JPS60119638A - 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法およびその装置Info
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- JPS60119638A JPS60119638A JP22715083A JP22715083A JPS60119638A JP S60119638 A JPS60119638 A JP S60119638A JP 22715083 A JP22715083 A JP 22715083A JP 22715083 A JP22715083 A JP 22715083A JP S60119638 A JPS60119638 A JP S60119638A
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- Japan
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- ferromagnetic material
- rolls
- organic compound
- ferromagnetic
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒
体の製造方法およびその実施に使用する装置に関する。
体の製造方法およびその実施に使用する装置に関する。
強磁性金属薄膜層を記録層とする磁気記録媒体は、通常
、ポリエステルフィルムなどの基板を真空槽内に配設し
た種々のガイドロールを介して円筒状キャンの周側面に
沿って案内走行させ、この基板上に強磁性材を真空蒸着
するなどしてつくられており、ガイドロールとしては一
般に表面にクロムメッキを施した金属製のロールが使用
されている。
、ポリエステルフィルムなどの基板を真空槽内に配設し
た種々のガイドロールを介して円筒状キャンの周側面に
沿って案内走行させ、この基板上に強磁性材を真空蒸着
するなどしてつくられており、ガイドロールとしては一
般に表面にクロムメッキを施した金属製のロールが使用
されている。
ところが、従来から使用されているこの種の表面にクロ
ムメッキを施した金属ロールは、表面に鋭角状の研磨価
等が多くあり、また摩擦係数が太き（て、比較的硬いた
め、基板がこれらのガイドロールを介して案内走行され
る際、これらのガイドロールと接して擦過傷が生じ易く
、基板の真空蒸着が行われる側あるいは基板上に形成さ
れた強磁性金属薄膜層の表面に傷が多く発生し、これが
原因で良好な磁気特性ないし電磁変換特性が得られなく
なるという難点があった。
ムメッキを施した金属ロールは、表面に鋭角状の研磨価
等が多くあり、また摩擦係数が太き（て、比較的硬いた
め、基板がこれらのガイドロールを介して案内走行され
る際、これらのガイドロールと接して擦過傷が生じ易く
、基板の真空蒸着が行われる側あるいは基板上に形成さ
れた強磁性金属薄膜層の表面に傷が多く発生し、これが
原因で良好な磁気特性ないし電磁変換特性が得られなく
なるという難点があった。
この発明者はかかる欠点を改善するためガイドロールに
ついて種々検討を行った結果、外周面に高分子有機化合
物からなる被膜を被覆したガイドロールを使用し、これ
を真空槽内に配設した基板移動支持装置間に、基板の強
磁性材蒸着面側が接して走行するように配設すると、こ
の種の外周面に高分子有機化合物からなる被膜を被覆し
たガイドロールは、表面にほとんど傷がないか或いはあ
っても鈍角状の傷であり、また従来のクロムメッキを施
した金属ロールに比して比較的柔らかくて摩擦係数が小
さいため、擦過傷が生じにくり、基板の強磁性金属薄膜
層が形成される側や基板上に形成された強磁性金属薄膜
層に傷がつくのを良好に抑制できることを見いだし、こ
の発明をなすに至った。
ついて種々検討を行った結果、外周面に高分子有機化合
物からなる被膜を被覆したガイドロールを使用し、これ
を真空槽内に配設した基板移動支持装置間に、基板の強
磁性材蒸着面側が接して走行するように配設すると、こ
の種の外周面に高分子有機化合物からなる被膜を被覆し
たガイドロールは、表面にほとんど傷がないか或いはあ
っても鈍角状の傷であり、また従来のクロムメッキを施
した金属ロールに比して比較的柔らかくて摩擦係数が小
さいため、擦過傷が生じにくり、基板の強磁性金属薄膜
層が形成される側や基板上に形成された強磁性金属薄膜
層に傷がつくのを良好に抑制できることを見いだし、こ
の発明をなすに至った。
以下、図面を参照しながらこの発明について説明する。
第１図は真空蒸着装置の断面図を示したものであり、■
は真空槽でこの真空槽１の内部は仕切板２および３によ
って区画分離され、それぞれ排気系４．５および６によ
って真空に保持される。７は真空槽１の中央部に前記区
画分離された３室に跨がり配設された円筒状キャンであ
り、ポリエステルフィルム等の基板８は原反ロール９よ
り、ガイドロール１０ａおよび１０ｂを介してこの円筒
状キャン７の周側面に沿って移動し、ガイドロール１０
ｃおよび１０ｄを介して巻き取りロール１１に巻き取ら
れる。この間円筒状キャン７の周側面に沿らて移動する
基板８に対向して真空槽１の下底に配設された強磁性材
蒸発源１２で強磁性材１３が加熱蒸発され、この蒸気流
が基板８に差し向けられて蒸着が行われる。ここでガイ
ドロール１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄは第２図に示
すようにいずれも金属ロール１４の外周面に高分子有機
化合物からなる被膜１５が被覆されており、このためこ
れらのガイドロール１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄは
いずれも従来のクロムメッキを施した金にロールに比し
て硬度が低くて柔らかく、また摩擦係数が小さくて、さ
らに表面の傷も鈍角状で従来の金属ロールのように尖鋭
でない。従って、基板がこれらのガイドロール１０ａ、
１０ｂ、ＩＯＣ，１０ｄに案内走行される際、その蒸着
面側が接しても擦過傷が生じにりく、基板の強磁性金属
薄膜層が形成される側および基板上に形成された強磁性
金属薄膜層に傷がつくのを良好に抑制することができる
。
は真空槽でこの真空槽１の内部は仕切板２および３によ
って区画分離され、それぞれ排気系４．５および６によ
って真空に保持される。７は真空槽１の中央部に前記区
画分離された３室に跨がり配設された円筒状キャンであ
り、ポリエステルフィルム等の基板８は原反ロール９よ
り、ガイドロール１０ａおよび１０ｂを介してこの円筒
状キャン７の周側面に沿って移動し、ガイドロール１０
ｃおよび１０ｄを介して巻き取りロール１１に巻き取ら
れる。この間円筒状キャン７の周側面に沿らて移動する
基板８に対向して真空槽１の下底に配設された強磁性材
蒸発源１２で強磁性材１３が加熱蒸発され、この蒸気流
が基板８に差し向けられて蒸着が行われる。ここでガイ
ドロール１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄは第２図に示
すようにいずれも金属ロール１４の外周面に高分子有機
化合物からなる被膜１５が被覆されており、このためこ
れらのガイドロール１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄは
いずれも従来のクロムメッキを施した金にロールに比し
て硬度が低くて柔らかく、また摩擦係数が小さくて、さ
らに表面の傷も鈍角状で従来の金属ロールのように尖鋭
でない。従って、基板がこれらのガイドロール１０ａ、
１０ｂ、ＩＯＣ，１０ｄに案内走行される際、その蒸着
面側が接しても擦過傷が生じにりく、基板の強磁性金属
薄膜層が形成される側および基板上に形成された強磁性
金属薄膜層に傷がつくのを良好に抑制することができる
。
このように金属ロール１４の外周面に被覆される高分子
有機化合物からなる被膜１５としては、比較的柔らかく
て摩擦係数が小さい、ナイロン、コツトン、ウレタンゴ
ム、テフロン等が好ましいものとして使用され、これら
は、たとえばナイロン樹脂またはコツトンあるいはウレ
タンゴムで成形した筒状の成形物を金属ロール１４の外
周面に被嵌して被覆するが、あるいはテフロンからなる
被膜を金属ロールの表面にコーティングして焼きつける
などの方法で被覆される。このようにして被覆される高
分子有機化合物からなる被膜１５の厚みは、適度に小さ
い摩擦係数を有しかつ適度な柔らかさにするためナイロ
ン、ウレタンゴムおよびコツトンからなる被膜の場合は
１〜１０ｍｍの範囲内とし、テフロンの場合は１０〜５
００μの範囲内とするのが好ましい。また被膜１５の表
面粗度は大きすぎると基板の蒸着面側に傷が生じるおそ
れがあるため、傷の発生を充分に抑制できる３ｇ（波高
値３μ）以下であることが好ましく、１３以下にするの
がより好ましい。
有機化合物からなる被膜１５としては、比較的柔らかく
て摩擦係数が小さい、ナイロン、コツトン、ウレタンゴ
ム、テフロン等が好ましいものとして使用され、これら
は、たとえばナイロン樹脂またはコツトンあるいはウレ
タンゴムで成形した筒状の成形物を金属ロール１４の外
周面に被嵌して被覆するが、あるいはテフロンからなる
被膜を金属ロールの表面にコーティングして焼きつける
などの方法で被覆される。このようにして被覆される高
分子有機化合物からなる被膜１５の厚みは、適度に小さ
い摩擦係数を有しかつ適度な柔らかさにするためナイロ
ン、ウレタンゴムおよびコツトンからなる被膜の場合は
１〜１０ｍｍの範囲内とし、テフロンの場合は１０〜５
００μの範囲内とするのが好ましい。また被膜１５の表
面粗度は大きすぎると基板の蒸着面側に傷が生じるおそ
れがあるため、傷の発生を充分に抑制できる３ｇ（波高
値３μ）以下であることが好ましく、１３以下にするの
がより好ましい。
強磁性金属薄膜層を形成する基板としては、ポリエステ
ル、ポリイミド、ポリアミド等一般に使用されている高
分子成形物からなるプラスチックフィルムおよび銅など
の非磁性金属板が使用され、強磁性金属薄膜層の形成は
、真空蒸着の他、スパッタリングおよびイオンブレーテ
ィング等の手段によっても行われる。
ル、ポリイミド、ポリアミド等一般に使用されている高
分子成形物からなるプラスチックフィルムおよび銅など
の非磁性金属板が使用され、強磁性金属薄膜層の形成は
、真空蒸着の他、スパッタリングおよびイオンブレーテ
ィング等の手段によっても行われる。
また強磁性材としては、コバルト、ニッケル、鉄などの
金属単体の他、これらの合金あるいは酸化物、およびＧ
ｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ −Ｐなど一般に使用される強磁性
材が広く使用される。
金属単体の他、これらの合金あるいは酸化物、およびＧ
ｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ −Ｐなど一般に使用される強磁性
材が広く使用される。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１
第２図に示すような、金属ロール１４の外周面にナイロ
ンからなる厚みが５１で表面粗度が０．５Ｓの被膜１５
を被覆形成したガイドロール１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、
１０ｄを、第１図に示すように円筒状キャン７と原反ロ
ール９および巻き取りロール１１間に配設した真空蒸着
装置を使用し、厚さが１０μのポリエステルフィルム８
を原反ロール９よりガイドロール１０ａ、１０ｂを介し
て円筒状キャン７の周側面に沿って移動させ、ガイドロ
ール１０Ｃ１１０ｄを介して巻き取りロール１１に巻き
取るようにセットするとともに強磁性材蒸発源１２にコ
バルト１３をセットした。次いで、排気系４．５および
６で真空槽１内を５×１０′５トールにまで真空排気し
、コバルト１３を加熱蒸発させてポリエステルフィルム
７上に厚さが０．１μのコバルトからなる強磁性金属薄
膜層を形成した。しかる後、これを所定の巾に裁断して
磁気テープをつくった。
ンからなる厚みが５１で表面粗度が０．５Ｓの被膜１５
を被覆形成したガイドロール１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、
１０ｄを、第１図に示すように円筒状キャン７と原反ロ
ール９および巻き取りロール１１間に配設した真空蒸着
装置を使用し、厚さが１０μのポリエステルフィルム８
を原反ロール９よりガイドロール１０ａ、１０ｂを介し
て円筒状キャン７の周側面に沿って移動させ、ガイドロ
ール１０Ｃ１１０ｄを介して巻き取りロール１１に巻き
取るようにセットするとともに強磁性材蒸発源１２にコ
バルト１３をセットした。次いで、排気系４．５および
６で真空槽１内を５×１０′５トールにまで真空排気し
、コバルト１３を加熱蒸発させてポリエステルフィルム
７上に厚さが０．１μのコバルトからなる強磁性金属薄
膜層を形成した。しかる後、これを所定の巾に裁断して
磁気テープをつくった。
実施例２〜５
金属ロール１４の外周面にナイロンからなる厚みが５ｍ
ｍで表面粗度がそれぞれ１ ｓ、２ｓ、３ｓ、５Ｓの被
膜１５を被覆形成した４種類のガイドロール１０ａ、１
０ｂ、１０ｃ、１０ｄを使用した以外は実施例１と同様
にして磁気テープをつくった。
ｍで表面粗度がそれぞれ１ ｓ、２ｓ、３ｓ、５Ｓの被
膜１５を被覆形成した４種類のガイドロール１０ａ、１
０ｂ、１０ｃ、１０ｄを使用した以外は実施例１と同様
にして磁気テープをつくった。
実施例６
金属ロール１４の外周面にコツトンからなる厚みが５■
で表面粗度が２Ｓの被膜１５を被覆形成したガイドロー
ル１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、’１０ｄを使用した以外は
実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
で表面粗度が２Ｓの被膜１５を被覆形成したガイドロー
ル１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、’１０ｄを使用した以外は
実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
実施例７
金属ロール１４の外周面にウレタンゴムからなる厚みが
５ＩＩＩ１１で表面粗度が２Ｓの被膜１５を被覆形成し
たガイドロール１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄを使用
した以外は実施例１と同様にして磁気テープをつくった
。
５ＩＩＩ１１で表面粗度が２Ｓの被膜１５を被覆形成し
たガイドロール１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄを使用
した以外は実施例１と同様にして磁気テープをつくった
。
実施例８
金属ロール１４の外周面にテフロンからなる早みが２０
μで表面粗度が２Ｓの被膜１５を被覆形成したガイドロ
ール１０ ａ、１０ ｂ、１０ ｃ、１０ｄを使用した
以外は実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
μで表面粗度が２Ｓの被膜１５を被覆形成したガイドロ
ール１０ ａ、１０ ｂ、１０ ｃ、１０ｄを使用した
以外は実施例１と同様にして磁気テープをつくった。
比較例１
金属ロール１４の外周面に厚みが５０μのクロムメッキ
を施した表面粗度が２８の金属製ガイドロール１０ａ、
１０ｂ、１０ｃ、１０ｄを使用した以外は実施例１と同
様にして磁気テープをつくった。
を施した表面粗度が２８の金属製ガイドロール１０ａ、
１０ｂ、１０ｃ、１０ｄを使用した以外は実施例１と同
様にして磁気テープをつくった。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
強磁性金属薄膜層表面の傷の発生頻度を調べた。
強磁性金属薄膜層表面の傷の発生頻度を調べた。
下表はその結果である。
上表から明らかなように、実施例１〜Ｂで得られた磁気
テープはいずれも比較例１で得られた磁気テープに比し
、傷の発生頻度が少なく、特に表面粗度が３Ｓ以下では
極めて少なく、このことからこの発明の製造方法および
装置によれば、磁気記録媒体製造時に発生する傷が極め
て良好に抑制されているのがわかる。
テープはいずれも比較例１で得られた磁気テープに比し
、傷の発生頻度が少なく、特に表面粗度が３Ｓ以下では
極めて少なく、このことからこの発明の製造方法および
装置によれば、磁気記録媒体製造時に発生する傷が極め
て良好に抑制されているのがわかる。
第１図はこの発明の製造方法を実施するために使用する
真空蒸着装置の１例を示す概略断面図、第２図はこの発
明で使用するガイドロールの拡大断面図である。 １・・・真空槽、７・・・円筒状キャン、８・・・基板
、９・・・原反ロール、１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０
ｄ・・・ガイドロール、１１・・・巻き取りロール、１
２・・・強磁性材蒸発源、１３・・・強磁性材、１４・
・・金属ロール、１５・・・被膜 第１図 第２図
真空蒸着装置の１例を示す概略断面図、第２図はこの発
明で使用するガイドロールの拡大断面図である。 １・・・真空槽、７・・・円筒状キャン、８・・・基板
、９・・・原反ロール、１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０
ｄ・・・ガイドロール、１１・・・巻き取りロール、１
２・・・強磁性材蒸発源、１３・・・強磁性材、１４・
・・金属ロール、１５・・・被膜 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空槽内に、基板移動支持装置とこの基板移動支持
装置に対向する強磁性材蒸発源とを配設してなる真空蒸
着装置において、基板の強磁性材蒸着面側と接して基板
を走行案内する外周面に高分子有機化合物からなる被験
を被覆したガイドロールを基板移動支持装置間に配設し
、このガイドロールに強磁性材蒸着面側を接して基板移
動支持装置間を案内走行される基板に、強磁性材蒸発源
から強磁性材の蒸気流を差し向げて強磁性金属薄膜層を
形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法 ２、真空槽内に、基板移動支持装置とこの基板移動支持
装置に対向する強磁性材蒸発源とを配設してなる真空蒸
着装置において、基板の強磁性材蒸着面側と接して基板
を走行案内する外周面に高分子有機化合物からなる被膜
を被覆したガイドロールを、基板移動支持装置間に配設
し、基板の強磁性材蒸着面側を高分子有機化合物からな
る被膜を被覆したガイドロールと接して走行させるよう
にしたことを特徴とする磁気記録媒体製造装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22715083A JPS60119638A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22715083A JPS60119638A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60119638A true JPS60119638A (ja) | 1985-06-27 |
Family
ID=16856272
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22715083A Pending JPS60119638A (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60119638A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4993744A (en) * | 1988-08-25 | 1991-02-19 | Nhk Spring Co., Ltd. | Vehicular anti-roll system for stabilizing the orientation of a vehicle body |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP22715083A patent/JPS60119638A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4993744A (en) * | 1988-08-25 | 1991-02-19 | Nhk Spring Co., Ltd. | Vehicular anti-roll system for stabilizing the orientation of a vehicle body |
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