JP7263105B2 - 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 - Google Patents

巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 Download PDF

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本発明は、巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法に関する。
巻取式成膜装置の中に、真空容器内で帯状のフィルムを所定の巻き取り角度でローラによって巻回し、ローラをフィルムを介して成膜源に対向させて、フィルムの成膜面に薄膜を形成するものがある。このような巻取式成膜装置では、フィルムが成膜源から熱負荷を受けるために、ローラの外周面に鏡面加工を施す場合がある(例えば、特許文献1参照)。
このような加工を施せば、フィルムと外周面とが密着する面積が充分に確保されるため、フィルムが成膜源から熱負荷を受けたとしても、フィルムがローラによって効率よく冷却される。
特開2010-242217号公報
しかしながら、外周面が鏡面になるほどの加工を施すと、外周面とフィルムとの間の密着力が過剰になり、外周面とフィルムとの間に働く摩擦力が大きくなる可能性がある。さらに、成膜源から放たれた材料の熱量が大きいと、フィルムが材料から受けた熱の影響によって外周面上で伸びようとする。しかし、外周面とフィルムとの間の摩擦力が大きいと、この伸びが抑制されて、外周面上でフィルムに皺が発生してしまう。この結果、巻取式成膜の信頼性が低下してしまう。
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、巻取式成膜の信頼性を向上させた巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る巻取式成膜装置は、巻出ローラから繰り出され巻取ローラによって巻き取られるフィルムの成膜面に膜を形成する巻取式成膜装置である。
主ローラは、上記成膜面とは反対側の上記フィルムの非成膜面に当接する外周面を有し、上記外周面の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成されている。
成膜源は、上記非成膜面に当接する上記主ローラの上記外周面に対向する。
このような巻取式成膜装置によれば、主ローラによってフィルムが確実に支持され、フィルムが成膜源からの熱の影響を受けたとしても、フィルムには、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。
上記の巻取式成膜装置においては、上記主ローラの上記外周面は、ブラスト加工面を有してもよい。
このような巻取式成膜装置によれば、主ローラの外周面がブラスト加工面を有するため、主ローラによってフィルムが確実に支持され、フィルムが成膜源からの熱の影響を受けたとしても、フィルムには、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。
上記の巻取式成膜装置においては、上記主ローラの上記外周面に、厚みが1μm以上200μm以下の樹脂層に、平均粒径が0.1μm以上10μm以下の粉末粒子が分散された層が設けられてもよい。
このような巻取式成膜装置によれば、主ローラの外周面が上記層で形成されているため、主ローラによってフィルムが確実に支持され、フィルムが成膜源からの熱の影響を受けたとしても、フィルムには、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。
上記の巻取式成膜装置においては、上記主ローラは、180°以上330°以下の巻付角度で上記フィルムを巻回してもよい。
このような巻取式成膜装置によれば、主ローラが180°以上330°以下の巻付角度でフィルムを巻回するため、主ローラによってフィルムが確実に支持される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る巻取式成膜方法は、巻出ローラから繰り出され巻取ローラによって巻き取られるフィルムの成膜面に膜を形成する巻取式成膜方法である。
上記成膜面とは反対側の上記フィルムの非成膜面に当接する外周面を有し、上記外周面の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成された主ローラが用いられて、上記非成膜面に当接する上記主ローラの上記外周面に成膜源を対向させて上記成膜面に上記膜が形成される。
このような巻取式成膜方法によれば、主ローラによってフィルムが確実に支持され、フィルムが成膜源からの熱の影響を受けたとしても、フィルムには、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。
以上述べたように、本発明によれば、巻取式成膜の信頼性を向上させた巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法が提供される。
図(a)は、本実施形態に係る巻取式成膜装置の模式的断面図である。図(b)は、巻取式成膜装置における主ローラの外周面周辺の様子を説明する模式図である。 図(a)は、図1(b)の破線P1で囲む部分の構成を示す模式的断面図である。図(b)は、破線P1で囲む部分の別の構成を示す模式的断面図である。 巻取式成膜装置の作用の一例を説明する模式的断面図である。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。各図面には、XYZ軸座標が導入される場合がある。また、同一の部材または同一の機能を有する部材には同一の符号を付す場合があり、その部材を説明した後には適宜説明を省略する場合がある。
[巻取式成膜装置]
図1(a)は、本実施形態に係る巻取式成膜装置の模式的断面図である。図1(b)は、巻取式成膜装置における主ローラの外周面周辺の様子を説明する模式図である。
巻取式成膜装置1は、真空容器70内でフィルム60が走行しながら、フィルム60の成膜面60dに金属膜(例えば、リチウム膜)が形成される成膜装置である。巻取式成膜装置1は、例えば、主ローラ10と、成膜源20と、フィルム走行機構30と、仕切板40と、真空容器70とを具備する。
主ローラ10は、鉄、ステンレス鋼、アルミニウム等の金属製の筒状ローラである。主ローラ10は、中心軸C1を中心に回転する。主ローラ10は、フィルム60と、成膜源20との間に配置される。
巻取式成膜装置1の外部には、主ローラ10を回転駆動させる回転駆動機構が設けられている。あるいは、主ローラ10が回転駆動機構を有してもよい。あるいは、主ローラ10は、回転駆動機構によって回転されず、中心軸10cを中心に自由に回転するローラであってもよい。主ローラ10においては、その外周面10sがローラ面となり、外周面10sがフィルム60の成膜面60dとは反対側のフィルム60の非成膜面60rに当接する。
主ローラ10の直径は、特に限定されることなく、例えば、10mm以上1500mm以下である。主ローラ10のX軸方向における長さは、フィルム60の幅以下に構成される。例えば、主ローラ10の長さは、特に限定されることなく、例えば、50mm以上2000mm以下である。
フィルム60が矢印Aの方向に走行しているとき、例えば、フィルム60に接する主ローラ10は、時計回りに回転する。このとき、外周面10sが中心軸10cを中心に動く速度(接線速度)は、例えば、フィルム60の走行速度と同じ速度に設定される。これにより、フィルム60の走行中には、外周面10sとフィルム60との間でずれが起きにくく、成膜面60dに安定して膜を形成することができる。
本実施形態においては、主ローラ10の内部には、外周面10sの温度を調節する温調媒体循環系等の温調機構が設けられてもよい。温調機構は、例えば、温調媒体循環系等の温調機構である。なお、主ローラ10が成膜源20から熱を受けたとしても、主ローラ10は、中心軸10cを中心に回転しているため、主ローラ10の外周面10sの温度は、均一の温度に保たれている。
成膜源20は、溶融容器21(坩堝)を有する。成膜源20は、主ローラ10の外周面10sに対向する。溶融容器21には、例えば、リチウム(Li)等の蒸着材料25が収容される。蒸着材料25は、例えば、溶融容器21内において抵抗加熱、誘導加熱、電子ビーム加熱等の手法によって溶融される。
フィルム走行機構30は、巻出ローラ31と、巻取ローラ32と、ガイドローラ33a、33b、33c、33dとを有する。巻取式成膜装置1の外部には、巻出ローラ31及び巻取ローラ32を回転駆動させる回転駆動機構が設けられている。あるいは、巻出ローラ31及び巻取ローラ32のそれぞれが回転駆動機構を有してもよい。
フィルム60は、予め巻出ローラ31に巻かれ、巻出ローラ31から繰り出される。この後、フィルム60には、成膜処理が施され、フィルム60は、巻取ローラ32によって巻き取られる。
例えば、巻出ローラ31から連続的に繰り出されたフィルム60は、走行中にガイドローラ33a、33bによって支持されつつ、ガイドローラ33a、33bのそれぞれによって走行方向が変えられ、主ローラ10に巻回される。フィルム60を巻回する主ローラ10の巻付角度θ1は、特に限定されることなく、例えば、180°以上330°以下である。
主ローラ10に巻回されたフィルム60は、主ローラ10の外周面10sに接触しながら、主ローラ10によって支持されて、ガイドローラ33cに導かれる。
主ローラ10の外周面10sから離れたフィルム60は、走行中にガイドローラ33c、33dに支持されつつ、ガイドローラ33c、33dのそれぞれによって走行方向が変えられ、巻取ローラ32に連続的に巻き取られる。ここで、主ローラ10の外周面10sに支持されたフィルム60の張力は、張力(N)/フィルム幅(mm)の値が0.1(N/mm)以上1.0(N/mm)以下に設定されている。
仕切板40は、成膜源20と主ローラ10との間に配置される。仕切板40には、成膜源20を主ローラ10の外周面10sに向けて開口する開口41が設けられている。主ローラ10の回転方向Rにおける開口41の幅W1を底辺とし、主ローラ10の中心(中心軸10c)を頂点とする三角形を想定した場合、三角形の頂角θ2は、特に限定されることなく、例えば、0°より大きく180°以下に構成されている。
ここで、角度θ1から角度θ2を差し引いた角度(θ1-θ2)は、角度θ2よりも大きい((θ1-θ2)>θ2)。
フィルム60は、所謂webであり、所定幅に裁断された長尺のフィルムである。フィルム60は、銅箔、アルミニウム箔、ニッケル箔、ステンレス箔、樹脂フィルムの少なくともいずれかを含む。フィルム60の厚みは、特に限定されることなく、例えば、1μm以上500μm以下である。
真空容器70は、主ローラ10、成膜源20、フィルム走行機構30、仕切板40、及びフィルム60等を収容する。真空容器70は、減圧状態を維持することができ、例えば、真空ポンプ等の真空排気系(不図示)に接続された排気管71を通じて、その内部が所定の真空度に維持される。
または、真空容器70内には、ガス供給機構72によって乾燥空気、不活性ガス(Ar、He等)、二酸化炭素(CO)、窒素等の少なくともいずれかのガスが供給されてもよい。
また、本実施形態においては、リチウム以外に、インジウム(In)、亜鉛(Zn)、錫(Sn)、ガリウム(Ga)、ビスマス(Bi)、ナトリウム(Na)、及びカリウム(K)等の少なくともいずれかが溶融容器21内に収容されてもよい。
図2(a)は、図1(b)の破線P1で囲む部分の構成を示す模式的断面図である。図2(b)は、破線P1で囲む部分の別の構成を示す模式的断面図である。図2(a)及び図2(b)の構成は、独立した構成とは限らず、互いの構成を複合させてもよい。
図2(a)に示すように、主ローラ10の外周面10sには、樹脂層102に粉末粒子103が分散された層101が設けられている。層101の厚みは、特に限定されることなく、例えば、1μm以上200μm以下である。粉末粒子103の平均粒径は、特に限定されることなく、例えば、0.1μm以上10μm以下である。粉末粒子103の平均粒径は、例えば、レーザ回折散乱法等で測定される。例えば、測定分布のピーク値が平均粒径とされる。
粉末粒子103は、特に限定されることなく、例えば、0.1wt%以上50wt%以下で樹脂層102に含有されている。本実施形態では、層101を主ローラ10に含めて、層101の外周面101sを主ローラ10の外周面としてもよい。
樹脂層102は、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、炭素系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等の少なくとも1つを含む。粉末粒子103は、シリカ、マグネシア、チタニア、アルミナ等の少なくとも1つを含む。
または、主ローラ10の外周面10sには、層101が設けられることなく、図2(b)に示すように、外周面10sが凸凹構造を有してもよい。例えば、外周面10sには、アルミナ粒子、ガラス粒子等によってブラスト加工が施されたブラスト加工面が施されている。
このような、外周面101s及び外周面10sの算術平均粗さRaは、特に限定されることなく、例えば、10μm以上300μm以下に構成されている。
本実施形態では、このような主ローラ10を用いて、フィルム60の成膜面60dに膜を形成する巻取式成膜方法も提供される。
[作用]
図3は、巻取式成膜装置の作用の一例を説明する模式的断面図である。
図3では、主ローラ10の外周面10sがフィルム60が角度θ2の範囲で主ローラ10に接する領域110と、フィルム60が角度θ2を除く角度θ1の範囲で主ローラ10に接する領域120とに分けられた状態が示されている。主ローラ10が回転しても、領域110、120のそれぞれの位置は、固定である。
外周面10sが鏡面になるほどの加工を施すと、外周面10sとフィルム60との間に働く摩擦力が大きくなり、成膜中、蒸着材料25を受容したフィルム60の伸びが抑制される。これにより、外周面10s上でフィルム60に皺が発生する可能性がある。
これにより、例えば、外周面10sの領域110では、フィルム60の一部が外周面10sから浮いてしまい、浮いた部分が主ローラ10によって充分に冷却されなくなったり、あるいは、フィルム60に入射する蒸着材料25の入射角度がフィルム60の場所によって変わったりしてしまう。この結果、均一な厚みの膜がフィルム60に形成されなくなる可能性がある。
これに対して本実施形態では、外周面10s(または、外周面101s)の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成されている。
このため、領域110でフィルム60の伸びたとしても、その伸びは抑制されず、フィルム60が領域110では外周面10sに沿って自由に膨脹する。これにより、領域110ではフィルム60に皺が発生しにくくなる。この結果、均一な厚みの膜がフィルム60に形成される。ここで、外周面10s(または、外周面101s)の算術平均粗さRaが10μmよりも小さくなると、領域110でフィルム60の伸びが抑制されるので好ましくない。
一方、主ローラ10において、角度(θ1-θ2)は、角度θ2よりも大きく構成されている。このため、領域120の面積は、領域110の面積よりも圧倒的に大きくなり、フィルム60は、主ローラ10とは領域120において大きな接触面積を有することになる。ここで、巻付角度θ1が180°より小さくなると、フィルム60と主ローラ10との充分な接触面積が取れなくなり、好ましくない。
これにより、領域120においては、フィルム60と外周面10sとがずれにくく、フィルム60は、主ローラ10に支持されつつ、ガイドローラ33bからガイドローラ33cにまで搬送されることになる。ここで、外周面10s(または、外周面101s)の算術平均粗さRaが300μmよりも大きくなると、領域120でもフィルム60と外周面10sのずれが起きやすくなり好ましくない。
このように、本実施形態によれば、主ローラ10によってフィルム60が確実に支持され、フィルム60が成膜源20からの熱の影響を受けたとしても、フィルム60には、均一な厚みの膜が形成される。すなわち、巻取式成膜の信頼性が向上する。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく種々変更を加え得ることは勿論である。各実施形態は、独立の形態とは限らず、技術的に可能な限り複合することができる。
1…巻取式成膜装置
10…主ローラ
10c…中心軸
10s、101s…外周面
20…成膜源
21…溶融容器
25…蒸着材料
30…フィルム走行機構
31…巻出ローラ
32…巻取ローラ
33a、33b、33c、33d…ガイドローラ
40…仕切板
41…開口
60…フィルム
60d…成膜面
60r…非成膜面
70…真空容器
71…排気管
72…ガス供給機構
101…層
102…樹脂層
103…粉末粒子
110、120…領域

Claims (4)

  1. 巻出ローラから繰り出され巻取ローラによって巻き取られるフィルムの成膜面に膜を形成する巻取式成膜装置であって、
    前記成膜面とは反対側の前記フィルムの非成膜面に当接する外周面を有し、前記外周面の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成された主ローラと、
    前記非成膜面に当接する前記主ローラの前記外周面に対向する成膜源と
    を具備し、
    前記主ローラの前記外周面に、厚みが1μm以上200μm以下の樹脂層に、平均粒径が0.1μm以上10μm以下の粉末粒子が分散された層が設けられている
    巻取式成膜装置。
  2. 請求項1に記載の巻取式成膜装置であって、
    前記主ローラの前記外周面は、ブラスト加工面を有する
    巻取式成膜装置。
  3. 請求項1または2に記載の巻取式成膜装置であって、
    前記主ローラは、180°以上330°以下の巻付角度で前記フィルムを巻回する
    巻取式成膜装置。
  4. 巻出ローラから繰り出され巻取ローラによって巻き取られるフィルムの成膜面に膜を形成する巻取式成膜方法であって、
    前記成膜面とは反対側の前記フィルムの非成膜面に当接する外周面を有し、前記外周面の算術平均粗さRaが10μm以上300μm以下に構成され、前記外周面に、厚みが1μm以上200μm以下の樹脂層に、平均粒径が0.1μm以上10μm以下の粉末粒子が分散された層が設けられた主ローラを用いて、
    前記非成膜面に当接する前記主ローラの前記外周面に成膜源を対向させて前記成膜面に前記膜を形成する
    巻取式成膜方法。
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