用方法 | |
| JPS6066330A (ja) | テ−プ状媒体の製造方法 | |
| JPH07192259A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63274756A (ja) | 真空蒸着多層薄膜形成装置 | |
| JPH07114731A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59167834A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6126938A (ja) | 垂直磁化記録媒体の製造方法 | |
| JPS59160829A (ja) | 磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPS6156563B2 (ja) | ||
| JPS602664A (ja) | 薄膜製造装置 | |
| JPS58155521A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH07320263A (ja) | 金属系薄膜体の製造装置 | |
| JPH06103571A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62230976A (ja) | 連続スパツタリング装置 |