JPS60191432A - 磁気デイスクおよびその潤滑方法 - Google Patents
磁気デイスクおよびその潤滑方法Info
- Publication number
- JPS60191432A JPS60191432A JP4566884A JP4566884A JPS60191432A JP S60191432 A JPS60191432 A JP S60191432A JP 4566884 A JP4566884 A JP 4566884A JP 4566884 A JP4566884 A JP 4566884A JP S60191432 A JPS60191432 A JP S60191432A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- electron beam
- grooves
- gamma
- continuous film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/74—Record carriers characterised by the form, e.g. sheet shaped to wrap around a drum
- G11B5/82—Disk carriers
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は、磁気ディスクおよびその潤滑方法に関し、更
に詳しくは潤滑容易な高密度記録用磁気ディスクおよび
その潤滑方法に関する。
に詳しくは潤滑容易な高密度記録用磁気ディスクおよび
その潤滑方法に関する。
く技術的背景〉
磁気ディスクの記録層形成方法を大別すると。
塗布形のものと連続膜形のものに分類できる。
塗布形のものは強磁性粉末をバインダ、分散剤等と混練
して得られた磁性塗料を基板面に塗布するものであり、
連続膜形のものは強磁性材料を真空蒸発、スパッタある
いは電着等の方法で基板面に連続薄膜を形成させるもの
である。磁気ディスクの高密度記録という見地からみる
と、記録層中の強磁性材料の充填密度を高くする必要が
ある。したがって、バインダや分散剤のような非磁性材
料を含有する塗布形の磁気記録層を有する磁気ディスク
は不利であり、連続膜形の磁気ディスクの方が有利であ
る。
して得られた磁性塗料を基板面に塗布するものであり、
連続膜形のものは強磁性材料を真空蒸発、スパッタある
いは電着等の方法で基板面に連続薄膜を形成させるもの
である。磁気ディスクの高密度記録という見地からみる
と、記録層中の強磁性材料の充填密度を高くする必要が
ある。したがって、バインダや分散剤のような非磁性材
料を含有する塗布形の磁気記録層を有する磁気ディスク
は不利であり、連続膜形の磁気ディスクの方が有利であ
る。
しかし、接触形磁気ディスク装置の場付は装置の作動停
止時においては、磁気ヘッドは磁気ディスク上に接触し
ておく方法がとら扛ている。
止時においては、磁気ヘッドは磁気ディスク上に接触し
ておく方法がとら扛ている。
したがって、回転開始時に大きな静止摩擦が発生し、回
転中は磁気ヘッドと磁気ディスクの衝突による部品の破
損や、記録層が破壊する問題がある。このような問題を
回避するために、磁気ディスク上に潤滑剤を塗布するこ
とによシ潤滑層を形成させる方法がとられている。
転中は磁気ヘッドと磁気ディスクの衝突による部品の破
損や、記録層が破壊する問題がある。このような問題を
回避するために、磁気ディスク上に潤滑剤を塗布するこ
とによシ潤滑層を形成させる方法がとられている。
塗布形磁気ディスクの場合は、γ−Ｆｅ２０３粉末をバ
インダー中に混線、分散して得られた磁性塗料を基板上
に塗膜するため、膜上には微細な穴やくほみが形成され
ており、潤滑剤はその中に滞溜するために記録面上に潤
滑剤が常時供給され、薄い潤滑層を形成するため、動作
が極めて安定であった。
インダー中に混線、分散して得られた磁性塗料を基板上
に塗膜するため、膜上には微細な穴やくほみが形成され
ており、潤滑剤はその中に滞溜するために記録面上に潤
滑剤が常時供給され、薄い潤滑層を形成するため、動作
が極めて安定であった。
ところが、高密度記録を行うためには、バインダーのよ
うな非磁性材料が存在することは不利のため、連続膜の
形成が不可欠となってきた。
うな非磁性材料が存在することは不利のため、連続膜の
形成が不可欠となってきた。
しかるに、連続膜形磁気記録層を有する磁気ディスクに
おいて、前述のように、磁気記録層上に薄い潤滑層を形
成させても、それを維持するのが難しく、回転開始時あ
るいは停止時に、ディスク表面を磁気ヘッドが掃くため
、部分的に潤滑層が厚くなったり、薄くなったりという
厚さの「ばらつき」が発生し、ヘッドクラッシュをおこ
す原因となっていた。
おいて、前述のように、磁気記録層上に薄い潤滑層を形
成させても、それを維持するのが難しく、回転開始時あ
るいは停止時に、ディスク表面を磁気ヘッドが掃くため
、部分的に潤滑層が厚くなったり、薄くなったりという
厚さの「ばらつき」が発生し、ヘッドクラッシュをおこ
す原因となっていた。
〈発明の目的〉
本発明は、記録層を連続膜形磁性層で構成する磁気ディ
スクにおける前述の欠点を除去するためになされたもの
であって、連続膜形磁気記録層上面に形成される潤滑層
が、磁気ディスク装置の作動、停止に左右されず常に連
続膜形磁気記録層全面を均一に潤滑化層を形成する磁気
ディスクを提供することを目的とする。
スクにおける前述の欠点を除去するためになされたもの
であって、連続膜形磁気記録層上面に形成される潤滑層
が、磁気ディスク装置の作動、停止に左右されず常に連
続膜形磁気記録層全面を均一に潤滑化層を形成する磁気
ディスクを提供することを目的とする。
また、本発明は、連続膜形磁気記録層を有する磁気ディ
スク上面に、ディスクの作動、停止に関係なく均一な潤
滑層を形成するための磁気ディスクの潤滑方法を提供す
ることをも目的とする。
スク上面に、ディスクの作動、停止に関係なく均一な潤
滑層を形成するための磁気ディスクの潤滑方法を提供す
ることをも目的とする。
〈発明の構成〉
上記目的を達成するための本発明にかかる磁気ディスク
は、基板上に、表面に周期的かつ規則的に分布した溝を
形成した連続膜形磁気記録層を設けたことを特徴とする
。
は、基板上に、表面に周期的かつ規則的に分布した溝を
形成した連続膜形磁気記録層を設けたことを特徴とする
。
また、本発明にかかる磁気ディスクの潤滑方法は、基板
上に、表面に周期的かつ規則的に分布した溝を形成した
連続膜形磁気記録層を設けると共に、連続膜形磁気記録
層表面の溝内に潤滑剤を滞溜せし、磁気ディスク面を潤
滑化することを特徴とする。
上に、表面に周期的かつ規則的に分布した溝を形成した
連続膜形磁気記録層を設けると共に、連続膜形磁気記録
層表面の溝内に潤滑剤を滞溜せし、磁気ディスク面を潤
滑化することを特徴とする。
本発明の基板には、Ａ／、 、 Ａｔ合金、Ｓｔ等の基
板が用いられ、潤滑剤としてはノ４−フロロポリエーテ
ル、パー７０ロホリエーテルカル献ン酸、シリコーンオ
イル等が使用される。
板が用いられ、潤滑剤としてはノ４−フロロポリエーテ
ル、パー７０ロホリエーテルカル献ン酸、シリコーンオ
イル等が使用される。
また、形成される溝の形状は、たとえば同心状、スパイ
ラル状、矩形状等、周期的規則的に連続膜形磁気記録層
上面に形成され、層上に潤滑剤が均一な潤滑層を形成で
きるよう、層上に周期的規則的に分布するように形成し
たものであれば、その形状は特に制限はないが、記録す
べきトラックに沿って並行に形成する方が好ましい。
ラル状、矩形状等、周期的規則的に連続膜形磁気記録層
上面に形成され、層上に潤滑剤が均一な潤滑層を形成で
きるよう、層上に周期的規則的に分布するように形成し
たものであれば、その形状は特に制限はないが、記録す
べきトラックに沿って並行に形成する方が好ましい。
本発明の磁気ディスクおよび潤滑方法は、以上のような
構成となっているから、磁気ディスクの回転開始時およ
び停止時において、磁気ディスク面上に滞溜した潤滑剤
は、滞溜場所近傍の溝へ流動し、吸収されディスク面の
平滑化が自動的に行われる。
構成となっているから、磁気ディスクの回転開始時およ
び停止時において、磁気ディスク面上に滞溜した潤滑剤
は、滞溜場所近傍の溝へ流動し、吸収されディスク面の
平滑化が自動的に行われる。
〈実施例〉
以下、本発明の実施例について説明する。
実施例１
直径（φ）１５０１１ＩＩＩＩのＭ円板１（丸穴開口Ｂ
あり）を、第１図に示す電子ビームカッティング装置２
のカッティング作業台３に取り付け、作業台３上方に配
置した電子ビーム発生器（電子顕微鏡鏡筒）４からＭ円
板面に高゛嵐圧（ＩＯＫＶ）に加速された電子ビームを
照射すると共に、モータ５を駆動し、作業台３下方の回
転軸６゜を回転させ、電子ビームがＡｔ円板１中心から
、幅１．０μｍ、深さ数μｍの溝６′ｆ、ｌＯμｍのピ
ッチでスに示す。
あり）を、第１図に示す電子ビームカッティング装置２
のカッティング作業台３に取り付け、作業台３上方に配
置した電子ビーム発生器（電子顕微鏡鏡筒）４からＭ円
板面に高゛嵐圧（ＩＯＫＶ）に加速された電子ビームを
照射すると共に、モータ５を駆動し、作業台３下方の回
転軸６゜を回転させ、電子ビームがＡｔ円板１中心から
、幅１．０μｍ、深さ数μｍの溝６′ｆ、ｌＯμｍのピ
ッチでスに示す。
次に、スパイラル状溝６を形成したＡｔ円板１をその溝
形成面を下方に向け、第３図に示すごとき真空ベルジヤ
７向上部の支持器８で保持すると共に、ペルツヤ７内に
γ−Ｆｅ２０．粉末９を入れた「るつぼ」１０、電子ビ
ーム発生装置１１を配置し、排気装置１２によりベルジ
ャ１内をＩ Ｘ １０−’ 〜Ｉ Ｘ １０−５Ｔｏｒ
ｒ程度に排気した後、電子ビーム発生装置１１から「る
つぼ」１０内のγ−Ｆｅ２０．．粉末に電子ビームを照
射し、γ−Ｆｅ２０ｇ粉末を蒸発させ、円板１表面にγ
−Ｆｅ２Ｏ３の蒸着膜を形成させる。その後、ペルツヤ
７内を常圧にもどしてから、円板を取り出した。
形成面を下方に向け、第３図に示すごとき真空ベルジヤ
７向上部の支持器８で保持すると共に、ペルツヤ７内に
γ−Ｆｅ２０．粉末９を入れた「るつぼ」１０、電子ビ
ーム発生装置１１を配置し、排気装置１２によりベルジ
ャ１内をＩ Ｘ １０−’ 〜Ｉ Ｘ １０−５Ｔｏｒ
ｒ程度に排気した後、電子ビーム発生装置１１から「る
つぼ」１０内のγ−Ｆｅ２０．．粉末に電子ビームを照
射し、γ−Ｆｅ２０ｇ粉末を蒸発させ、円板１表面にγ
−Ｆｅ２Ｏ３の蒸着膜を形成させる。その後、ペルツヤ
７内を常圧にもどしてから、円板を取り出した。
得られたｋＡ円板１上面には第４図に示すごとく円板１
の溝６の形成面にγ−Ｆｅ２Ｏ３の連続膜１３が形成さ
れていることが確認できた。γ−Ｆｅ、、０３膜の膜厚
は１．５０ ＯＡであることが判った。得られた連続膜
１３が形成された円板１を実施例ディスク１と名付けた
。
の溝６の形成面にγ−Ｆｅ２Ｏ３の連続膜１３が形成さ
れていることが確認できた。γ−Ｆｅ、、０３膜の膜厚
は１．５０ ＯＡであることが判った。得られた連続膜
１３が形成された円板１を実施例ディスク１と名付けた
。
実施例２
に１円板１に溝形成加工を施さずに直接、真空ベルジャ
７の支持器８に保持すると共に、ＡｔＨ版１面の下方に
径（φ）１μｍのタングステン合金針金を、ピッチ１０
μｍでス・ヤイラル状に巻いた遮蔽装置を配置する以外
は、実施例１と同様の方法でγ−Ｆｅ２０Ｂ粉末を真空
電子ビーム加熱してＡｔ円板面にγ−Ｆｅ２Ｏ３の連続
膜を蒸着させた。
７の支持器８に保持すると共に、ＡｔＨ版１面の下方に
径（φ）１μｍのタングステン合金針金を、ピッチ１０
μｍでス・ヤイラル状に巻いた遮蔽装置を配置する以外
は、実施例１と同様の方法でγ−Ｆｅ２０Ｂ粉末を真空
電子ビーム加熱してＡｔ円板面にγ−Ｆｅ２Ｏ３の連続
膜を蒸着させた。
得られたγ−Ｆｅ２０．蒸着膜は１，８００大であシ、
１０μｍごとに、幅１μｍの溝を有するスパイカレ状の
γ−Ｆｅ２０．の連続膜が形成されていることが確認で
きた。得られた試料を実施例ディスク２と名付けた。
１０μｍごとに、幅１μｍの溝を有するスパイカレ状の
γ−Ｆｅ２０．の連続膜が形成されていることが確認で
きた。得られた試料を実施例ディスク２と名付けた。
実施例３
実施例１と同様のＡｔ円板１の一方の面に実施例１と同
様のカツテング方法により、幅１．０μｍピッチ１０μ
ｍの間隔で第５図（ａ） 、 （ｂ）に示すごとく同心
円状の溝１６を形成したものを用いた以外は、実施例１
と同様の処理および方法にしたがって、Ａｔ円板１の溝
形成側面にγ−Ｆｅ２０ｇの連続膜を形成させた。得ら
れたγ−Ｆｅ２Ｏ３の連続膜膜厚は１，６００ Ｘであ
ることが確認できた。
様のカツテング方法により、幅１．０μｍピッチ１０μ
ｍの間隔で第５図（ａ） 、 （ｂ）に示すごとく同心
円状の溝１６を形成したものを用いた以外は、実施例１
と同様の処理および方法にしたがって、Ａｔ円板１の溝
形成側面にγ−Ｆｅ２０ｇの連続膜を形成させた。得ら
れたγ−Ｆｅ２Ｏ３の連続膜膜厚は１，６００ Ｘであ
ることが確認できた。
この試料を実施例ディスク３と名付けた。
比較例
実施例１と同様のＡｔ円板１全用い、その一方の面にγ
−Ｆｅ２０．の連続膜を実施例１と同様の方法で蒸着さ
せ、膜厚１，８０ ＯＡの試料を作製した。この試料を
比較例ディスクと名付けた。
−Ｆｅ２０．の連続膜を実施例１と同様の方法で蒸着さ
せ、膜厚１，８０ ＯＡの試料を作製した。この試料を
比較例ディスクと名付けた。
（Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ−８ｔｏｐ ）を測定し
た結果を、下記の表−１に示す。
た結果を、下記の表−１に示す。
表 ま
ただし摩擦係数は、磁気ヘッド（重さ５２）を実施例デ
ィスク１，２．３および比較例ディスク面上を停止状態
から滑動開始させるときに要する力を基準として計算し
た。また、Ｃ８Ｓは上記各ディスク面上を磁気ディスク
をすべらせたときのひつかか９回数で示した。
ィスク１，２．３および比較例ディスク面上を停止状態
から滑動開始させるときに要する力を基準として計算し
た。また、Ｃ８Ｓは上記各ディスク面上を磁気ディスク
をすべらせたときのひつかか９回数で示した。
表−１の結果から、実施例の磁気ディスクの摩擦係数が
小さいだけでなく、回転中のひっかかりも少く潤滑性に
すぐれていることを示している。
小さいだけでなく、回転中のひっかかりも少く潤滑性に
すぐれていることを示している。
その理由は、基板面上に形成した連続膜１３上に潤滑剤
を塗布すると、溝６（又は１６）近傍の潤滑剤は、溝に
流動吸収されてディスク上の連続膜１３上に均一に潤滑
層１４が形成されるので、連続膜１３上を走査する磁気
ヘッド１８（スライダ１７上に配設）は、この潤滑層に
よって平滑に滑動できるためである。
を塗布すると、溝６（又は１６）近傍の潤滑剤は、溝に
流動吸収されてディスク上の連続膜１３上に均一に潤滑
層１４が形成されるので、連続膜１３上を走査する磁気
ヘッド１８（スライダ１７上に配設）は、この潤滑層に
よって平滑に滑動できるためである。
上記実施例においては、溝幅は１μｍ、ピッチ１０μｍ
の溝を形成した例を示したが、特別の用途のもの以外は
通常の磁気ディスクにあっては溝幅０．５〜３μｍ１ピ
ツチは２〜２０μｍのものが適当である。また、溝のピ
ッチは潤滑性の点から、少くとも磁気ヘッドのトラック
幅以下とすることが望ましい。
の溝を形成した例を示したが、特別の用途のもの以外は
通常の磁気ディスクにあっては溝幅０．５〜３μｍ１ピ
ツチは２〜２０μｍのものが適当である。また、溝のピ
ッチは潤滑性の点から、少くとも磁気ヘッドのトラック
幅以下とすることが望ましい。
連続膜は、基板上に、スパッタ法、真空蒸着法、メッキ
法等によって形成されるが、実施例１．３の場合のよう
に基板面に溝を形成した面に連続膜を形成しても、磁気
記録層上面に、溝パターンがそのまま保持された形状で
形成される。ただし、溝の深さが余り深くないときは、
潤滑剤を滞溜させる効果が少い。
法等によって形成されるが、実施例１．３の場合のよう
に基板面に溝を形成した面に連続膜を形成しても、磁気
記録層上面に、溝パターンがそのまま保持された形状で
形成される。ただし、溝の深さが余り深くないときは、
潤滑剤を滞溜させる効果が少い。
また、ヘッドの出力は、トラック幅Ｄ、溝幅ｄ、ピッチ
幅Ｗとすると、溝のない場合（従来の連続膜形磁気ディ
スクに比べ、ｃ １−ｉ）である。
幅Ｗとすると、溝のない場合（従来の連続膜形磁気ディ
スクに比べ、ｃ １−ｉ）である。
また、溝幅が０．５μｍ以下の場合は、製造が困難であ
り、深さの浅い溝しか形成できず効果が少い。また、３
μｍ以上の溝幅にすると再生信号出力が低下する。
り、深さの浅い溝しか形成できず効果が少い。また、３
μｍ以上の溝幅にすると再生信号出力が低下する。
また、トラックピッチは２μｍ以下にすることも製造が
難しく、かつそれに応じて溝幅を狭くしなければならず
、溝も浅くなり、潤滑剤滞溜効果が小さい。また、２０
μｍ以上になると、現実ヘッドの記録トラック幅と同様
の値となり、部分的に溝なしの部分に記録する場合が発
生するため、ノイズになり好ましくない。
難しく、かつそれに応じて溝幅を狭くしなければならず
、溝も浅くなり、潤滑剤滞溜効果が小さい。また、２０
μｍ以上になると、現実ヘッドの記録トラック幅と同様
の値となり、部分的に溝なしの部分に記録する場合が発
生するため、ノイズになり好ましくない。
〈発明の効果〉
以上の説明から明らかなように、本発明によるときは、
■ 磁気ディスクの回転開始時に発生する静止摩擦係数
が小さく、磁気ディスクの回転が円滑に行われるだけで
なく、磁気ヘッドに与える衝撃も小さくなるので、ヘッ
ドの耐久性モ向上する。
が小さく、磁気ディスクの回転が円滑に行われるだけで
なく、磁気ヘッドに与える衝撃も小さくなるので、ヘッ
ドの耐久性モ向上する。
■ 磁気ディスク面上に、多数の溝が周期的かつ規則的
に分布して形成されているため、ディスク面上に滞溜し
た潤滑剤は、その滞溜場所近傍の溝に流動吸収され、デ
ィスク面全体に均一な潤滑層を形成するので、ディスク
面の潤滑性が向上するなどの効果がある。
に分布して形成されているため、ディスク面上に滞溜し
た潤滑剤は、その滞溜場所近傍の溝に流動吸収され、デ
ィスク面全体に均一な潤滑層を形成するので、ディスク
面の潤滑性が向上するなどの効果がある。
第１図は実施例の基板面溝形成に使用した電子ビームカ
ッタ装置の斜視図、第２図（ａ）および（ｂ）はそれぞ
れ、実施例の溝形成基板の平面図およびそのＡ−Ａ矢視
図、第３図は実施例の磁気ディスク作製に使用した真空
蒸着装置の断面図、第４図は第２図（ａ） 、 （ｂ）
に示す基鈑上に形成した連続膜形磁気記録層の状態を示
す要部断面図、第５図（ａ）および（ｂ）はそれぞれ、
溝を形成した他の実施例の平面図およびそのＣ−Ｃ矢視
断面図、第６図は実施例の磁気ディスク面の潤滑状態を
示す要部拡大断面図である。 図面中、 １は基板、 ６．１６は溝、 １３はｒ−Ｆｅ２０．蒸着層、 １４は潤滑層、である。 特許出願人 日本電信電話公社 代理人 弁理士 光 石 士 部 （他１名） し 第３図 ７ １ １１ ＼−１１ＪＩ ＼ ＼ １１ Ｉ Ｉ／ ＼Ｎ１１ｌ。 ＼＼ｍｔ ｌ １ ０ ９
ッタ装置の斜視図、第２図（ａ）および（ｂ）はそれぞ
れ、実施例の溝形成基板の平面図およびそのＡ−Ａ矢視
図、第３図は実施例の磁気ディスク作製に使用した真空
蒸着装置の断面図、第４図は第２図（ａ） 、 （ｂ）
に示す基鈑上に形成した連続膜形磁気記録層の状態を示
す要部断面図、第５図（ａ）および（ｂ）はそれぞれ、
溝を形成した他の実施例の平面図およびそのＣ−Ｃ矢視
断面図、第６図は実施例の磁気ディスク面の潤滑状態を
示す要部拡大断面図である。 図面中、 １は基板、 ６．１６は溝、 １３はｒ−Ｆｅ２０．蒸着層、 １４は潤滑層、である。 特許出願人 日本電信電話公社 代理人 弁理士 光 石 士 部 （他１名） し 第３図 ７ １ １１ ＼−１１ＪＩ ＼ ＼ １１ Ｉ Ｉ／ ＼Ｎ１１ｌ。 ＼＼ｍｔ ｌ １ ０ ９
Claims (2)
- （１）基板上に、表面に周期的かつ規則的に分布した溝
を形成した連続膜形磁気記録層を設けたことを特徴とす
る磁気ディスク。 - （２）基板上に、表面に周期的かつ規則的に分布す溝を
形成した連続膜形磁気記録層を設けるとともに、当該連
続膜形磁気記録層表面の溝内に潤滑剤を滞溜せしめ、磁
気ディスク面を潤滑化することを特徴とする磁気ディス
クの潤滑方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4566884A JPS60191432A (ja) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | 磁気デイスクおよびその潤滑方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4566884A JPS60191432A (ja) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | 磁気デイスクおよびその潤滑方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60191432A true JPS60191432A (ja) | 1985-09-28 |
Family
ID=12725762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4566884A Pending JPS60191432A (ja) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | 磁気デイスクおよびその潤滑方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60191432A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0744861A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-14 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| KR100449848B1 (ko) * | 1996-02-29 | 2004-12-03 | 소니 가부시끼 가이샤 | 자기디스크 |
-
1984
- 1984-03-12 JP JP4566884A patent/JPS60191432A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0744861A (ja) * | 1993-07-29 | 1995-02-14 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| KR100449848B1 (ko) * | 1996-02-29 | 2004-12-03 | 소니 가부시끼 가이샤 | 자기디스크 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63220420A (ja) | 記録媒体およびその製造方法 | |
| EP0206115A2 (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS60191432A (ja) | 磁気デイスクおよびその潤滑方法 | |
| JP2626051B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02179917A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0319602B2 (ja) | ||
| JP2987406B2 (ja) | 被膜形成方法及び形成装置 | |
| JPH01229419A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6326826A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63206912A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH10105945A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0226294B2 (ja) | ||
| JPS60119638A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法およびその装置 | |
| JPS60119635A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS63183607A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS5942641A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01166334A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS60229236A (ja) | 磁気テ−プの製造方法及びその装置 | |
| JPS63184912A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS59175019A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH01263937A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59175030A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0721951B2 (ja) | テープカセットおよびその滑りシートの製造方法 | |
| JPH01243220A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH1180954A (ja) | 薄膜形成方法および薄膜形成装置 |