JP4731354B2 - 表面処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、可撓性を有する帯状体に対して、成膜処理や表面改質などの表面処理を行う装置に関するものである。

金属や合金、無機材料、合成樹脂等で構成された可撓性を有する帯状体に対して、各種の表面処理が行われている。具体的な表面処理として、金属膜やセラミックス膜、有機膜などの成膜処理や、大気圧または真空下でのプラズマによる表面改質などが行われている。これらの表面処理は、表面処理源の前方に帯状体を通過させて行うことが考えられる。しかしながら、帯状体は幅が狭いので、帯状体の通過領域以外の領域にも処理が行われることになり、表面処理効率が著しく悪いという問題がある。

そこで特許文献１には、一対のプーリー部の間に線材を複数回巻回して、線材に連続的に蒸着膜を形成する蒸着装置が提案されている。この技術では、フリープーリーの外周面に溝を配設し、フリープーリーの幅方向両端部につばを形成している。
また特許文献２には、連続走行する帯状材料に表面処理を施す表面処理源と、その走行を案内する複数のロール部を軸方向に重ねて成る一対のガイドロールとを備え、これら一対のガイドロール間に帯状材料をらせん状に走行させる技術が提案されている。この技術では、少なくとも一方のガイドロールにおいて各ロール部の回転軸が所定角度傾斜しており、この傾斜によりガイドロールを周回するときに帯状材料がらせん状の１ピッチ分ずれるようにしている。
特開２００４−２２５０７４号公報 特開２００５−１１３１６５号公報

しかしながら、特許文献１の蒸着装置において帯状体の表面処理を行うと、走行中の帯状体がフリープーリーのつばに接触することになる。これにより、帯状体が損傷したり、帯状体上の形成膜が損傷したりするという問題がある。また接触部での発塵により、形成膜に異物が付着したり、ピンホールが生成されたりして、製品不良が発生するという問題がある。
また特許文献２の技術では、各ロール部の回転軸の傾斜角度を調整することができない。そのため、帯状体の幅寸法の変更に対応することが困難であり、処理可能な帯状体の種類が限られるという問題がある。また、各ガイドロールにおける一つのロール部を回転駆動して帯状体を周回走行させるので、帯状体に局所的な伸びの集中が発生するおそれがあり、安定した周回走行が困難になるという問題がある。

本発明は、以上の点に鑑みて成されたものであり、幅寸法の異なる帯状体でも、安定してらせん状に周回走行させることが可能な、表面処理装置の提供を目的とする。

複数のローラが軸体に沿って配置されたローラ群を備え、複数の前記ローラ群が離間配置され、前記複数のローラ群の前記ローラに対して順に帯状体を回し掛けることにより前記帯状体をらせん状に配置した状態で、前記帯状体を周回走行させつつ前記帯状体に表面処理を行う装置であって、前記複数のローラ群の軸体は、相互に平行に配置され、前記複数のローラ群の前記ローラは、前記帯状体の勾配が略一定となるように、相互に前記軸体の軸方向にずれた状態で配置され、前記ローラ群に含まれる前記複数のローラは、それぞれの回転軸を略一致させて、相互に独立して回転自在に形成されていることを特徴とする。

この構成によれば、前記複数のローラ群の軸体が相互に平行に配置され、前記ローラ群に含まれる前記複数のローラがそれぞれの回転軸を略一致させて相互に独立して回転自在に形成されているので、帯状体の全体に均一な張力が付与され、局所的な伸びの集中を防止することができる。また、前記複数のローラ群の前記ローラは、前記帯状体の勾配が略一定となるように、相互に前記軸体の軸方向にずれた状態で配置されているので、帯状体の捩れを防止することができる。さらに、前記ローラの外周面が前記ローラの幅方向の両端から中央にかけて外側に突出形成されていることが望ましい。この構成によれば、帯状体が走行時に高張力側、即ち、外径が大きい側に逸れる特性を利用することにより、幅寸法の異なる帯状体を回し掛けた場合でも、帯状体がローラから外れるのを防止することができる。以上により、帯状体を安定してらせん状に周回走行させることができる。

また前記ローラは、転がり軸受けを介して前記軸体に装着されていることが望ましい。
この構成によれば、ローラが回転自在になるので、らせん状に配置された帯状体における局所的な伸びの集中を防止することができる。

また前記ローラと前記転がり軸受けとの間に、前記ローラの構成材料より熱伝導率の低い材料からなる断熱リングが設けられていることが望ましい。
この構成によれば、帯状体からの熱が、ローラを介して転がり軸受け等に伝達されるのを抑制することが可能になる。したがって、転がり軸受け等の熱による破損を防止することができる。

また前記軸体は、内部に冷媒流路を備えていることが望ましい。
この構成によれば、転がり軸受け等が強制冷却されるので、転がり軸受け等の熱による破損を防止することができる。

また前記ローラの幅方向の少なくとも一方側に、前記軸体から外側に向かって吸熱板が延設されていることが望ましい。
この構成によれば、外部からの輻射熱が転がり軸受け等に入射するのを防止することが可能になる。したがって、転がり軸受け等の熱による破損を防止することができる。

また隣接する一対の前記ローラ群の間において、前記帯状体に第１の表面処理を行い、前記一対のローラ群とは異なる他の一対の前記ローラ群の間において、前記帯状体に第２の表面処理を行ってもよい。
この構成によれば、複数の表面処理を効率的に行うことが可能になり、製造コストを低減することができる。

また前記帯状体を供給する巻出室と、前記帯状体に表面処理を行う表面処理室と、前記帯状体を巻き取る巻取室とを備え、前記巻出室、前記表面処理室および前記巻取室は、それぞれ内部雰囲気を調整しうるように形成されていることが望ましい。
この構成によれば、帯状体に対して所望の表面処理を行うことが可能になる。

本発明の表面処理装置によれば、幅寸法の異なる帯状体でも、帯状体を安定してらせん状に周回走行させることができる。また、転がり軸受け等の熱による破損を防止することができる。

以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。

（表面処理装置）
図１は、本発明の実施形態に係る表面処理装置１の平面図である。なお図１では、紙面の垂直方向をＺ方向とし、左右方向をＸ方向としている。本実施形態に係る表面処理装置１は、可撓性を有する帯状体２に表面処理を施すものであり、表面処理前の帯状体２を供給する巻出室１０と、帯状体２に表面処理を行う表面処理室３０と、表面処理後の帯状体２を巻き取る巻取室２０とを備えたものである。これらの巻出室１０、巻取室２０および表面処理室３０は、それぞれターボ分子ポンプ等の排気装置を備え、内部雰囲気を０．０００１Ｐａから０．１Ｐａまで調整しうるようになっている。

巻出室１０には、帯状体２の巻出ローラ１２が配置されている。この巻出ローラ１２には、保護シート３で表面を被覆された表面処理前の帯状体２が収納されている。その巻出ローラ１２に隣接して、共巻ローラ１４が配置されている。この共巻ローラ１４は、帯状体２の巻出しにより不要となった保護シート３を巻き取るものである。また巻出ローラ１２の下流には、速度基準ガイドローラ１６が設けられている。この速度基準ガイドローラ１６は速度センサを備え、帯状体２の走行速度を検出する機能を有している。ここで検出された走行速度をもとに、巻出ローラ１２および巻取ローラ２２の回転速度が制御される。

一方、巻取室２０の入口付近には、冷却ローラ２８が設けられている。この冷却ローラは、帯状体２の巻き取り前に表面処理により高温となった帯状体２を冷却するものであり、内部に冷媒流路を備えている。その冷却ローラ２８の下流には、ピックアップローラ２６が設けられている。このピックアップローラ２６はロードセルを備え、帯状体２の張力を検出する機能を有している。ここで検出された張力をもとに、巻出ローラ１２および巻取ローラ２２の回転速度が自動制御される。またピックアップローラ２６の下流には、巻取ローラ２２が配置されている。この巻取ローラ２２は、共巻ローラ２４から繰出された保護シート３で表面を被覆しつつ、表面処理後の帯状体２を巻き取るものである。なお巻取ローラ２２には、モータ等の回転駆動装置が接続されている。

（処理室）
上述した巻出室１０および巻取室２０の間には、帯状体２に表面処理を行う表面処理室３０が設けられている。この表面処理室３０には、複数のローラ群４０が設けられている。本実施形態では、第１ローラ群４０ａ、第２ローラ群４０ｂ、第３ローラ群４０ｃおよび第４ローラ群４０ｄが、略長方形の四隅に相当する位置に設けられている。例えば、第１ローラ群４０ａと第２ローラ群４０ｂとの距離および第３ローラ群４０ｃと第４ローラ群４０ｄとの距離が約２２０ｍｍ、第２ローラ群４０ｂと第３ローラ群４０ｃとの距離および第４ローラ群４０ｄと第１ローラ群４０ａとの距離が約１０００ｍｍに設定されている。

図２は、表面処理室の正面図であり、図１のＡ矢視図である。なお図２では、紙面の上下方向をＺ方向とし、左右方向をＸ方向としている。ローラ群４０は、複数のローラ４４と、それらの回転軸となる軸体４２とによって構成されている。各ローラ４４は、略同一に形成されて、略等間隔に平行に配置されている。例えばローラ４４は、幅１４ｍｍ程度、半径１００ｍｍ程度に形成されている。また軸体４２は、各ローラ４４の側面に対して垂直に、各ローラ４４の中心を貫くように挿入されている。例えば、１０個程度のローラ４４が１本の軸体４２により連結されて、ローラ群４０が形成されている。各ローラ群４０の軸体４２は、相互に平行に配置されている。

図３は、図２のＢ部の拡大断面図である。図３に示すように、ローラ４４および軸体４２は、ステンレス等の金属材料により構成されている。なお軽量化のため、ローラ４４の側面にはザグリ４５および／または貫通孔が設けられている。
ローラ４４の外周面４７は、ローラ４４の幅方向の両端から中央にかけて外側に突出したクラウン（太鼓）形状に形成されている。これにより、ローラ４４の外周面４７に回し掛けられる帯状体２が、ローラ４４の幅方向にずれたり、ローラ４４から外れたりするのを防止することができるようになっている。特にローラ４４の外周面４７は、ローラ４４の中心点からの距離Ｒが一定になるように、球面状に形成されていることが望ましい。これにより、ローラ４４の外周面４７に回し掛けられる帯状体２の損傷を防止することができる。例えば、ローラ４４の外周面４７を構成する球面の半径Ｒは、ローラ半径の１〜２倍程度となるように、例えば、Ｒ＝１００〜２００ｍｍとされている。

またローラ４４は、自動調心型ベアリング等の転がり軸受け４８を介して軸体４２に装着されている。これにより、ローラ群に含まれる複数のローラ４４は、それぞれの回転軸を軸体４２に一致させて、相互に独立して回転自在に形成されている。
なお、ローラ４４の外周面４７には高温の帯状体２が配置されるので、転がり軸受け４８の熱による破損を防止する必要がある。そこで、ローラ４４と転がり軸受け４８との間には、ローラ４４の構成材料より熱伝導率の低い材料からなる断熱リング４６が設けられている。具体的には、断熱リング４６の構成材料として、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）や石英（ＳｉＯ_２）、マグネシア（ＭｇＯ）、窒化アルミ（ＡｌＮ）、窒化珪素（Ｓｉ_３Ｎ_４）等を採用することが望ましい。また転がり軸受け４８を冷却するため、軸体４２の内部には冷媒流路４３が設けられている。さらに、外部からの輻射熱による転がり軸受け４８の温度上昇を防止するため、ローラ４４の両側面から所定距離を置いて吸熱板５０が設けられている。この吸熱板５０は、銅（Ｃｕ）や銀（Ａｇ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）等の熱伝導率の高い材料で構成され、軸体４２から外側に向かって延設されている。その軸体４２を流れる冷媒により、吸熱板５０が低温に保持されるので、転がり軸受け４８に向かって入射する輻射熱を吸収しうるようになっている。なお転がり軸受け４８自体も、耐熱性に優れたものを採用することが望ましい。

図１に戻り、表面処理室３０における帯状体２は、第１ローラ群４０ａ、第２ローラ群４０ｂ、第３ローラ群４０ｃおよび第４ローラ群４０ｄに対して順に回し掛けられる。
図２に示すように、帯状体２は、まず各ローラ群４０における−Ｚ側端部の第１段ローラ４４１に回し掛けられる。次に帯状体２は、各ローラ群４０における−Ｚ側端部から２番目の第２段ローラ４４２に回し掛けられる。このようにして、帯状体２は、各ローラ群４０における＋Ｚ側端部の第ｎ段ローラ４４ｎまで順に回し掛けられる。なお各ローラ群４０における同一段のローラは、軸体４２の軸方向にずれた状態で、異なるＺ方向位置に配置されている。

図４は、各ローラ群における第ｍ段ローラの配置説明図である。図４（ａ）の平面図に示すように、第１ローラ群４０ａと第２ローラ群４０ｂとの距離をＬ１、第２ローラ群４０ｂと第３ローラ群４０ｃとの距離をＬ２、第３ローラ群４０ｃと第４ローラ群４０ｄとの距離をＬ３、第４ローラ群４０ｄと第１ローラ群４０ａとの距離をＬ４とする。図４（ｂ）は、横軸に帯状体の長さＬをとり、縦軸に帯状体のＺ方向（図２の上下方向）の位置をとったグラフである。図４（ｂ）に示すように、各ローラ群の第ｍ段ローラ４４ｍａ，４４ｍｂ，４４ｍｃ，４４ｍｄに対して順に回し掛けられる帯状体の勾配が一定になるように、各ローラ群における第ｍ段ローラ４４ｍａ，４４ｍｂ，４４ｍｃ，４４ｍｄのＺ方向位置Ｚａ（ｍ），Ｚｂ（ｍ），Ｚｃ（ｍ），Ｚｄ（ｍ）が設定されている。これにより、帯状体の捩れを防止することが可能になり、帯状体を安定してらせん状に周回走行させることができる。

図２に戻り、隣接するローラ群４０，４０の間には、各段ローラに回し掛けられた帯状体２が平行に配置される。そこで、隣接するローラ群４０，４０の間に表面処理領域３５が設定されている。これにより、表面処理領域３５の略全体に帯状体２を配置して、効率的な表面処理を行うことができるようになっている。本実施形態では、第２ローラ群４０ｂと第３ローラ群４０ｃとの間に、表面処理領域３５が設定されている。

そこで図１に示すように、表面処理領域３５の帯状体２と対向するように、１個または複数個（図１では２個）のＥＢ蒸発源３４が設けられている。ＥＢ蒸発源３４は主に、電子ビーム照射装置と、成膜材料が充填されたハースとを備えている。その電子ビーム照射装置から電子ビームを照射してハースに入射させると、ハースに充填された成膜材料が加熱されて蒸発する。これにより蒸発した成膜材料が、対向する帯状体２に付着して、帯状体２に成膜処理が施されるようになっている。
また、成膜処理の前処理として、帯状体２をプラズマ処理することを可能とするように、ＥＢ蒸発源３４の隣にはＥＣＲイオン源３２が設けられている。なお成膜処理とプラズマ処理とを同時進行させるべく、表面処理領域３５にプラズマが及ぶように、ＥＣＲイオン源３２が配置されていてもよい。

さらに、成膜処理中の帯状体２を加熱処理するため、第２ローラ群４０ｂと第３ローラ群４０ｃとの間において、帯状体２を挟んでＥＢ蒸発源３４の反対側に、ヒータ３６が設けられている。このヒータ３６には、ランプヒータやパネルヒータ等のあらゆるヒータを採用することが可能である。
また、成膜処理前および成膜処理後の帯状体２を加熱処理するため、第４ローラ群４０ｄと第１ローラ群４０ａとの間において、帯状体２と対向するように、ヒータ３７が設けられている。このヒータ３７も、ランプヒータやパネルヒータ等のあらゆるヒータを採用することが可能である。

（表面処理方法）
次に、本実施形態に係る表面処理装置を使用した表面処理方法について説明する。ここでは、最終製品を超電導線材として利用するため、高耐熱耐食合金ハステロイＣ−２７６等からなる帯状体２の表面に、酸化セリウム（ＣｅＯ_２）からなる被膜を形成する場合について説明する。なお予め帯状体２の表面に、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等からなる下地膜を形成しておく。例えば帯状体２として、幅１０ｍｍ程度、厚さ０．１ｍｍ程度、長さ５００ｍ程度のものを採用する。

図１に示すように、上述した帯状体２の先端を、巻出室１０における巻出ローラ１２から繰り出し、表面処理室３０における複数のローラ群４０にらせん状に回し掛けて、巻取室２０における巻取ローラ２２で巻き取る。複数のローラ群４０に対する帯状体２の周回数は、１０ターン程度とする。これにより表面処理領域３５が、Ｘ方向の長さ５００ｍｍ程度、Ｚ方向の長さ２００ｍｍ程度に設定されている。

次に、巻取ローラ２２を回転駆動することにより、帯状体２に対して徐々に張力を付与する。帯状体２の張力は、例えば１０〜５０Ｎ／ｍ程度に設定する。なお巻取室２０のピックアップローラ２６により帯状体２の張力を検出し、検出された張力をもとに巻出ローラ１２および巻取ローラ２２の回転速度を自動制御する。また帯状体２の走行速度は、例えば２．５〜２６．０ｍ／ｈ程度に設定する。なお巻出室１０の速度基準ガイドローラ１６により帯状体２の走行速度を検出し、検出された走行速度をもとに巻出ローラ１２および巻取ローラ２２の回転数を調整する。

次に、表面処理室３０の内部を、例えば約６．７×１０^−４Ｐａ以下まで減圧する。またヒータ３６，３７により、帯状体２を、例えば最高８００℃まで加熱する。
そして、帯状体２に対する表面処理領域３５の直前において、ＥＣＲイオン源３２を用いた前処理を行う。具体的には、ＥＣＲイオン源３２からアルゴンイオンや酸素イオン等を供給して、帯状体２の表面をプラズマ処理する。

次に、表面処理領域３５において、ＥＢ蒸発源３４を用いた成膜処理を行う。具体的には、予めＥＢ蒸発源３４のハース内に、成膜材料として酸化セリウム（ＣｅＯ_２）またはセリウム（Ｃｅ）を充填しておく。また必要に応じて、表面処理領域３５に酸素ガスを導入する。次に、電子ビーム照射装置から電子ビームを照射してハースに入射させ、ハースに充填された成膜材料を加熱して蒸発させる。これにより蒸発した成膜材料が、対向する帯状体２に付着して、酸化セリウム（ＣｅＯ２）からなる被膜が形成される。例えば、７５ｎｍ・ｍ／ｍｉｎ程度の動的成膜速度で、厚さ２μｍ程度の被膜を形成する。ここで動的成膜速度とは、蒸着源の前面を基材が通過して成膜される場合に使われる単位であり、成膜中の基材の移動速度（一定速度）と、成膜領域通過後に基材に成膜された膜の厚みとを乗算したもので示される。蒸着源の前面を基材が通過して成膜される場合には、基材の通過速度が速くなると着膜量が減少するため、静的成膜速度（ｎｍ／ｍｉｎ）より有用な単位である。なお表面処理領域３５において、ＥＣＲイオン源３２によるプラズマ処理と、ＥＢ蒸発源３４による成膜処理とを、同時進行させてもよい。

なお図２に示すように、ローラ群４０を構成するローラ４４の幅を１４ｍｍ程度とした本実施形態では、帯状体２が幅５〜１０ｍｍ程度の範囲内でサイズ変更された場合でも、装置を改造することなく表面処理を行うことができる。またローラ４４の幅を１９ｍｍ程度とすれば、幅５〜１５ｍｍ程度の帯状体２に対応することが可能である。さらに広幅の帯状体２にサイズ変更された場合でも、複数のローラ４４の間隔を調整することにより、簡単に対応することが可能である。具体的には、軸体４２から各ローラ４４を取り外し、各ローラ４４の間に所定厚さのスペーサを挟み込んで、再び軸体４２に装着すればよい。これにより、幅寸法の異なる帯状体２にサイズ変更された場合でも、帯状体２を安定してらせん状に周回走行させることができる。

なお複数のローラ群４０に対する帯状体２の周回数を変更する場合には、−Ｚ側端部のローラ４４への回し掛けを省略することによって行う。この場合、表面処理室への帯状体２の供給位置を変更するため、図１に示す巻出室１０のローラ一式（巻出ローラ１２、共巻ローラ１４、速度基準ガイドローラ１６および中間ローラ１８）を、Ｚ方向に移動可能に形成することが望ましい。なお図２に示す複数のローラ群４０に対する帯状体２の周回数を変更する場合に、＋Ｚ側端部のローラ４４への回し掛けを省略することによって行うことも可能である。この場合、表面処理室３０からの帯状体２の排出位置が変更されるため、図１に示す巻取室２０のローラ一式（巻取ローラ２２、共巻ローラ２４、ピックアップローラ２６および冷却ローラ２８）をＺ方向に移動可能に形成することが望ましい。なお、ピックアップローラ２６を移動させると、帯状体２の張力の検出精度が低下するおそれがあるため、前者のように−Ｚ側端部のローラ４４への回し掛けを省略することによって、帯状体２の周回数を変更することが望ましい。

以上に詳述したように、本実施形態に係る表面処理装置では、複数のローラが軸体に沿って配置されたローラ群を備え、複数のローラ群が離間配置され、複数のローラ群のローラに対して順に帯状体を回し掛けることにより帯状体をらせん状に配置した状態で、帯状体を周回走行させつつ帯状体に表面処理を行う構成とした。これにより、隣接するローラ群の間に複数の帯状体が平行に配置されるので、隣接するローラ群の間に表面処理領域を設定することにより、表面処理領域の略全体に帯状体を配置することが可能になる。したがって、効率的に表面処理を行うことができる。

また本実施形態に係る表面処理装置では、複数のローラ群の軸体が相互に平行に配置され、ローラ群に含まれる複数のローラがそれぞれの回転軸を略一致させて相互に独立して回転自在に形成されているので、帯状体の全体に均一な張力が付与され、局所的な伸びの集中を防止することができる。また、複数のローラ群のローラは帯状体の勾配が略一定となるように相互に軸体の軸方向にずれた状態で配置されているので、帯状体の捩れを防止することができる。さらに、ローラの外周面がローラの幅方向の両端から中央にかけて外側に突出形成されているので、幅寸法の異なる帯状体を回し掛けた場合でも、帯状体がローラから外れるのを防止することができる。以上により、帯状体を安定してらせん状に周回走行させることができる。

なお、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。

例えば、本実施形態では４個のローラ群を長方形の角部に相当する位置に設けたが、３個のローラ群を三角形の角部に相当する位置に設けてもよく、２個のローラ群を直線の両端部に相当する位置に設けてもよい。また５個以上のローラ群を多角形の角部に相当する位置に設けてもよい。
また、本実施形態では表面処理領域における帯状体の一方側のみにＥＢ蒸発源を設けて、帯状体の一方面のみに成膜処理を行ったが、帯状体の両側にＥＢ蒸発源を設けて帯状体の両面に成膜処理を行うことも可能である。

また、本実施形態では帯状体に対して垂直に成膜材料を入射させたが、帯状体に対して斜めに成膜材料を入射させることにより、液晶パネルの傾斜配向膜を形成することも可能である。
また、本実施形態では表面処理として主に成膜処理を行ったが、これ以外の表面処理として熱処理（成膜後の熱処理も含む）や窒化処理、酸化処理、プラズマを用いた表面処理等を行うことも可能である。また複数種類の処理を同時に行うことも可能である。

実施形態に係る表面処理装置の平面図である。 図１のＡ矢視図である。 図２のＢ部の拡大断面図である。 各ローラ群における第ｍ段ローラの配置説明図である。

符号の説明

１…表面処理装置 ２…帯状体 １０…巻出室 ２０…巻取室 ３０…表面処理室 ４０…ローラ群 ４２…軸体 ４３…冷媒流路 ４４…ローラ ４６…断熱リング ４８…転がり軸受け ５０…吸熱板

Claims (6)

1. 複数のローラが軸体に沿って配置されたローラ群を備え、
   複数の前記ローラ群が離間配置され、
   前記複数のローラ群の前記ローラに対して順に帯状体を回し掛けることにより前記帯状体をらせん状に配置した状態で、前記帯状体を周回走行させつつ前記帯状体に表面処理を行う装置であって、
   前記帯状体と対向するように配置された蒸発源と、
   前記帯状体を挟んで前記蒸着源の反対側に、前記帯状体を加熱するヒータと、を有し、
   前記複数のローラ群の前記軸体は、相互に平行に配置され、
   前記複数のローラ群の前記ローラは、前記帯状体の勾配が略一定となるように、相互に前記軸体の軸方向にずれた状態で配置され、
   前記ローラ群に含まれる前記複数のローラは、それぞれの回転軸を略一致させて、相互に独立して回転自在に形成され、
   前記ローラは、転がり軸受けを介して前記軸体に装着され、
   前記ローラと前記転がり軸受けとの間に、前記ローラの構成材料より熱伝導率の低い材料からなる断熱リングが設けられていることを特徴とする表面処理装置。
2. 前記ローラの外周面は、前記ローラの幅方向の両端から中央にかけて外側に突出形成されていることを特徴とする請求項１に記載の表面処理装置。
3. 前記軸体は、内部に冷媒流路を備えていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表面処理装置。
4. 前記ローラの幅方向の少なくとも一方側に、前記軸体から外側に向かって吸熱板が延設されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の表面処理装置。
5. 隣接する一対の前記ローラ群の間において、前記帯状体に第１の表面処理を行い、前記一対のローラ群とは異なる他の一対の前記ローラ群の間において、前記帯状体に第２の表面処理を行うことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の表面処理装置。
6. 前記帯状体を供給する巻出室と、前記帯状体に表面処理を行う表面処理室と、前記帯状体を巻き取る巻取室とを備え、
   前記巻出室、前記表面処理室および前記巻取室は、それぞれ内部雰囲気を調整しうるようになっていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の表面処理装置。

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