JP5776054B2

JP5776054B2 - 真空処理装置

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Publication number: JP5776054B2
Application number: JP2011085834A
Authority: JP
Inventors: 貴啓廣野; 勲多田; 研二小松
Original assignee: Ulvac Inc
Current assignee: Ulvac Inc
Priority date: 2011-04-07
Filing date: 2011-04-07
Publication date: 2015-09-09
Anticipated expiration: 2031-04-07
Also published as: JP2012219321A

Description

本発明は、長尺のシート状基材を、真空処理室を通して搬送し、この真空処理室でシート状基材に所定の処理を施す真空処理装置に関する。

長尺で樹脂製のシート状基材は可撓性を有し、加工性も良いことから、その表面に所定の金属膜や酸化物膜等の所定の薄膜を成膜したり、熱処理やプラズマ処理を施したりして電子部品や光学部品とすることが一般に知られ、用途によっては、シート状基材の表裏両面に同一または異なる所定処理を施す場合がある。

シート状基材の表裏両面に所定処理を施す装置として、繰出しローラと、巻取りローラと、シート状基材を巻き出して搬送する搬送手段とを備えた搬送室内に、シート状基材の片面（表面）に所定処理を行う一方の処理手段を有する第１の真空処理室と、片面に処理が施されたシート状基材の他面（裏面）に、前記と同一の処理を施す他の処理手段を備えた第２の真空処理室とを夫々連設したものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

然しながら、上記従来例のものでは、シート状基材の表裏両面への処理を別個の真空処理室で施すため、装置自体が大型化するだけでなく、部品点数も増えてコスト高を招来する。しかも、繰出しローラから繰り出したシート状基材を、両真空処理室を通して、巻取りローラに巻き取るまでの経路が長く、生産性も悪い。

特開２００９−１３４７３号公報

本発明は、以上の点に鑑み、装置の小型化が図れて生産性のよい低コストの真空処理装置を提供することをその課題としている。

上記課題を解決するために、本発明は、長尺のシート状基材を、真空処理室を通して搬送し、この真空処理室に設けた処理ユニットによりシート状基材に所定の処理を施す真空処理装置において、真空処理室に配置される、シート状基材の片面が処理ユニットに対向する姿勢で当該処理ユニットを跨いで当該シート状基材を複数周回走行させる上流側ローラユニットと上流側ローラユニットからのシート状基材の表裏を反転させる反転手段とシート状基材の他面が処理ユニットに対向する姿勢で当該処理ユニットを跨いで当該シート状基材を複数周回走行させる下流側ローラユニットとを備え、シート状基材が走行する方向をＺ方向、これに直交するシート状基材の幅方向をＹ方向として、上流側ローラユニット及び下流側ローラユニットの各々は、軸体にローラを外装してなる複数のローラ部をＺ方向に間隔を存して配置して構成され、上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとの各ローラ部をＺ方向にずらして各軸体が真空処理室を画成する壁面に軸支されると共に、上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとがＹ方向に隣接配置され、反転手段は軸体にローラを外装して構成され、軸体は、上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとの境界で、上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとの軸体からＺ軸方向にずらして上記壁面に軸支されることを特徴とする。

本発明によれば、互いに隣接配置される２個のローラユニットと反転手段とにより、当初、シート状基材の片面（表面）が処理ユニットに対向した姿勢で周回走行され、この間、処理ユニットによりシート状基材の片面に所定の処理が施される一方で、反転手段を経ると、シート状基材の表裏が反転されて、シート状基材の他面（裏面）が処理ユニットに対向した姿勢で周回走行され、この間、処理ユニットによりシート状基材の他面に所定の処理が施される。即ち、シート状基材が処理ユニットを跨ぐ方向に直交する方向において、シート状基材の片面が処理ユニットに対向するゾーンと、その他面が処理ユニットに対向するゾーンとに分かれてシート状基材が搬送されて所定処理が施されるようになる。

このように本発明では、単一の真空処理室内の処理ユニットにより効率よくシート状基材の表裏に同一処理を施すことが可能になる。この場合、上記従来例の如く、複数の処理室を必要とせず、装置の小型化が図れると共に、部品点数を少なくして低コスト化を図ることができる。しかも、シート状基材の表面及び裏面が夫々複数回処理ユニットに対向するように周回走行させれば、シートの搬送速度を向上できる等、生産性もよい。なお、本発明において、処理ユニットには、シート状基材に対して施す所定処理に応じて真空処理室内に設けられる成膜源やスパッタリングカソードなどを同一平面内に複数並設してなるものやローラユニット間を搬送されるシート状基材をその両側から挟むように互いに平行な面内に複数の成膜源やスパッタリングカソードなどを設けてなるものを含む。

本発明において、前記反転手段は、上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとの境界に存するローラであり、シート状基材が上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとで互いに異なる方向に周回走行されるようにしてもよい。これにより、少ない部品点数で、処理ユニットに対向して周回搬送されるシート状基材をその途中で表裏反転することが実現でき、しかも、同一構造の上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとを用いて処理ユニットを跨ぐシート状基材の本数を上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとの間で簡単に一致させることができる。

ところで、例えば、シート状基材を所定温度に加熱した状態で成膜処理を行った後、処理直後のシート状基材を巻取りローラで巻き取ると、シート状基材の処理面が変質する等の不具合が生じる虞がある。このため、例えば、処理後のシート状基材を所定温度以下まで冷却して巻取りローラに巻き取ることになる。この場合、ガイドローラや巻取りローラの回転軸を冷却してシート状基材を熱交換で冷却することが考えられるが、これでは装置構成が複雑になる。

そこで、前記真空処理室に巻取りローラが設けられた真空補助室を連設し、この真空補助室内に巻取りローラの上流側でシート状基材に対向させて冷却パネルを設けておけば、当該冷却パネルのシート状基材との対向面が吸熱面としての役割を果たし、シート状基材を効率よく冷却できる。しかも、冷却パネルが、例えば極低温（数十Ｋ）に保持されたクライオパネルであるような場合、当該パネルに真空補助室内の水分等が吸着されることで、真空補助室の高真空度保持に寄与し、例えば、真空補助室に設けるポンプを排気能力の低い、低コストのものを用いることができる等、有利である。

本発明の真空処理装置の構成を示す模式的断面図。上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとによるシート状基材の搬送を説明する部分拡大斜視図。図１に示す真空処理装置におけるシート状基材の搬送順序を説明する図。本発明の変形例に係る真空処理装置の構成を示す部分模式的断面図。

以下、図面を参照して、処理ユニットをスパッタリング成膜用のカソードユニットとし、単一の真空処理室内においてシート状基材の表裏両面に同一の成膜処理をする場合を例に、本発明の実施形態の真空処理装置について説明する。

図１〜図３を参照して、ＳＭは本実施形態の真空処理装置である。真空処理装置ＳＭは、図外の真空ポンプで真空引きされる直方体形状の真空処理室１と、この真空処理室１の一側面に連設された真空補助室２とを備え、シート状基材Ｓを真空補助室２から真空処理室１を通して搬送し、真空処理室１でシート状基材Ｓに成膜処理し、その後、処理済みのシート状基材Ｓを真空補助室２にて回収するようになっている。以下においては、真空処理室１と真空補助室２との連接方向をＸ方向（図１中、左右方向）、Ｘ方向に直交する方向であって後述のようにシート状基材Ｓがカソードユニットのターゲットを跨ぐ方向をＹ方向（図１中、上下方向）、Ｘ方向及びＹ方向に直交する方向をＺ方向（図２中、上下方向）として説明する。

真空処理室１のうち真空補助室２に対向する側壁１１には２個のカソードユニット３ａ、３ｂがＺ方向に所定間隔で並設されている。カソードユニット３ａ、３ｂは、同一の構造を有し、シート状基材Ｓの表裏両面に形成しようとする薄膜の組成に応じて形成されたターゲット３１を備える。ターゲット３１は矩形に形成され（Ｙ方向に長手となるように配置）、後述のようにターゲット３１の真空補助室２側前方を周回走行するシート状基材Ｓの全体の幅より大きな長さを有するように作製され、バッキングプレート３２に接合された状態で真空処理室内に配置される（図２参照）。なお、カソードユニット３ａ、３ｂ自体は、公知の構造を有するものを利用できるため、ここでは詳細な説明を省略する。また、図１中、３３はアノードリング、３４、３５は防着板、３６はカソードカバーである。

真空処理室１には、シート状基材ＳをＺ方向でカソードユニット３ａ、３ｂのターゲット３１を夫々跨いで搬送する上流側ローラユニット４と下流側ローラユニット５とがＹ方向に隣接配置されている。上流側ローラユニット４と下流側ローラユニット５とは、図２に示すようにＺ方向にずらして（下流側ローラユニット５がＺ方向上側に位置する）設けられている以外、同一の構造を有するため、以下では上流側ローラユニット４を例に説明する。上流側ローラユニット４は、Ｘ方向及びＺ方向に夫々所定間隔で配置された、第１及び第２の両上ローラ部４_１ｕ、４_２ｕと第１及び第２の両下ローラ部４_１ｄ、４_２ｄとを備える。第１及び第２の両上ローラ部４_１ｕ、４_２ｕと第１及び第２の両下ローラ部４_１ｄ、４_２ｄとは、同一の構造に形成され、真空処理室１を画成する側壁１２に軸支された軸体４１（５１）と、この軸体４１（５１）に等間隔で回転可能に外装した４個のローラ４２（５２）とから構成され、軸体４１の各々が、未使用時のターゲット３１のスパッタ面に夫々平行に配置されている。

これにより、後述の繰出しローラからのシート状基材Ｓが最初に巻き掛けられる、第１の上ローラ部４_１ｕのうちＹ方向一側（図２中、最も左側のもの）のローラ４２ｓを最上流のものとし、第２の上ローラ部４_２ｕ、第２の下ローラ部４_２ｄ及び第１の下ローラ部４_１ｄの順序でＹ方向一側から他側に向かって各ローラ４２に順次巻き掛けると、シート状基材Ｓの片面がカソードユニット３ａ、３ｂに対向する姿勢でシート状基材Ｓが周回走行するようになる。また、上流側ローラユニット４の第１の下ローラ部４_２ｄと、下流側ローラユニット５の第１の下ローラ部５_２ｄとの境界でこれらのＺ方向下側には反転ローラ（反転手段）６が設けられている。

反転ローラ６は、真空処理室１を画成する側壁に軸支された軸体６１と、この軸体に回転可能に外装した４個のローラ６２とから構成される。そして、第２の下ローラ部４_２ｄのうちＹ方向他側に位置するローラ４２ｅを最下流のものとし、このローラ部４２ｅを経たシート状基材Ｓが反転ローラ６に巻き掛けられ、下流側ローラユニット５の第２の下ローラ部５_２ｄのうちＹ方向一側のローラ部５２ｓへと送られる。これにより、反転ローラ６は、シート状基材Ｓの他面がカソードユニット３ａ、３ｂに対向する姿勢となるようにシート状基材Ｓを反転する役割を果たす。

下流側ローラユニット５においては、反転ローラ６からのシート状基材Ｓが最初に巻き掛けられる、第２の下ローラ部５_２ｄのうちカソードユニット３ａ、３ｂ側でＹ方向一側（図２中、最も左側のもの）ローラ５２ｓを最上流のものとし、カソードユニット３ａ、３ｂ側に位置する第２の上ローラ部５_２ｕ、他の上ローラ部５_１ｕ及び他の下ローラ部５_１ｄの順序でＹ方向一側から他側に向かって各ローラ５２に順次巻き掛けると、シート状基材Ｓの他面がカソードユニット３ａ、３ｂに対向する姿勢で、かつ、上流側ローラユニット４におけるシート状基材Ｓの周回方向と逆方向にシート状基材Ｓが周回走行するようになる。また、真空処理室１内には、シート状基材Ｓを上流側ローラユニット４に案内したり、下流側ローラユニット５から送り出されるシート状基材Ｓを案内したりするために、テンデンシーローラＴＲとガイドローラＧＲとが設けられている。

真空補助室２は、真空処理室１と同様、図外の真空ポンプで真空引きされ、その内部には、図示省略の駆動源を備えた繰出しローラ７と、図示省略の駆動源を備えた巻取りローラ８とが設けられている。繰出しローラ７の下流側及び巻取りローラ８の上流側には、シート状基材Ｓのテンションを測定する測定器９ａ、９ｂが設けられ、この測定器９の測定結果に応じて、繰出しローラ７や巻取りローラ８の回転速度が適宜制御されるようになっている。なお、図１中、ＧＲはガイドローラである。以下に、真空補助室２内の繰出しローラ７から繰り出し、真空処理室１を通した後、巻取りローラ８に巻き取るまでのシート状基材Ｓの搬送を説明する。

繰出しローラ７から繰り出したシート状基材Ｓは、ガイドローラＧＲにより案内されて、真空処理室１と真空補助室２とを隔絶する隔壁１３に形成したＺ方向下側の透孔１４ａを通って真空処理室１に送られる。真空処理室１において、シート状基材Ｓは、ガイドローラＧＲとテンデンシーローラＴＲとに案内されて、上流側ローラユニット４のうち第１の上ローラ部４_１ｕの最上流のローラ４２ｓに隔壁１３側から先ず巻き掛けられる。そして、夫々Ｙ方向一側に位置する、第２の上ローラ部４_２ｕのローラ４２及び第２の下ローラ部４_２ｄのローラ４２にカソードユニット３ａ、３ｂ側から巻き掛けられた後、第１の下ローラ部４_１ｄのローラ４２に隔壁１３側から巻き掛けられる。これをＹ方向他側に向けて順次繰り返すようにして各ローラ４２に巻き掛けられる。

次に、第２の下ローラ部４_２ｄのうちＹ方向他側のローラ４２ｅを経ると、シート状基材Ｓが反転ローラ６へと送り出され、この反転ローラ６にカソードユニット３ａ、３ｂ側から巻き掛けられる（この場合、第１の下ローラ部４_１ｄのうちＹ方向他側のローラ４２ｆは使用しない）。そして、反転ローラ６から送り出されたシート状基材Ｓは、下流側ローラユニット５の第２の下ローラ部５_２ｄのうちＹ方向一側面するローラ５２ｓに、カソードユニット３ａ、３ｂ側から巻き掛けられる。これにより、反転ローラ６は、シート状基材Ｓの他面がカソードユニット３ａ、３ｂに対向する姿勢となるようにシート状基材Ｓを反転する役割を果たす。そして、Ｙ方向一側に位置する第２の上ローラ部５_２ｕのローラ５２にカソードユニット３ａ、３ｂ側から巻き掛け、第１の上ローラ部５_１ｕのローラ５２に隔壁１３側から巻き掛けられた後、第１の下ローラ部５_１ｄのうちＹ方向一側に位置するローラ５２ｆを使用せずに、このローラ５２ｆに隣接するローラ５２に隔壁１３側から巻き掛けられる。これをＹ方向他側に向けて順次繰り返すようにして各ローラ５２に巻き掛けられる。第１の上ローラ部５_１ｕのうちＹ方向他側のローラ５２ｅを経ると、シート状基材Ｓは、ガイドローラＧＲとテンデンシーローラＴＲとに案内されて、隔壁１３に形成したＺ方向上側の透孔１４ｂを通って真空補助室２に再度送られる。最後に、ガイドローラＧＲにより案内されてシート状基材Ｓが巻取りローラ８に巻き取られる。

上記実施形態によれば、互いに隣接配置される２個のローラユニット４、５と反転ローラ６とにより、シート状基材Ｓが上流側ローラユニット４を搬送される間、シート状基材Ｓの片面（表面）がカソードユニット３ａ、３ｂに対向した姿勢で周回走行され、この間、カソードユニット３ａ、３ｂを作動させてターゲット３１をスパッタリングすることで、シート状基材Ｓの片面に所定の薄膜が成膜される。他方で、反転ローラ６を経てシート状基材Ｓが下流側ローラユニット５を搬送される間、シート状基材Ｓの他面（裏面）がカソードユニット３ａ、３ｂに対向した姿勢で、第１のローラユニット４でのシート状基材Ｓの周回方向と逆方向に周回走行され、この間、シート状基材Ｓの他面（裏面）に所定の薄膜が成膜される。即ち、カソードユニット３ａ、３ｂのターゲットのスパッタ面を、Ｙ方向においてシート状基材Ｓの片面が対向するゾーンとその他面が対向するゾーンとに分かれてシート状基材Ｓが搬送しながら成膜されるようになる。

以上説明したように、本実施形態では、単一の真空処理室１内のカソードユニット３ａ、３ｂにより効率よくシート状基材Ｓの表裏に同一の薄膜を成膜することが可能になる。この場合、上記従来例の如く、複数の処理室を必要とせず、装置の小型化が図れると共に、部品点数を少なくして低コスト化を図ることができる。しかも、シート状基材Ｓの表面及び裏面が夫々複数回処理ユニットに対向するように周回走行させたため、シート状基材Ｓの搬送速度を向上できる等、生産性もよい。しかも、上流側ローラユニット４と下流側ローラユニット５との境界に存する反転ローラ６によりシート状基材Ｓを反転させ、シート状基材Ｓが上流側ローラユニット４と下流側ローラユニット５とで互いに異なる方向に周回走行されるようにしたため、少ない部品点数で、同一構造の上流側ローラユニット４と下流側ローラユニット５とを用いてカソードユニット３ａ、３ｂを跨ぐシート状基材Ｓの本数を上流側ローラユニット４と下流側ローラユニット５との間で一致させることができる。

ところで、例えば、シート状基材Ｓを成膜処理する場合、用途によっては、繰出しローラ７の下流側に加熱手段（図示せず）を設け、成膜処理前にシート状基材Ｓを所定温度に加熱し、この状態で成膜処理を行う場合がある。このような場合に、処理直後のシート状基材Ｓを巻取りローラ８で巻き取ると、シート状基材Ｓに成膜した膜が変質する等の不具合が生じる虞がある。

そこで、本実施形態では、巻取りローラ８の上流側でシート状基材Ｓに対向させてクライオパネル（冷却パネル）ＣＰを設けている（図１参照）。クライオパネルＣＰは、例えば、閉サイクルのヘリウム冷凍機等、公知の構図の冷凍ユニットＣＰ１を備え、冷凍ユニットＣＰ１からの冷媒で極低温（例えば、数十Ｋ）に保持されるようになっている。この場合、クライオパネルＣＰのシート状基材Ｓとの対向面は、シート状基材Ｓより幅広に形成されている。これにより、クライオパネルＣＰのシート状基材Ｓとの対向面が吸熱面としての役割を果たし、シート状基材Ｓを効率よく冷却することができる。しかも、クライオパネルＣＰに真空補助室２内の水分等が吸着されることで、真空補助室２の高真空度保持に寄与し、例えば、真空補助室２に設けるポンプを排気能力の低い、低コストのものを用いることができる等、有利である。また、クライオパネルＣＰをガイドローラに対向させて設置し、ガイドローラ自体を冷却してシート状基材Ｓを冷却するようにしてもよい。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記に限定されるものではない。上記実施形態では、冷却パネルとしてクライオパネルＣＰを用いるものを例に説明しているが、シート状基材Ｓから吸熱して冷却し得るものであれば、これに限定されるものではない。また、冷却パネルを用いた本発明のシート状基材Ｓの冷却方法は、上記実施形態の真空処理装置だけでなく、上記従来例のような構造のものを含む他の巻取り式の真空処理装置全般に広く適用可能である。

また、上記実施形態では、処理ユニットとしてカソードユニット３ａ、３ｂを用いるものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、抵抗加熱式蒸発源やＣＶＤ法によるものを用いることができ、また、成膜源以外でプラズマガス等を設けて表面処理するような処理ユニットでも本発明は適用できる。また、上記実施形態では、同一平面内に２個のカソードユニット３ａ、３ｂをＺ方向に並設して処理ユニットとしたものを例に説明したが、処理ユニットを構成するものの数や取付位置は上記に限定されるものではない。例えば、図４に示すように、上流側ローラユニット４及び下流側ローラユニット５を搬送されるシート状基材Ｓをその両側から挟むように、互いに平行な壁面にスパッタリング用のカソードユニット３０ａ、３０ｂを夫々設けてもよい。この場合、両カソードユニット３０ａ、３０ｂの各ターゲットを異なる材料製とし、両カソードユニット３０ａ、３０ｂを、上流側ローラユニット４にのみ対向するものと、下流側ローラユニット５にのみ対向するようにＹ方向にずらしておけば、シート状基材Ｓの両面に異なる膜を成膜するようにできる。

更に、上記実施形態では、上流側ローラユニット４と下流側ローラユニット５とを夫々４個のローラ部で構成したものを例に説明したが、これに限定されるものではなく、例えば、Ｚ方向に対をなして設けた２個のローラ部で構成することもできる。また、上流側及び下流側の各ローラユニット４、５の構成は上記のものに限定されるものではなく、例えば、各ローラ４２、５２の個数や大きさはシート状基材Ｓの幅等を考慮して適宜設定できる。更に、上流側ローラユニット４と下流側ローラユニット５との境界に存する反転ローラ６により反転手段を構成したものを例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、上流側ローラユニット４の第２の下ローラ部４_２ｄのうち隔壁１３側でＹ方他側に位置するローラ４２までシート状基材Ｓを巻き掛けた後、下流側ローラユニット５の第１の上ローラ部５_１ｕのうちカソードユニット側でＹ方一側に位置するローラ５２ｓに、隔壁１３側から巻き掛けてシート状基材Ｓが表裏反転するようにしてもよい。この場合、２個のローラが反転手段を構成する。

また、上記実施形態では、真空処理装置ＳＭを最も小型化できるように、１つの真空補助室２に繰出しローラ７と巻取りローラ８とを設けたものを例に説明したが、装置のレイアウトはこれに限定されるものではない。特に図示して説明しないが、例えば、真空処理室１の相互に対向する側面に夫々真空補助室を連設し、上流側の真空補助室に設けた繰出しローラから、真空処理室１を通して、下流側の真空補助室に設けた巻取りローラに巻き取るようにシート状基材を搬送してもよい。

ＳＭ…真空処理装置、１…真空処理室、２…真空補助室、３ａ、３ｂ…カソードユニット（処理ユニット）、４…上流側ローラユニット、４_１ｕ、４_２ｕ、４_１ｄ、４_２ｄ…ローラ部（上流側ローラユニット）、４１…軸体（上流側ローラユニット）、４２…ローラ（上流側ローラユニット）、５…下流側ローラユニット、５_１ｕ、５_２ｕ、５_１ｄ、５_２ｄ…ローラ部（下流側ローラユニット）、５１…軸体（下流側ローラユニット）、５２…ローラ（下流側ローラユニット）、６…反転ローラ（反転手段）、７…繰出しローラ、８巻取りローラ、ＣＰ…クライオパネル（冷却パネル）、Ｓ…シート状基材。

Claims

長尺のシート状基材を、真空処理室を通して搬送し、この真空処理室に設けた処理ユニットによりシート状基材に所定の処理を施す真空処理装置において、
真空処理室に配置される、シート状基材の片面が処理ユニットに対向する姿勢で当該処理ユニットを跨いで当該シート状基材を複数周回走行させる上流側ローラユニットと上流側ローラユニットからのシート状基材の表裏を反転させる反転手段とシート状基材の他面が処理ユニットに対向する姿勢で当該処理ユニットを跨いで当該シート状基材を複数周回走行させる下流側ローラユニットとを備え、
シート状基材が走行する方向をＺ方向、これに直交するシート状基材の幅方向をＹ方向として、上流側ローラユニット及び下流側ローラユニットの各々は、軸体にローラを外装してなる複数のローラ部をＺ方向に間隔を存して配置して構成され、上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとの各ローラ部をＺ方向にずらして各軸体が真空処理室を画成する壁面に軸支されると共に、上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとがＹ方向に隣接配置され、
反転手段は軸体にローラを外装して構成され、軸体は、上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとの境界で、上流側ローラユニットと下流側ローラユニットとの軸体からＺ軸方向にずらして上記壁面に軸支されることを特徴とする真空処理装置。
前記真空処理室または当該真空処理室に連設した真空補助室に、処理済みのシート状基材を巻き取る巻取りローラを設け、巻取りローラの上流側でシート状基材に対向させて冷却パネルを設けたことを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。