JPS61289533A - 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法およびその装置Info
- Publication number
- JPS61289533A JPS61289533A JP13262585A JP13262585A JPS61289533A JP S61289533 A JPS61289533 A JP S61289533A JP 13262585 A JP13262585 A JP 13262585A JP 13262585 A JP13262585 A JP 13262585A JP S61289533 A JPS61289533 A JP S61289533A
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- JP
- Japan
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- cylindrical
- support
- coarseness
- point average
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒
体の製造方法およびその実施に使用する装置に関し、さ
らに詳しくは、しわのない前記の磁気記録媒体を製造す
る方法およびその実施に使用する装置に関する。
体の製造方法およびその実施に使用する装置に関し、さ
らに詳しくは、しわのない前記の磁気記録媒体を製造す
る方法およびその実施に使用する装置に関する。
強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体は、通常
、ポリエステルフィルムなどの支持体を真空槽内に配設
したガイドロール等を介して円筒状キャンの周側面に沿
って案内走行させ、この支持体上に強磁性材を真空蒸着
するなどしてつくられており、支持体は電気的特性を良
好にするためその表面を可及的に平滑にしたものが使用
され、また円筒状キャンは真空蒸着時の支持体の密着性
を良好にして支持体の温度を良好に制御できるように、
通常表面粗度が１０点平均粗さで０．１μｍ未満の極め
て平滑性の良好なものが使用されている。（特開昭５７
−１６４４３８号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、とのように可及的に平滑な支持体を使用し、
また表面粗度が１０点平均粗さで０．１μｍ未満の極め
て表面が平滑な円筒状キャンを使用する従来の方法では
、両者とも平滑性が極めて良好なため、支持体を円筒状
キャンの周側面に沿って移動する際、支持体が円筒状キ
ャンに張りついたりして滑りに＜＜、一方、支持体への
蒸着は、通常、−２０℃程度に冷却された円筒状キャン
の周側面に沿って移動する支持体に、２０００℃前後の
温度で加熱して蒸発させた強磁性材の蒸気流を差し向け
て行われるため、支持体が円筒状キャンの周側面に沿っ
て移動する間に加熱されたり冷却されたりして伸縮し、
その結果、円筒状キャンに張りついたりして滑りにくい
支持体に歪みが生じて、しわが発生しやすい。
、ポリエステルフィルムなどの支持体を真空槽内に配設
したガイドロール等を介して円筒状キャンの周側面に沿
って案内走行させ、この支持体上に強磁性材を真空蒸着
するなどしてつくられており、支持体は電気的特性を良
好にするためその表面を可及的に平滑にしたものが使用
され、また円筒状キャンは真空蒸着時の支持体の密着性
を良好にして支持体の温度を良好に制御できるように、
通常表面粗度が１０点平均粗さで０．１μｍ未満の極め
て平滑性の良好なものが使用されている。（特開昭５７
−１６４４３８号） 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、とのように可及的に平滑な支持体を使用し、
また表面粗度が１０点平均粗さで０．１μｍ未満の極め
て表面が平滑な円筒状キャンを使用する従来の方法では
、両者とも平滑性が極めて良好なため、支持体を円筒状
キャンの周側面に沿って移動する際、支持体が円筒状キ
ャンに張りついたりして滑りに＜＜、一方、支持体への
蒸着は、通常、−２０℃程度に冷却された円筒状キャン
の周側面に沿って移動する支持体に、２０００℃前後の
温度で加熱して蒸発させた強磁性材の蒸気流を差し向け
て行われるため、支持体が円筒状キャンの周側面に沿っ
て移動する間に加熱されたり冷却されたりして伸縮し、
その結果、円筒状キャンに張りついたりして滑りにくい
支持体に歪みが生じて、しわが発生しやすい。
この発明はかかる現状に鑑み、種々検討を行った結果な
されたもので、円筒状キャンの表面平滑性を比較的粗く
し、真空槽内で、円筒状キャンの周側面に沿って移動す
る支持体を滑りやすくすることによって、この円筒状キ
ャンの周側面を移動する支持体に、強磁性材供給源から
ガス化した強磁性材を差し向けて強磁性金属薄膜層を形
成する際、支持体に伸縮が生じても、良好な滑りが生じ
て支持体に歪みが生じないようにし、しわの発生を良好
に抑制したものである。
されたもので、円筒状キャンの表面平滑性を比較的粗く
し、真空槽内で、円筒状キャンの周側面に沿って移動す
る支持体を滑りやすくすることによって、この円筒状キ
ャンの周側面を移動する支持体に、強磁性材供給源から
ガス化した強磁性材を差し向けて強磁性金属薄膜層を形
成する際、支持体に伸縮が生じても、良好な滑りが生じ
て支持体に歪みが生じないようにし、しわの発生を良好
に抑制したものである。
以下、図面を参照しながらこの発明について説明する。
第１図は真空蒸着装置の断面図を示したものであり、１
は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系２によって真空
に保持される。３は真空槽１の中央部に配設された円筒
状キャンであり、ポリエステルフィルム等の支持体４は
、原反ロール５よりガイドロール６および７を介してこ
の円筒状キャン３の周側面に沿って移動し、ガイドロー
ル８および９を介して巻き取りロール１０に巻き取られ
る。この間円筒状キャン３の周側面に沿って移動する支
持体４に対向して真空槽ｌの下部に配設された強磁性材
蒸発源１１で強磁性材１２が加熱蒸発され、この蒸気流
が防着板１３の作用により支持体４に斜め方向に差し向
けられて斜め入射蒸着が行われる。
は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系２によって真空
に保持される。３は真空槽１の中央部に配設された円筒
状キャンであり、ポリエステルフィルム等の支持体４は
、原反ロール５よりガイドロール６および７を介してこ
の円筒状キャン３の周側面に沿って移動し、ガイドロー
ル８および９を介して巻き取りロール１０に巻き取られ
る。この間円筒状キャン３の周側面に沿って移動する支
持体４に対向して真空槽ｌの下部に配設された強磁性材
蒸発源１１で強磁性材１２が加熱蒸発され、この蒸気流
が防着板１３の作用により支持体４に斜め方向に差し向
けられて斜め入射蒸着が行われる。
ここで円筒状キャン３は、表面の粗さが１０点平均粗さ
で０．１μｍ以上のものが好ましく使用され、このよう
な比較的表面が粗い円筒状キャン３を使用すると、支持
体４がこの円筒状キャン３の周側面に沿って移動する際
、滑りやす（なり、蒸着時に差し向けられる強磁性材１
２の蒸気流による加熱あるいは円筒状キャン３による冷
却によって、支持体４が伸縮しても歪みが生ぜず、支持
体４にしわが生じることもない、これに対し、円筒状キ
ャン３の表面粗度が、１０点平均粗さで０．１μｍより
小さいものでは、支持体４が滑りにくくなり、円筒状キ
ャン３に沿って移動する間に伸縮する支持体４に歪みが
生じて、しわが発生しやすくなる。また、円筒状キャン
３の表面粗度は粗いほど支持体４が滑りやすくなるが、
表面粗度を１０点平均粗さで１０μｍより大きくすると
、粗くなりすぎて冷却された円筒状キャンへの密着性が
悪くなり、支持体の冷却が良好に行われずに支持体が蒸
発源からの輻射熱によって熱損傷を引き起こす場合があ
るため、円筒状キャン３の表面粗度は１０点平均粗さで
０．１〜１０μｍの範囲内にするのが好ましい。
で０．１μｍ以上のものが好ましく使用され、このよう
な比較的表面が粗い円筒状キャン３を使用すると、支持
体４がこの円筒状キャン３の周側面に沿って移動する際
、滑りやす（なり、蒸着時に差し向けられる強磁性材１
２の蒸気流による加熱あるいは円筒状キャン３による冷
却によって、支持体４が伸縮しても歪みが生ぜず、支持
体４にしわが生じることもない、これに対し、円筒状キ
ャン３の表面粗度が、１０点平均粗さで０．１μｍより
小さいものでは、支持体４が滑りにくくなり、円筒状キ
ャン３に沿って移動する間に伸縮する支持体４に歪みが
生じて、しわが発生しやすくなる。また、円筒状キャン
３の表面粗度は粗いほど支持体４が滑りやすくなるが、
表面粗度を１０点平均粗さで１０μｍより大きくすると
、粗くなりすぎて冷却された円筒状キャンへの密着性が
悪くなり、支持体の冷却が良好に行われずに支持体が蒸
発源からの輻射熱によって熱損傷を引き起こす場合があ
るため、円筒状キャン３の表面粗度は１０点平均粗さで
０．１〜１０μｍの範囲内にするのが好ましい。
このような、表面粗度が１０点平均粗さで０．１〜１０
μｍの円筒状キャン３としては、鉄またはアルミニウム
製のロールの表面に、硬質クロムメッキ、あるいは硬質
ニッケルメッキを施して表面粗度を前記の範囲内に調整
したもの、ステンレス製ロールの表面を窒化するか、あ
るいは鉄、アルミニウムまたはステンレス製ロールの表
面に窒化チタン、炭化チタン等の窒化物をコーティング
して表面粗度を前記の範囲内に調整したもの等が好適な
ものとして使用される。
μｍの円筒状キャン３としては、鉄またはアルミニウム
製のロールの表面に、硬質クロムメッキ、あるいは硬質
ニッケルメッキを施して表面粗度を前記の範囲内に調整
したもの、ステンレス製ロールの表面を窒化するか、あ
るいは鉄、アルミニウムまたはステンレス製ロールの表
面に窒化チタン、炭化チタン等の窒化物をコーティング
して表面粗度を前記の範囲内に調整したもの等が好適な
ものとして使用される。
強磁性金属薄膜層を形成する支持体としては、ポリエス
テル、ポリイミド、ポリアミド等一般に使用されている
高分子成形物からなるプラスチックフィルムおよび銅な
どの非磁性金属板が使用され、強磁性金属薄膜層の形成
は、真空蒸着の他、スパッタリングおよびイオンブレー
ティング等の手段によっても行われる。
テル、ポリイミド、ポリアミド等一般に使用されている
高分子成形物からなるプラスチックフィルムおよび銅な
どの非磁性金属板が使用され、強磁性金属薄膜層の形成
は、真空蒸着の他、スパッタリングおよびイオンブレー
ティング等の手段によっても行われる。
また強磁性材としては、コバルト、ニッケル、鉄などの
金属単体の他、これらの合金あるいは酸化物、およびＣ
ｏ−ＰＳＣｏ−Ｎｊ−Ｐなど一般に使用される強磁性材
が広く使用される。
金属単体の他、これらの合金あるいは酸化物、およびＣ
ｏ−ＰＳＣｏ−Ｎｊ−Ｐなど一般に使用される強磁性材
が広く使用される。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１〜５
第１図に示すように表面粗度がそれぞれ下記第１表に示
すように異なる円筒状キャン３を配設した真空蒸着装置
を使用し、厚さが１１μｍ、幅が１２５ｍｍで表面粗度
が０．１μｍのポリエステルフィルム４を原反ロール５
よりガイドロール６および７を介して円筒状キャン３の
周側面に沿って移動させ、ガイドロール８および９を介
して巻き取りロール１０に巻き取るようにセットすると
ともに強磁性材蒸発源１１にコバルト−ニッケル合金（
重量比８５：１５）１２をセットした。次いで、排気系
２で真空槽ｌ内を５×１０”５トールにまで真空排気し
、ポリエステルフィルム４の送り速度１０ｍ／■ｉｎ
、円筒状キャン３の表面温度−２０℃で、コバルト−ニ
ッケル合金１２を加熱蒸発させてポリエステルフィルム
４上に厚さが０．１２μｍのコバルト−ニッケル合金か
らなる強磁性金属薄膜層を形成した。
すように異なる円筒状キャン３を配設した真空蒸着装置
を使用し、厚さが１１μｍ、幅が１２５ｍｍで表面粗度
が０．１μｍのポリエステルフィルム４を原反ロール５
よりガイドロール６および７を介して円筒状キャン３の
周側面に沿って移動させ、ガイドロール８および９を介
して巻き取りロール１０に巻き取るようにセットすると
ともに強磁性材蒸発源１１にコバルト−ニッケル合金（
重量比８５：１５）１２をセットした。次いで、排気系
２で真空槽ｌ内を５×１０”５トールにまで真空排気し
、ポリエステルフィルム４の送り速度１０ｍ／■ｉｎ
、円筒状キャン３の表面温度−２０℃で、コバルト−ニ
ッケル合金１２を加熱蒸発させてポリエステルフィルム
４上に厚さが０．１２μｍのコバルト−ニッケル合金か
らなる強磁性金属薄膜層を形成した。
実施例１ないし５で得られた磁気記録媒体について、し
わの発生状況を観察した。
わの発生状況を観察した。
下記第１表はその結果である。
第１表
〔発明の効果〕
上記第１表から明らかなように、円筒状キャンの表面粗
度が１０点平均粗さで０．１μｍより小さい（実施例５
）と、しわの発生が認められるが、１０点平均粗さで０
．１μｍ以上になる（実施例１〜４）と、しわの発生が
認められず、このことがらこの発明の製造方法および装
置によれば、支持体が円筒状キャンの周側面を良好に滑
りながら移動し、しわの発生が良好に抑制されることが
わかる。
度が１０点平均粗さで０．１μｍより小さい（実施例５
）と、しわの発生が認められるが、１０点平均粗さで０
．１μｍ以上になる（実施例１〜４）と、しわの発生が
認められず、このことがらこの発明の製造方法および装
置によれば、支持体が円筒状キャンの周側面を良好に滑
りながら移動し、しわの発生が良好に抑制されることが
わかる。
第１図はこの発明の製造方法を実施するために使用する
真空蒸着装置の１例を示す概略断面図である。 １・・・真空槽、３・・・円筒状キャン、４・・・支持
体、１１・・・強磁性材蒸発源、１２・・・強磁性材、
第１図
真空蒸着装置の１例を示す概略断面図である。 １・・・真空槽、３・・・円筒状キャン、４・・・支持
体、１１・・・強磁性材蒸発源、１２・・・強磁性材、
第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空槽内に、表面粗度が１０点平均粗さで０．１μ
ｍ以上の円筒状キャンを配設し、この円筒状キャンの周
側面に沿って移動する支持体に、強磁性材供給源からガ
ス化した強磁性材を差し向けて強磁性金属薄膜層を形成
することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法 ２、真空槽内に、表面粗度が１０点平均粗さで０．１μ
ｍ以上の円筒状キャンと、この円筒状キャンの周側面に
沿って移動する支持体に対向する強磁性材供給源とを配
設してなる磁気記録媒体製造装置
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13262585A JPS61289533A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 |
| EP86107229A EP0203582B1 (en) | 1985-05-31 | 1986-05-28 | Method and apparatus for making magnetic recording medium |
| EP19900103992 EP0387619A3 (en) | 1985-05-31 | 1986-05-28 | Method of and apparatus for making magnetic recording medium |
| DE8686107229T DE3678337D1 (de) | 1985-05-31 | 1986-05-28 | Methode und apparat zur herstellung von magnetischen aufzeichnungstraegern. |
| US07/193,181 US4847109A (en) | 1985-05-31 | 1988-05-10 | Method of a making magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13262585A JPS61289533A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61289533A true JPS61289533A (ja) | 1986-12-19 |
Family
ID=15085696
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13262585A Pending JPS61289533A (ja) | 1985-05-31 | 1985-06-17 | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61289533A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011094221A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 長尺耐熱性樹脂フィルムの成膜方法と金属膜付耐熱性樹脂フィルムの製造装置 |
| JP2016117938A (ja) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺フィルムの搬送および冷却用ロール、ならびに該ロールを搭載した長尺フィルムの処理装置 |
| JP2020183563A (ja) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | 株式会社アルバック | 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 |
-
1985
- 1985-06-17 JP JP13262585A patent/JPS61289533A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011094221A (ja) * | 2009-11-02 | 2011-05-12 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 長尺耐熱性樹脂フィルムの成膜方法と金属膜付耐熱性樹脂フィルムの製造装置 |
| JP2016117938A (ja) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | 住友金属鉱山株式会社 | 長尺フィルムの搬送および冷却用ロール、ならびに該ロールを搭載した長尺フィルムの処理装置 |
| JP2020183563A (ja) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | 株式会社アルバック | 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 |
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