JP2895971B2 - 光磁気記録媒体の作製方法 - Google Patents
光磁気記録媒体の作製方法Info
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- JP2895971B2 JP2895971B2 JP2214691A JP2214691A JP2895971B2 JP 2895971 B2 JP2895971 B2 JP 2895971B2 JP 2214691 A JP2214691 A JP 2214691A JP 2214691 A JP2214691 A JP 2214691A JP 2895971 B2 JP2895971 B2 JP 2895971B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｐｔ／Ｃｏ積層構造の
光磁気記録媒体の作製方法に関する。
光磁気記録媒体の作製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｐｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録媒体
は、Ｊａｐａｎｅｓｅ Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ｐｈｙｓ
ｉｃｓ，Ｖｏｌ．２８，Ｎｏ．４，Ａｐｒｉｌ，１９８
９，Ｌ６５９〜Ｌ６６０に掲載されている。これは、基
板上にＰｔとＣｏを繰り返し積層した構造（図１参照）
であり、膜厚が数１００Å以下の超薄膜領域で垂直磁化
膜になり、積層周期や膜厚などを変えることによって、
カー回転角や保磁力が変わってくる。
は、Ｊａｐａｎｅｓｅ Ｊｏｕｒｎａｌｏｆ Ｐｈｙｓ
ｉｃｓ，Ｖｏｌ．２８，Ｎｏ．４，Ａｐｒｉｌ，１９８
９，Ｌ６５９〜Ｌ６６０に掲載されている。これは、基
板上にＰｔとＣｏを繰り返し積層した構造（図１参照）
であり、膜厚が数１００Å以下の超薄膜領域で垂直磁化
膜になり、積層周期や膜厚などを変えることによって、
カー回転角や保磁力が変わってくる。
【０００３】例えばＰｔの厚さが６．０Å、Ｃｏの厚さ
が３．５Åの周期で約１００Åの膜厚に積層した膜で、
保磁力は１６０Ｏｅである。また、Ｐｔの厚さが１７
Å、Ｃｏの厚さが６Åの周期で約２００Åの膜厚に積層
した膜で、保磁力は４００Ｏｅである。
が３．５Åの周期で約１００Åの膜厚に積層した膜で、
保磁力は１６０Ｏｅである。また、Ｐｔの厚さが１７
Å、Ｃｏの厚さが６Åの周期で約２００Åの膜厚に積層
した膜で、保磁力は４００Ｏｅである。
【０００４】光磁気記録媒体では、安定したビットを形
成するために、７００Ｏｅ以上の保磁力が必要である。
しかしながら、従来のＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録
媒体は、保磁力４００Ｏｅ以下であり、十分な特性を有
していなかった。
成するために、７００Ｏｅ以上の保磁力が必要である。
しかしながら、従来のＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録
媒体は、保磁力４００Ｏｅ以下であり、十分な特性を有
していなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明によるＰｔ／Ｃ
ｏ積層構造の光磁気記録媒体は、従来のＰｔ／Ｃｏ積層
構造の光磁気記録媒体が有する問題点、即ち保磁力が小
さく光磁気記録媒体として十分な特性を有していない点
を解決するものである。
ｏ積層構造の光磁気記録媒体は、従来のＰｔ／Ｃｏ積層
構造の光磁気記録媒体が有する問題点、即ち保磁力が小
さく光磁気記録媒体として十分な特性を有していない点
を解決するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】Ｐｔ／Ｃｏ積層構造の光
磁気記録媒体の保磁力を向上させるため、スパッタリン
グ法にて、Ｐｔの成膜レートが３４Å／分以下、且つＣ
ｏの成膜レートが１０Å／分以下で、Ｐｔ／Ｃｏ積層膜
を成膜する。
磁気記録媒体の保磁力を向上させるため、スパッタリン
グ法にて、Ｐｔの成膜レートが３４Å／分以下、且つＣ
ｏの成膜レートが１０Å／分以下で、Ｐｔ／Ｃｏ積層膜
を成膜する。
【０００７】
【作用】Ｐｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録媒体の記録膜
を成膜する際、Ｐｔの成膜レートが３４Å／分以下、且
つＣｏの成膜レートが１０Å／分以下で成膜することに
より、規則正しいＰｔ／Ｃｏ積層膜が形成され、保磁力
を光磁気記録媒体として実用可能なレベルに増大させる
ことが可能になる。
を成膜する際、Ｐｔの成膜レートが３４Å／分以下、且
つＣｏの成膜レートが１０Å／分以下で成膜することに
より、規則正しいＰｔ／Ｃｏ積層膜が形成され、保磁力
を光磁気記録媒体として実用可能なレベルに増大させる
ことが可能になる。
【０００８】
【実施例】本発明による一実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【０００９】図１は、本発明によるＰｔ／Ｃｏ積層構造
の光磁気記録媒体の断面構造図である。図１において、
１はガラス等の透明材料を用いて形成された基板であ
り、前記基板１上には、厚さ５ÅのＣｏ層２と厚さ１７
ÅのＰｔ層３とをこの順序で繰り返し９層積層し、全体
の膜厚は約２００Åである。
の光磁気記録媒体の断面構造図である。図１において、
１はガラス等の透明材料を用いて形成された基板であ
り、前記基板１上には、厚さ５ÅのＣｏ層２と厚さ１７
ÅのＰｔ層３とをこの順序で繰り返し９層積層し、全体
の膜厚は約２００Åである。
【００１０】図２は、前記Ｃｏ層２及びＰｔ層３の成膜
に用いる高周波スパッタ装置の模式図である。図２にお
いて、４は高周波スパッタ装置の真空槽であり、前記真
空槽４内の下部には、隔壁５を隔てて、Ｃｏターゲット
６とＰｔターゲット７が配置されている。また、前記真
空槽４に上部中央には、回転軸８が回転可能に支持さ
れ、前記回転軸８の下部には基板ホルダ９が固定されて
いる。さらに、前記基板ホルダ９の下面に基板１が装着
されている。
に用いる高周波スパッタ装置の模式図である。図２にお
いて、４は高周波スパッタ装置の真空槽であり、前記真
空槽４内の下部には、隔壁５を隔てて、Ｃｏターゲット
６とＰｔターゲット７が配置されている。また、前記真
空槽４に上部中央には、回転軸８が回転可能に支持さ
れ、前記回転軸８の下部には基板ホルダ９が固定されて
いる。さらに、前記基板ホルダ９の下面に基板１が装着
されている。
【００１１】上記構成の高周波スパッタ装置において、
基板１にＰｔ／Ｃｏ積層膜を成膜する際には、まず回転
軸８を回転中心として、基板ホルダ９を回転させる。次
にＣｏターゲット６及びＰｔターゲット７をそれぞれ電
源１０、１１にてスパッタすることにより、基板１の表
面にＰｔ／Ｃｏ積層膜が形成される。この時、基板ホル
ダ９の回転に伴って、基板１が隔壁５で仕切られたＣｏ
ターゲット６と対向する領域にきたときにはＣｏ層が、
Ｐｔターゲット７と対向する領域にきたときにはＰｔ層
がそれぞれ形成されることになる。尚、Ｐｔ及びＣｏの
成膜時において、真空槽４内圧力は１×１０-6Ｔｏｒ
ｒ、Ａｒガス圧は１×１０-3Ｔｏｒｒである。
基板１にＰｔ／Ｃｏ積層膜を成膜する際には、まず回転
軸８を回転中心として、基板ホルダ９を回転させる。次
にＣｏターゲット６及びＰｔターゲット７をそれぞれ電
源１０、１１にてスパッタすることにより、基板１の表
面にＰｔ／Ｃｏ積層膜が形成される。この時、基板ホル
ダ９の回転に伴って、基板１が隔壁５で仕切られたＣｏ
ターゲット６と対向する領域にきたときにはＣｏ層が、
Ｐｔターゲット７と対向する領域にきたときにはＰｔ層
がそれぞれ形成されることになる。尚、Ｐｔ及びＣｏの
成膜時において、真空槽４内圧力は１×１０-6Ｔｏｒ
ｒ、Ａｒガス圧は１×１０-3Ｔｏｒｒである。
【００１２】図３は、Ｐｔ及びＣｏの成膜レートと保磁
力の関係を示す図である。図３より、Ｐｔの成膜レート
が３４Å／分以下、Ｃｏの成膜レートが１０Å／分以下
で成膜することにより、保磁力が７００Ｏｅ以上になる
ことが分かる。
力の関係を示す図である。図３より、Ｐｔの成膜レート
が３４Å／分以下、Ｃｏの成膜レートが１０Å／分以下
で成膜することにより、保磁力が７００Ｏｅ以上になる
ことが分かる。
【００１３】図４は、Ｐｔ層３とＣｏ層４とを交互に積
層した光磁気記録媒体のカーヒステリシスループを示し
たものである。１２は、Ｐｔの成膜レートが３４Å／
分、Ｃｏの成膜レートが１０Å／分になるようにＰｔの
投入パワー２４０Ｗ、Ｃｏの投入パワー１７０Ｗで、基
板公転速度は２ｒｐｍで１分間に２回ターゲット５、６
上を通過するように設定し、成膜したものである。１３
は、Ｐｔの成膜レートが６８Å／分、Ｃｏの成膜レート
が２０Å／分になるようにＰｔへの投入パワー３５０
Ｗ、Ｃｏへの投入パワー２５０Ｗで、基板公転速度は４
ｒｐｍに設定して成膜したものである。いずれも一層当
りの膜厚は、Ｐｔの厚さが１７Å、Ｃｏの厚さが５Å
で、全体の膜厚は約２００Åである。図４から、本発明
によるＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録媒体は、保磁力
が従来の４８０Ｏｅから７７０Ｏｅまで増大しているこ
とが分かる。
層した光磁気記録媒体のカーヒステリシスループを示し
たものである。１２は、Ｐｔの成膜レートが３４Å／
分、Ｃｏの成膜レートが１０Å／分になるようにＰｔの
投入パワー２４０Ｗ、Ｃｏの投入パワー１７０Ｗで、基
板公転速度は２ｒｐｍで１分間に２回ターゲット５、６
上を通過するように設定し、成膜したものである。１３
は、Ｐｔの成膜レートが６８Å／分、Ｃｏの成膜レート
が２０Å／分になるようにＰｔへの投入パワー３５０
Ｗ、Ｃｏへの投入パワー２５０Ｗで、基板公転速度は４
ｒｐｍに設定して成膜したものである。いずれも一層当
りの膜厚は、Ｐｔの厚さが１７Å、Ｃｏの厚さが５Å
で、全体の膜厚は約２００Åである。図４から、本発明
によるＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録媒体は、保磁力
が従来の４８０Ｏｅから７７０Ｏｅまで増大しているこ
とが分かる。
【００１４】図５、図６は、それぞれ積層膜１２、１３
をＸ線回折法で解析した結果を示す図であり、横軸は光
磁気記録媒体に照射するＸ線の角度θ（ｄｅｇ）、縦軸
はＸ線回折強度（ｃｐｓ：ｃｏｕｎｔ ｐｅｒ ｓｅｃ
ｏｎｄ）である。図５、図６より、積層膜１２の１次の
ピーク１２ａが積層膜１３の１次のピーク１３ａよりも
強く、積層膜１３に比べ積層膜１２の方が規則正しいＰ
ｔ／Ｃｏの積層構造になっていることが分かる。
をＸ線回折法で解析した結果を示す図であり、横軸は光
磁気記録媒体に照射するＸ線の角度θ（ｄｅｇ）、縦軸
はＸ線回折強度（ｃｐｓ：ｃｏｕｎｔ ｐｅｒ ｓｅｃ
ｏｎｄ）である。図５、図６より、積層膜１２の１次の
ピーク１２ａが積層膜１３の１次のピーク１３ａよりも
強く、積層膜１３に比べ積層膜１２の方が規則正しいＰ
ｔ／Ｃｏの積層構造になっていることが分かる。
【００１５】
【発明の効果】本発明によるＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁
気記録媒体では、ＰｔとＣｏの規則正しい積層膜が形成
され、実用可能なレベルの保磁力を得ることができる。
気記録媒体では、ＰｔとＣｏの規則正しい積層膜が形成
され、実用可能なレベルの保磁力を得ることができる。
【図１】本発明によるＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録
媒体の断面構造図である。
媒体の断面構造図である。
【図２】本発明によるＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録
媒体を成膜するためのスパッタ装置の模式図である。
媒体を成膜するためのスパッタ装置の模式図である。
【図３】Ｐｔ及びＣｏの成膜レートと保磁力の関係を示
す図である。
す図である。
【図４】Ｐｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録媒体のカーヒ
ステリシスループを示す図である。
ステリシスループを示す図である。
【図５】本発明によるＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録
媒体のＸ線回折の解析図である。
媒体のＸ線回折の解析図である。
【図６】従来のＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録媒体の
Ｘ線回折の解析図である。
Ｘ線回折の解析図である。
１ 基板 ２ Ｃｏ層 ３ Ｐｔ層 ４ 真空槽 ５ Ｃｏターゲット ６ Ｐｔターゲット ７ 基板ホルダ ８ 隔壁 ９ 回転軸 １０ 電源 １１ 電源 １２ Ｐｔの成膜レートが３４Å／分、Ｃｏの成膜レー
トが１０Å／分で成膜したＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気
記録媒体のカーヒステリシスループ １２ａ 積層膜１２の１次のピーク １３ Ｐｔの成膜レートが６８Å／分、Ｃｏの成膜レー
トが２０Å／分で成膜したＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気
記録媒体のカーヒステリシスループ １３ａ 積層膜１３の１次のピーク
トが１０Å／分で成膜したＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気
記録媒体のカーヒステリシスループ １２ａ 積層膜１２の１次のピーク １３ Ｐｔの成膜レートが６８Å／分、Ｃｏの成膜レー
トが２０Å／分で成膜したＰｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気
記録媒体のカーヒステリシスループ １３ａ 積層膜１３の１次のピーク
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｐｔ／Ｃｏ積層構造の光磁気記録媒体の
作製方法において、スパッタリング法にて記録膜を成膜
する方法であって、Ｐｔの成膜レートが３４Å／分以
下、且つＣｏの成膜レートが１０Å／分以下で、Ｐｔ／
Ｃｏ積層膜を成膜することを特徴とする光磁気記録媒体
の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2214691A JP2895971B2 (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | 光磁気記録媒体の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2214691A JP2895971B2 (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | 光磁気記録媒体の作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04260313A JPH04260313A (ja) | 1992-09-16 |
| JP2895971B2 true JP2895971B2 (ja) | 1999-05-31 |
Family
ID=12074726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2214691A Expired - Fee Related JP2895971B2 (ja) | 1991-02-15 | 1991-02-15 | 光磁気記録媒体の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2895971B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1241192C (zh) * | 2001-10-25 | 2006-02-08 | 松下电器产业株式会社 | 用于光盘的薄膜沉积方法 |
-
1991
- 1991-02-15 JP JP2214691A patent/JP2895971B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04260313A (ja) | 1992-09-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |