JPH0552565B2 - - Google Patents
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- JPH0552565B2 JPH0552565B2 JP58042704A JP4270483A JPH0552565B2 JP H0552565 B2 JPH0552565 B2 JP H0552565B2 JP 58042704 A JP58042704 A JP 58042704A JP 4270483 A JP4270483 A JP 4270483A JP H0552565 B2 JPH0552565 B2 JP H0552565B2
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- JP
- Japan
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- cooling drum
- ferromagnetic material
- circumferential side
- evaporation source
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
この発明は、強磁性金属薄膜層を記録層とする
磁気記録媒体の製造装置に関し、さらに詳しくは
熱変形等を生じることなく高速で能率的に前記の
磁気記録媒体を製造する装置に関する。 〔従来の技術〕 強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体
は、通常、ポリエステルフイルムなどの基板を真
空槽内に取りつけた円筒状の冷却ドラムの周側面
に沿つて移動させ、この基板に強磁性材を真空蒸
着するなどしてつくられている。 〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、従来のこの種の磁気記録媒体の製造
装置においては、真空蒸着時に強磁性材蒸発源か
ら反射される電子が、冷却ドラムの周側面に沿つ
て移動する基板に至り、この電子により基板が加
熱されて、ピンホールやしわなどが発生するとい
う難点がある。 〔課題を解決するための手段〕 この発明はかかる欠点を改善するため種々検討
を行つた結果なされたもので、冷却ドラムの近傍
に、真空蒸着時に強磁性材蒸発源から反射される
電子が基板に至るのを防止する反射電子防止装置
を配設することによつて、強磁性材蒸発源から反
射される電子が基板に至るのを防止し、この電子
による基板の加熱を防止して、ピンホールやしわ
などが発生しないようにしたものである。 以下、図面を参照しながらこの発明について説
明する。 第１図は真空蒸着装置の断面図を示したもので
あり、１は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系
２により真空に保持される。３は真空槽１の中央
部に配設された冷却ドラムであり、ポリエステル
フイルム等の基板４は原反ロール５よりガイドロ
ーラ６を介してこの冷却ドラム３の周側面に沿つ
て移動し、ガイドローラ７を介して巻き取りロー
ル８に巻き取られ、このような基板移送機構によ
つて移動される。この間冷却ドラム３の周側面に
沿つて移動する基板４に対向して真空槽１の下底
に配設された強磁性材蒸発源９で強磁性材１０が
熱電子源１１の電子ビーム加熱により加熱蒸発さ
れ、この蒸気流が基板４に差し向けられて防着板
１２の作用により斜め入射蒸着が行われる。１３
は冷却ドラム３と防着板１２との間に配設された
反射電子防止装置であり、この反射電子防止装置
に磁界をかけることにより、強磁性材蒸発源９内
の強磁性材１０が熱電子源１１の加熱により加熱
蒸発される際、反射される電子が反射電子防止装
置の磁界で追い返されて基板４に至るのを有効に
防止される。 このようにこの発明において真空槽１の中央部
に配設される冷却ドラム３は、軟鋼製でその外周
面にクロムメツキを施した冷却ドラムや、非磁性
の不銹鋼からなる冷却ドラムなど、一般に使用さ
れる冷却ドラムがいずれも使用される。このよう
な冷却ドラムの表面粗さは2.0μm以下のものであ
ることが好ましく、不銹鋼からなる冷却ドラムと
しては、たとえば、表面粗さが2.0μm以下のオー
ステナイト系の不銹鋼などが好適なものとして使
用される。 また、反射電子防止装置１３は、冷却ドラム３
に沿つて移動する基板４に熱電子源１１の加熱に
より強磁性材１０が加熱蒸発される際、反射され
る電子が至るのを防止するものであり、強磁性材
が蒸着される前の基板４にこの電子が至らないよ
うに、基板４が冷却ドラム３に沿つて移動し始め
る位置の冷却ドラム３の近傍に設けてもよい。 基板４としては、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド等一般に使用されている高分子成形物
からなるプラスチツクフイルムおよび銅などの非
磁性金属が使用され、またこのような基板上への
強磁性金属薄膜層の形成は真空蒸着によつて行わ
れ、強磁性金属薄膜層の形成材料としては、コバ
ルト、ニツケル、鉄などの金属単体の他、これら
の合金あるいは酸化物、及びCo−Ｐ，Co−Ni−
Ｐなど一般に使用される強磁性材料が使用され
る。 〔実施例〕 次に、この発明の実施例について説明する。 実施例 １ 第１図に示すように、非磁性の不銹鋼からなる
ドラム表面粗さが0.5μmの冷却ドラム３を真空槽
１の中央部に配設するとともに、反射電子防止装
置１３を冷却ドラム３と防着板１２との間に配設
した真空蒸着装置を使用し、約10μm厚のポリエ
ステルベースフイルム４を、原反ロール５よりガ
イドローラ６を介して冷却ドラム３の周側面に沿
つて移動させ、ガイドローラ７を介して巻き取り
ロール８に巻き取るようにセツトするとともに、
強磁性材蒸発源９にコバルト−ニツケル合金（重
量比８：２）１０をセツトした。次いで、排気系
２で真空槽１内を約５×10-6トールにまで真空排
気し、熱電子源１１で強磁性材蒸発源内のコバル
ト−ニツケル合金１０を加熱蒸発するとともに、
ポリエステルベースフイルム４を50m／分の速度
で走行させて真空蒸着を行い、ポリエステルベー
スフイルム４上に、コバルト−ニツケル合金から
なる厚さが0.1μmの強磁性金属薄膜層を形成して
磁気記録媒体をつくつた。 比較例 １ 実施例１における真空蒸着装置において、冷却
ドラム３と防着板１２との間に配設した反射電子
防止装置１３を除去し、反射電子防止装置１３に
よる反射される電子の抑制作用を省いた以外は、
実施例１と同様にして磁気記録媒体をつくつた。 実施例および比較例で得られた磁気記録媒体に
ついて、ピンホールの有無およびしわの発生の有
無を観察した。 下表はその結果である。
磁気記録媒体の製造装置に関し、さらに詳しくは
熱変形等を生じることなく高速で能率的に前記の
磁気記録媒体を製造する装置に関する。 〔従来の技術〕 強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体
は、通常、ポリエステルフイルムなどの基板を真
空槽内に取りつけた円筒状の冷却ドラムの周側面
に沿つて移動させ、この基板に強磁性材を真空蒸
着するなどしてつくられている。 〔発明が解決しようとする課題〕 ところが、従来のこの種の磁気記録媒体の製造
装置においては、真空蒸着時に強磁性材蒸発源か
ら反射される電子が、冷却ドラムの周側面に沿つ
て移動する基板に至り、この電子により基板が加
熱されて、ピンホールやしわなどが発生するとい
う難点がある。 〔課題を解決するための手段〕 この発明はかかる欠点を改善するため種々検討
を行つた結果なされたもので、冷却ドラムの近傍
に、真空蒸着時に強磁性材蒸発源から反射される
電子が基板に至るのを防止する反射電子防止装置
を配設することによつて、強磁性材蒸発源から反
射される電子が基板に至るのを防止し、この電子
による基板の加熱を防止して、ピンホールやしわ
などが発生しないようにしたものである。 以下、図面を参照しながらこの発明について説
明する。 第１図は真空蒸着装置の断面図を示したもので
あり、１は真空槽でこの真空槽１の内部は排気系
２により真空に保持される。３は真空槽１の中央
部に配設された冷却ドラムであり、ポリエステル
フイルム等の基板４は原反ロール５よりガイドロ
ーラ６を介してこの冷却ドラム３の周側面に沿つ
て移動し、ガイドローラ７を介して巻き取りロー
ル８に巻き取られ、このような基板移送機構によ
つて移動される。この間冷却ドラム３の周側面に
沿つて移動する基板４に対向して真空槽１の下底
に配設された強磁性材蒸発源９で強磁性材１０が
熱電子源１１の電子ビーム加熱により加熱蒸発さ
れ、この蒸気流が基板４に差し向けられて防着板
１２の作用により斜め入射蒸着が行われる。１３
は冷却ドラム３と防着板１２との間に配設された
反射電子防止装置であり、この反射電子防止装置
に磁界をかけることにより、強磁性材蒸発源９内
の強磁性材１０が熱電子源１１の加熱により加熱
蒸発される際、反射される電子が反射電子防止装
置の磁界で追い返されて基板４に至るのを有効に
防止される。 このようにこの発明において真空槽１の中央部
に配設される冷却ドラム３は、軟鋼製でその外周
面にクロムメツキを施した冷却ドラムや、非磁性
の不銹鋼からなる冷却ドラムなど、一般に使用さ
れる冷却ドラムがいずれも使用される。このよう
な冷却ドラムの表面粗さは2.0μm以下のものであ
ることが好ましく、不銹鋼からなる冷却ドラムと
しては、たとえば、表面粗さが2.0μm以下のオー
ステナイト系の不銹鋼などが好適なものとして使
用される。 また、反射電子防止装置１３は、冷却ドラム３
に沿つて移動する基板４に熱電子源１１の加熱に
より強磁性材１０が加熱蒸発される際、反射され
る電子が至るのを防止するものであり、強磁性材
が蒸着される前の基板４にこの電子が至らないよ
うに、基板４が冷却ドラム３に沿つて移動し始め
る位置の冷却ドラム３の近傍に設けてもよい。 基板４としては、ポリエステル、ポリイミド、
ポリアミド等一般に使用されている高分子成形物
からなるプラスチツクフイルムおよび銅などの非
磁性金属が使用され、またこのような基板上への
強磁性金属薄膜層の形成は真空蒸着によつて行わ
れ、強磁性金属薄膜層の形成材料としては、コバ
ルト、ニツケル、鉄などの金属単体の他、これら
の合金あるいは酸化物、及びCo−Ｐ，Co−Ni−
Ｐなど一般に使用される強磁性材料が使用され
る。 〔実施例〕 次に、この発明の実施例について説明する。 実施例 １ 第１図に示すように、非磁性の不銹鋼からなる
ドラム表面粗さが0.5μmの冷却ドラム３を真空槽
１の中央部に配設するとともに、反射電子防止装
置１３を冷却ドラム３と防着板１２との間に配設
した真空蒸着装置を使用し、約10μm厚のポリエ
ステルベースフイルム４を、原反ロール５よりガ
イドローラ６を介して冷却ドラム３の周側面に沿
つて移動させ、ガイドローラ７を介して巻き取り
ロール８に巻き取るようにセツトするとともに、
強磁性材蒸発源９にコバルト−ニツケル合金（重
量比８：２）１０をセツトした。次いで、排気系
２で真空槽１内を約５×10-6トールにまで真空排
気し、熱電子源１１で強磁性材蒸発源内のコバル
ト−ニツケル合金１０を加熱蒸発するとともに、
ポリエステルベースフイルム４を50m／分の速度
で走行させて真空蒸着を行い、ポリエステルベー
スフイルム４上に、コバルト−ニツケル合金から
なる厚さが0.1μmの強磁性金属薄膜層を形成して
磁気記録媒体をつくつた。 比較例 １ 実施例１における真空蒸着装置において、冷却
ドラム３と防着板１２との間に配設した反射電子
防止装置１３を除去し、反射電子防止装置１３に
よる反射される電子の抑制作用を省いた以外は、
実施例１と同様にして磁気記録媒体をつくつた。 実施例および比較例で得られた磁気記録媒体に
ついて、ピンホールの有無およびしわの発生の有
無を観察した。 下表はその結果である。
上表から明らかなように、従来の製造装置で得
られた磁気記録媒体（比較例１）は、ピンホール
およびしわの発生が認められるのに対し、この発
明の製造装置で得られた磁気記録媒体（実施例
１）は、ピンホールやしわの発生が認められず、
このことからこの発明の製造装置によれば、高速
で能率的に熱変形のない磁気記録媒体が得られる
のがわかる。
られた磁気記録媒体（比較例１）は、ピンホール
およびしわの発生が認められるのに対し、この発
明の製造装置で得られた磁気記録媒体（実施例
１）は、ピンホールやしわの発生が認められず、
このことからこの発明の製造装置によれば、高速
で能率的に熱変形のない磁気記録媒体が得られる
のがわかる。
第１図はこの発明の磁気記録媒体製造装置の１
例を示す概略断面図である。 １……真空槽、３……冷却ドラム、４……基
板、５……原反ロール、６，７……ガイドロー
ラ、８……巻き取りロール、９……強磁性材蒸発
源、１０……強磁性材、１２……防着板、１３…
…反射電子防止装置。
例を示す概略断面図である。 １……真空槽、３……冷却ドラム、４……基
板、５……原反ロール、６，７……ガイドロー
ラ、８……巻き取りロール、９……強磁性材蒸発
源、１０……強磁性材、１２……防着板、１３…
…反射電子防止装置。
Claims (1)
- １ 真空槽内に、冷却ドラムと、この冷却ドラム
の周側面に沿つて移動する基板と、この基板を冷
却ドラムの周側面に沿つて移動案内する基板移送
機構と、冷却ドラムの周側面に沿つて移動する基
板と対向する強磁性材蒸発源と、強磁性材蒸発源
から基板に至る蒸気流を必要に応じて部分的に適
宜遮断する防着板と、強磁性材蒸発源から熱電子
源の加熱により反射される電子が基板に至るのを
磁界により防止する反射電子防止装置とを配設し
てなる磁気記録媒体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4270483A JPS59167851A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4270483A JPS59167851A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59167851A JPS59167851A (ja) | 1984-09-21 |
| JPH0552565B2 true JPH0552565B2 (ja) | 1993-08-05 |
Family
ID=12643446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4270483A Granted JPS59167851A (ja) | 1983-03-14 | 1983-03-14 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59167851A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5585672A (en) * | 1978-12-25 | 1980-06-27 | Nec Corp | Sputtering apparatus |
| JPS57179952A (en) * | 1981-04-24 | 1982-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and apparatus for magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-03-14 JP JP4270483A patent/JPS59167851A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5585672A (en) * | 1978-12-25 | 1980-06-27 | Nec Corp | Sputtering apparatus |
| JPS57179952A (en) * | 1981-04-24 | 1982-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and apparatus for magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59167851A (ja) | 1984-09-21 |
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