JPS59172164A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS59172164A JPS59172164A JP4642083A JP4642083A JPS59172164A JP S59172164 A JPS59172164 A JP S59172164A JP 4642083 A JP4642083 A JP 4642083A JP 4642083 A JP4642083 A JP 4642083A JP S59172164 A JPS59172164 A JP S59172164A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- drum
- cooling drum
- vacuum
- recording medium
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒
体の製造方法に関し、その目的とするところは磁気特性
の均一性に優れた前記の磁気記録媒体の製造方法を提供
することにある。
体の製造方法に関し、その目的とするところは磁気特性
の均一性に優れた前記の磁気記録媒体の製造方法を提供
することにある。
強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体は、通常
、ポリエステルベースフィルムなどの基板を真空槽内に
取りつけた円筒状の冷却ドラムの周側面に沿って移動さ
せ、この基板に強磁性材を真空蒸着あるいはスパッタリ
ングすることによってつくられており、冷却ドラムとし
ては一般にドラム本体がステンレススチール製でその外
周面にクロムメッキを施したものが使用されている。
、ポリエステルベースフィルムなどの基板を真空槽内に
取りつけた円筒状の冷却ドラムの周側面に沿って移動さ
せ、この基板に強磁性材を真空蒸着あるいはスパッタリ
ングすることによってつくられており、冷却ドラムとし
ては一般にドラム本体がステンレススチール製でその外
周面にクロムメッキを施したものが使用されている。
ところがステンレススチールは熱伝導率が０．０６ｃａ
ｌ ７ｃｍ−ｓｅｃ−ｄｅｇと小さく熱伝導性に劣るた
め、冷却ドラムの表面と内面とで大きな温度差が生じ、
また真空蒸着等にお□ける蒸着初期と長時間蒸着後とで
は冷却ドラムの表面温度が異なり、蒸着形成される強磁
性金属薄膜層の物性や形状に差が生じるという難点があ
り、このような蒸着等によって得られる磁性金属薄膜型
磁気記録媒体はまだ磁気特性が充分に均一なものは得ら
れていない。
ｌ ７ｃｍ−ｓｅｃ−ｄｅｇと小さく熱伝導性に劣るた
め、冷却ドラムの表面と内面とで大きな温度差が生じ、
また真空蒸着等にお□ける蒸着初期と長時間蒸着後とで
は冷却ドラムの表面温度が異なり、蒸着形成される強磁
性金属薄膜層の物性や形状に差が生じるという難点があ
り、このような蒸着等によって得られる磁性金属薄膜型
磁気記録媒体はまだ磁気特性が充分に均一なものは得ら
れていない。
この発明はかかる欠点を解消するため種々検討を行った
結果なされたもので、冷却ドラムとしてドラム本体が銅
製でその外周面にクロムメッキもしくはニッケルメッキ
とクロムメッキの２Ｎメツキを施してなる冷′却ドラム
を使用し、これを真空槽内に配設して真空蒸着あるいは
スパッタリング等を行うことによって所期の目的を達成
したものである。
結果なされたもので、冷却ドラムとしてドラム本体が銅
製でその外周面にクロムメッキもしくはニッケルメッキ
とクロムメッキの２Ｎメツキを施してなる冷′却ドラム
を使用し、これを真空槽内に配設して真空蒸着あるいは
スパッタリング等を行うことによって所期の目的を達成
したものである。
この発明によれば、ドラム本体として熱伝導率が０．９
８９ｃａｌ ７ｃｍ、ｓｅｃ、ｄｅｇという非常に大き
な熱伝導率を有する銅を用いているため、非常に熱伝導
性がよくて冷却ドラムの表面と内面とで大きな温度差が
生じたり、真空蒸着等における蒸着初期と長時間蒸着後
とで冷却ドラムの表面温度が異なるということもなく、
従って蒸着形成される強磁性金属薄膜層の物性や形状は
均一になり、磁気特性が充分に均一な強磁性金属薄膜型
硼気記磁気体が得られる。また、冷却ドラムが銅のみで
構成されていると表面が柔らかくて傷つき易いという欠
点があるが、この欠点を補うため銅製のドラム本体外周
面にクロムメッキもしくはニッケルメッキとクロムメッ
キの２層メッキが施されているため、冷却ドラム表面が
硬くなって傷つき易いということもなく、またこの表面
のクロムメッキ層によって摩擦係数も小さくなる。
８９ｃａｌ ７ｃｍ、ｓｅｃ、ｄｅｇという非常に大き
な熱伝導率を有する銅を用いているため、非常に熱伝導
性がよくて冷却ドラムの表面と内面とで大きな温度差が
生じたり、真空蒸着等における蒸着初期と長時間蒸着後
とで冷却ドラムの表面温度が異なるということもなく、
従って蒸着形成される強磁性金属薄膜層の物性や形状は
均一になり、磁気特性が充分に均一な強磁性金属薄膜型
硼気記磁気体が得られる。また、冷却ドラムが銅のみで
構成されていると表面が柔らかくて傷つき易いという欠
点があるが、この欠点を補うため銅製のドラム本体外周
面にクロムメッキもしくはニッケルメッキとクロムメッ
キの２層メッキが施されているため、冷却ドラム表面が
硬くなって傷つき易いということもなく、またこの表面
のクロムメッキ層によって摩擦係数も小さくなる。
以下、図面を参照しながらこの発明について説明する。
第１図は真空蒸着装置の断面図を示したもので□ あり
、１は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系２により排
気されて真空に保持される。３は真空槽１の中央部に配
設されたドラム本体が銅製でその外周面にクロムメッキ
もしくは二・νケルメッキとクロムメッキの２層メッキ
が施された冷却ドラムであり、ポリエステルフィルム等
の基板４は原反ロール５よりこの冷却ドラム３の周側面
に沿って移動し、巻き取りロール６に巻き取られる。こ
の間冷却ドラム３の周側面に沿って移動する基板４に対
向して真空槽１の下底に配設された強磁性材蒸発源７で
強磁性材８が熱電子源９の加熱により加熱蒸発され、こ
の蒸気流が基板４に差し向けられて防着板１０の作用に
より斜め入射蒸着が行われる。
、１は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系２により排
気されて真空に保持される。３は真空槽１の中央部に配
設されたドラム本体が銅製でその外周面にクロムメッキ
もしくは二・νケルメッキとクロムメッキの２層メッキ
が施された冷却ドラムであり、ポリエステルフィルム等
の基板４は原反ロール５よりこの冷却ドラム３の周側面
に沿って移動し、巻き取りロール６に巻き取られる。こ
の間冷却ドラム３の周側面に沿って移動する基板４に対
向して真空槽１の下底に配設された強磁性材蒸発源７で
強磁性材８が熱電子源９の加熱により加熱蒸発され、こ
の蒸気流が基板４に差し向けられて防着板１０の作用に
より斜め入射蒸着が行われる。
このように、この発明において真空槽１の中央部に配設
される冷却ドラム３は、第２図の断面図に示すように、
銅製のドラム本体３１の外周面にクロムメッキを施して
クロムメッキ１ｉｆ３２を形成したものか、あるいは第
３図の断面図に示すように、＃ｒ４製のドラム本体３Ｉ
の外周面にニッケルメッキとクロムメッキの２層メッキ
を施してニッケルメッキ層３３およびクロムメッキ層３
４を形成したものであることが好ましく、このようなり
ロムメッキもしくはニッケルメッキとクロムメッキの２
層メッキが外周面に施されないと銅製のドラム表面が柔
らかくて傷つき易く、傷に起因して磁気特性に悪影響を
及ぼすおそれがある。このようなドラム本体３１の外周
面に施されるクロムメッキ層３２の厚さおよびニッケル
メッキ層３３とクロムメッキ層３４の合計厚さは銅製の
ドラム本体に傷がつくのを充分に防止するため２０〜１
５０μの範囲内であることが好ましい。このようにドラ
ム本体が銅製で、その外周面にクロムメッキもしくはニ
ッケルメッキとクロムメッキの２層メッキが施された冷
却ドラム３が真空槽１の中央部に配設されて使用される
と、従来のステンレススチール製のものに比べて熱伝導
性がはるかに良好なため蒸着初期と長時間蒸着後とで冷
却ドラムの表面温度が異なるということもなく、またク
ロムメッキもしくはニッケルメッキとクロムメッキの２
層メッキによりドラム表面も硬くなって傷つき易いとい
うこともなく、磁気特性の均一性に優れた強磁性金Ｎ薄
膜型磁気記録媒体が得られる。
される冷却ドラム３は、第２図の断面図に示すように、
銅製のドラム本体３１の外周面にクロムメッキを施して
クロムメッキ１ｉｆ３２を形成したものか、あるいは第
３図の断面図に示すように、＃ｒ４製のドラム本体３Ｉ
の外周面にニッケルメッキとクロムメッキの２層メッキ
を施してニッケルメッキ層３３およびクロムメッキ層３
４を形成したものであることが好ましく、このようなり
ロムメッキもしくはニッケルメッキとクロムメッキの２
層メッキが外周面に施されないと銅製のドラム表面が柔
らかくて傷つき易く、傷に起因して磁気特性に悪影響を
及ぼすおそれがある。このようなドラム本体３１の外周
面に施されるクロムメッキ層３２の厚さおよびニッケル
メッキ層３３とクロムメッキ層３４の合計厚さは銅製の
ドラム本体に傷がつくのを充分に防止するため２０〜１
５０μの範囲内であることが好ましい。このようにドラ
ム本体が銅製で、その外周面にクロムメッキもしくはニ
ッケルメッキとクロムメッキの２層メッキが施された冷
却ドラム３が真空槽１の中央部に配設されて使用される
と、従来のステンレススチール製のものに比べて熱伝導
性がはるかに良好なため蒸着初期と長時間蒸着後とで冷
却ドラムの表面温度が異なるということもなく、またク
ロムメッキもしくはニッケルメッキとクロムメッキの２
層メッキによりドラム表面も硬くなって傷つき易いとい
うこともなく、磁気特性の均一性に優れた強磁性金Ｎ薄
膜型磁気記録媒体が得られる。
基板としては、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミド
等一般に使用さている高分子成形物からなるプラスチッ
クフィルムおよび銅などの非磁性金属が使用され、また
、このような基板上への強磁性金属薄膜層の形成は真空
蒸着の他スパッタリングおよびイオンブレーティング等
の手段によっても行われ、強磁性金属薄膜層の形成材料
としては、コバルト、ニッケル、鉄などの金属単体の他
、これらの合金あるいは酸化物、およびＣｏ−Ｐ。
等一般に使用さている高分子成形物からなるプラスチッ
クフィルムおよび銅などの非磁性金属が使用され、また
、このような基板上への強磁性金属薄膜層の形成は真空
蒸着の他スパッタリングおよびイオンブレーティング等
の手段によっても行われ、強磁性金属薄膜層の形成材料
としては、コバルト、ニッケル、鉄などの金属単体の他
、これらの合金あるいは酸化物、およびＣｏ−Ｐ。
Ｃｏ−Ｎ１−Ｐなど一般に使用される強磁性材がいずれ
も使用される。
も使用される。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１
第１図に示すような真空蒸着装置を使用し、真空槽１の
中央部に、第２図に示すような銅製のドラム３１の外周
面にクロムメッキを施して５０μ厚のクロムメッキ層３
２を形成した冷却ドラム３を配設し、約１０μ厚のポリ
エステルベースフィルム４を、原反ロール５から冷却ド
ラム３の周側面に沿って移動させ、巻き取りロール６に
巻き取るようにセットするとともに、強磁性材蒸発源７
にコバルト−ニッケル合金（重量比８：２）８をセット
した。次いで排気系２で真空槽１内を約５×１０″６ト
ールにまで真空排気し、熱電子源９で強磁性材蒸発源７
内のコバルト−ニッケル合金８を加熱蒸発して真空蒸着
を行い、ポリエステルベースフィルム４上にコバルト−
ニッケル合金からなる厚さが０．１μの強磁性金属薄膜
層を形成して磁気記録媒体をつくった。
中央部に、第２図に示すような銅製のドラム３１の外周
面にクロムメッキを施して５０μ厚のクロムメッキ層３
２を形成した冷却ドラム３を配設し、約１０μ厚のポリ
エステルベースフィルム４を、原反ロール５から冷却ド
ラム３の周側面に沿って移動させ、巻き取りロール６に
巻き取るようにセットするとともに、強磁性材蒸発源７
にコバルト−ニッケル合金（重量比８：２）８をセット
した。次いで排気系２で真空槽１内を約５×１０″６ト
ールにまで真空排気し、熱電子源９で強磁性材蒸発源７
内のコバルト−ニッケル合金８を加熱蒸発して真空蒸着
を行い、ポリエステルベースフィルム４上にコバルト−
ニッケル合金からなる厚さが０．１μの強磁性金属薄膜
層を形成して磁気記録媒体をつくった。
実施例２
実施例１において、外周面にクロムメッキを施した銅製
の冷却ドラムに代えて、第３図に示すような銅製のドラ
ム本体３１の外周面にニッケルメッキとクロムメッキの
２Ｎメツキを施して２０μ厚のニッケルメッキ層３３と
３０μ厚のクロムメッキＮ３４とを形成した冷却ドラム
３を使用した以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体
をつくった。
の冷却ドラムに代えて、第３図に示すような銅製のドラ
ム本体３１の外周面にニッケルメッキとクロムメッキの
２Ｎメツキを施して２０μ厚のニッケルメッキ層３３と
３０μ厚のクロムメッキＮ３４とを形成した冷却ドラム
３を使用した以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体
をつくった。
比較例１
実施例１において、外周面にクロムメッキを施した銅製
の冷却ドラムに代えて、外周面にクロムメッキを施して
３０μ厚のクロムメッキ層を形成したステンレススチー
ル製の冷却ドラムを使用した以外は実施例１と同様にし
て磁気記録媒体をつく った。
の冷却ドラムに代えて、外周面にクロムメッキを施して
３０μ厚のクロムメッキ層を形成したステンレススチー
ル製の冷却ドラムを使用した以外は実施例１と同様にし
て磁気記録媒体をつく った。
各実施例および比較例において、真空蒸着開始時と、真
空蒸着終了直前の冷却ドラムの温度を測定し、また真空
蒸着開始時と、真空蒸着終了直前の磁気記録媒体の保磁
力を測定した。
空蒸着終了直前の冷却ドラムの温度を測定し、また真空
蒸着開始時と、真空蒸着終了直前の磁気記録媒体の保磁
力を測定した。
下表はその結果である。
上表から明らかなように、従来の製造方法によるものは
真空蒸着開始時と終了直前とで冷却ドラムの温度に差が
みられ、保磁力も大きく変動しているのに対し、この発
明の製造方法によるものは真空蒸着開始時と終了直前と
で冷却ドラムの温度差もほとんどなくて保磁力の変動も
小さく、このことからこの発明の製造方法によれば、得
られる磁気記録媒体の磁気特性の均一性が著しく改善さ
０ れることがわかる。
真空蒸着開始時と終了直前とで冷却ドラムの温度に差が
みられ、保磁力も大きく変動しているのに対し、この発
明の製造方法によるものは真空蒸着開始時と終了直前と
で冷却ドラムの温度差もほとんどなくて保磁力の変動も
小さく、このことからこの発明の製造方法によれば、得
られる磁気記録媒体の磁気特性の均一性が著しく改善さ
０ れることがわかる。
第１図はこの発明の製造方法を実施するために使用する
真空蒸着装置の１例を示す概略断面図、第２図および第
３図はこの発明で使用する冷却ドラムの部分拡大断面図
である。 １・・・真空槽、３・・・冷却ドラム、３１・・・ドラ
ム本体、３２．３４・・・クロムメッキ層、３３・・・
ニッケルメッキ層、４・・・基板、７・・・強磁性材蒸
発源、８・・・強磁性材 特許出願人 日立マクセル株式会社
真空蒸着装置の１例を示す概略断面図、第２図および第
３図はこの発明で使用する冷却ドラムの部分拡大断面図
である。 １・・・真空槽、３・・・冷却ドラム、３１・・・ドラ
ム本体、３２．３４・・・クロムメッキ層、３３・・・
ニッケルメッキ層、４・・・基板、７・・・強磁性材蒸
発源、８・・・強磁性材 特許出願人 日立マクセル株式会社
Claims (1)
- １、銅製のドラム本体の外周面にクロムメッキもしくは
ニッケルメッキとクロムメッキの２層メッキを施してな
る冷却ドラムを真空槽内に配設し、この冷却ドラムの周
側面に沿って移動する基板に強磁性材蒸発源から強磁性
材の蒸気流を差し向けて強磁性金属薄膜層を形成するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4642083A JPS59172164A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4642083A JPS59172164A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59172164A true JPS59172164A (ja) | 1984-09-28 |
Family
ID=12746655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4642083A Pending JPS59172164A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59172164A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01298523A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP4642083A patent/JPS59172164A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01298523A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造装置及び磁気記録媒体の製造方法 |
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