JPS6362656A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6362656A JPS6362656A JP61205042A JP20504286A JPS6362656A JP S6362656 A JPS6362656 A JP S6362656A JP 61205042 A JP61205042 A JP 61205042A JP 20504286 A JP20504286 A JP 20504286A JP S6362656 A JPS6362656 A JP S6362656A
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 42
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 42
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 claims abstract description 35
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 abstract description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 abstract description 2
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 abstract description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 abstract description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 abstract description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 abstract 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 11
- -1 Polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 2-cyanobenzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1C#N TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020707 Co—Pt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020514 Co—Y Inorganic materials 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229910017061 Fe Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021360 Myristic acid Nutrition 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018054 Ni-Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018481 Ni—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018559 Ni—Nb Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000001007 puffing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/8408—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers protecting the magnetic layer
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、特にドロッ
プアウト及び工’;”V−)が小さく、走行性に優れた
金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関するO 〔従来の技術〕 酸化鉄系磁性粉末を各種・々インダー中に分散せしめて
塗布したいわゆる「塗布型」磁気記録媒体の使用が一般
的であった。これに対し記録密度高密度化のため記録波
長を減少させトラック幅を狭(するといった方向へと磁
気記録媒体への要求は厳しくなっており、結果、短波長
記録に本質的に適した「金属薄膜型」磁気記録媒体の開
発が進行中でかつ一部実用に供されている。
プアウト及び工’;”V−)が小さく、走行性に優れた
金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関するO 〔従来の技術〕 酸化鉄系磁性粉末を各種・々インダー中に分散せしめて
塗布したいわゆる「塗布型」磁気記録媒体の使用が一般
的であった。これに対し記録密度高密度化のため記録波
長を減少させトラック幅を狭(するといった方向へと磁
気記録媒体への要求は厳しくなっており、結果、短波長
記録に本質的に適した「金属薄膜型」磁気記録媒体の開
発が進行中でかつ一部実用に供されている。
ところで短記録波長、狭トラツクという方向は信号の欠
落、即ちPロップアウトあるいはディジタル用途ではエ
ラーレートにもより厳しくなる方向でもある。例えばテ
ープ使用のシステムとして8〜ビデオを考えると、実用
的な)%oツブ・アウトレベルとしては−1sdB落ち
のドロップ・アウトで毎分20個程度以下が必要とされ
る。ここで磁性層が数μ程度と厚い「塗布型」媒体の掛
合、基体上欠陥、ゴミ等が存在しても塗布によるスムー
ジング、塗布後のカレンダ一工程等でその欠陥、ゴミが
かくされ信号欠落とならないことがままある。これに対
し、磁性層厚が0.05〜05μ程度と薄い「金属薄膜
型」媒体では基体上の欠陥がそのまま磁性層表面上にも
欠陥として出現し、かつ塗布型媒体でのカレンダ一工程
のようなものが存在しないことから、信号欠落特性につ
いてはより注意を払う必要がある。
落、即ちPロップアウトあるいはディジタル用途ではエ
ラーレートにもより厳しくなる方向でもある。例えばテ
ープ使用のシステムとして8〜ビデオを考えると、実用
的な)%oツブ・アウトレベルとしては−1sdB落ち
のドロップ・アウトで毎分20個程度以下が必要とされ
る。ここで磁性層が数μ程度と厚い「塗布型」媒体の掛
合、基体上欠陥、ゴミ等が存在しても塗布によるスムー
ジング、塗布後のカレンダ一工程等でその欠陥、ゴミが
かくされ信号欠落とならないことがままある。これに対
し、磁性層厚が0.05〜05μ程度と薄い「金属薄膜
型」媒体では基体上の欠陥がそのまま磁性層表面上にも
欠陥として出現し、かつ塗布型媒体でのカレンダ一工程
のようなものが存在しないことから、信号欠落特性につ
いてはより注意を払う必要がある。
本発明は以上の状況のもとになされたもので、その目的
とするところは信号欠落特性の改善された、言い換えれ
ばドロップ・アウトが少な(、エラーレートの小さい金
属薄膜型磁気記録媒体の製造方法を提供することである
。更に走行特性の改良された金属薄膜型磁気記録媒体の
製造方法を提供することである。
とするところは信号欠落特性の改善された、言い換えれ
ばドロップ・アウトが少な(、エラーレートの小さい金
属薄膜型磁気記録媒体の製造方法を提供することである
。更に走行特性の改良された金属薄膜型磁気記録媒体の
製造方法を提供することである。
本発明は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜あるいは合
金薄膜を設けた金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法にお
いて、非磁性基体上に強磁性金属薄膜あるいは合金薄膜
を形成した後、その表面を不織布によってdフ処理する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
金薄膜を設けた金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法にお
いて、非磁性基体上に強磁性金属薄膜あるいは合金薄膜
を形成した後、その表面を不織布によってdフ処理する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。
本発明で用いられる非磁性支持体は可と5性のものでも
非再とう件のもののいずれでもよく、前者はテープ、後
者はディスクなどの形状で用いられ、非磁性可とう性支
持体としては酢酸セルローズ;硝酸セルローズ;エチル
セルローズ;メチルセルローズ;ポリアミド;ポリメチ
ルメタクリレート;ポリテトラフルオルエチレン;ポリ
トリフルオルエチレン;エチレン、フロピレンのヨウナ
α−オレフィンの重合体あるいは共重合体;塩化ビニル
の重合体あるいは共重合体;ポリ塩化ビニリデン;ポリ
カーボネート;ポリイミr:ポリエチレンテレフタレー
トのようなポリエステル類等が用いられるが、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリアミr1ボリイミPからなる
プラスチック製支持体が好適である。支持体の厚さは4
〜50μmが好ましい。また強磁性金属薄膜あるいは合
金薄膜(以下両薄膜を単に「金属薄膜」という)の密着
向上・磁気特性の改良の為に支持体上に下地層を設けて
もよい。その支持体の上に設けられる強磁性金属薄膜の
材料どしては鉄、コ・2ルト、ニッケルその他の強磁性
金属あるいはFe −Co 、 Fe−Ni 、 Co
−Ni 、 Fe −Rh 、 Co−P 、 Co
−B、 Co −Y 、 Co −La 、 Co−C
e 、 Co −Pt 、 C。
非再とう件のもののいずれでもよく、前者はテープ、後
者はディスクなどの形状で用いられ、非磁性可とう性支
持体としては酢酸セルローズ;硝酸セルローズ;エチル
セルローズ;メチルセルローズ;ポリアミド;ポリメチ
ルメタクリレート;ポリテトラフルオルエチレン;ポリ
トリフルオルエチレン;エチレン、フロピレンのヨウナ
α−オレフィンの重合体あるいは共重合体;塩化ビニル
の重合体あるいは共重合体;ポリ塩化ビニリデン;ポリ
カーボネート;ポリイミr:ポリエチレンテレフタレー
トのようなポリエステル類等が用いられるが、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリアミr1ボリイミPからなる
プラスチック製支持体が好適である。支持体の厚さは4
〜50μmが好ましい。また強磁性金属薄膜あるいは合
金薄膜(以下両薄膜を単に「金属薄膜」という)の密着
向上・磁気特性の改良の為に支持体上に下地層を設けて
もよい。その支持体の上に設けられる強磁性金属薄膜の
材料どしては鉄、コ・2ルト、ニッケルその他の強磁性
金属あるいはFe −Co 、 Fe−Ni 、 Co
−Ni 、 Fe −Rh 、 Co−P 、 Co
−B、 Co −Y 、 Co −La 、 Co−C
e 、 Co −Pt 、 C。
−8m、Co−Cr 、Fe−Co −Ni 、Co
−Ni −P。
−Ni −P。
Co −Ni−B 、 Co−Ni −Ag 、
Co−Ni −Nb 。
Co−Ni −Nb 。
Co−N1−Ce 、 Co −Ni −Zn 、
Co−Ni −Cu、 Co −Ni −W、 Co
−Ni −Re 等の強磁性合金を電気メッキ、無電
解メッキ、気相メッキ、スパッタリング、蒸着、イオン
ブレーティング等の方法により形成せしめたもので、そ
の膜厚は磁気記録媒体として使用する潟合0.02〜2
μmの範囲であり、特に0.05〜0.4μmの範囲が
望ましい。
Co−Ni −Cu、 Co −Ni −W、 Co
−Ni −Re 等の強磁性合金を電気メッキ、無電
解メッキ、気相メッキ、スパッタリング、蒸着、イオン
ブレーティング等の方法により形成せしめたもので、そ
の膜厚は磁気記録媒体として使用する潟合0.02〜2
μmの範囲であり、特に0.05〜0.4μmの範囲が
望ましい。
上記の強磁性金属薄膜は他にO、N 、 Cr 、 G
a、 As 、 Sr 、 Zr 、 Nb 、 Mo
、 Rh 、 Pd 、 Sn 。
a、 As 、 Sr 、 Zr 、 Nb 、 Mo
、 Rh 、 Pd 、 Sn 。
Sb 、 Te 、 Pm 、 Re 、 Os 、
Ir 、 Au 、 Hg 、 Pb、 Bj 等を
含んでいてもよい。
Ir 、 Au 、 Hg 、 Pb、 Bj 等を
含んでいてもよい。
また、必要に応じ下地層、下塗層を設けたりあるいは金
属薄膜層を多層化することも任意である。
属薄膜層を多層化することも任意である。
この金属薄膜上に公知の液体あるいは固体潤滑剤を配す
るか、あるいは酸化シリコンの保護膜を設けることによ
り保護層を設けることも可能である。更にテープ状媒体
においては基体の金属薄膜層を設けた逆側に走行性改良
のため・々ツクコート層を設けることも通常行われてい
る通りである。
るか、あるいは酸化シリコンの保護膜を設けることによ
り保護層を設けることも可能である。更にテープ状媒体
においては基体の金属薄膜層を設けた逆側に走行性改良
のため・々ツクコート層を設けることも通常行われてい
る通りである。
前記の潤滑剤を配するさいには公知の液体あるいは固体
潤滑剤のいずれをも用いられるが、例えばミリスチン酸
、ノミルミチン酸、ステアリン酸などが用いられる。
潤滑剤のいずれをも用いられるが、例えばミリスチン酸
、ノミルミチン酸、ステアリン酸などが用いられる。
本発明における不織布による・々フ処理は、金属薄膜型
磁気記録媒体をその表面が不織布と接触しながら相対運
動させることにより行うものであり、具体的には磁気記
録媒体と不織布とが互に逆方向に運動することにより行
われ、磁気記録媒体の金属薄膜の表面がそれに接触する
不織布により摺動されて平滑処理されるものであって、
それによりドロップアウト及びエラーレートが少な(な
り、走行性が改善される。このパフ処理に用いる処理材
は何でもよいわけではなく、不織布を用いることにより
良好な結果が得られたものである。
磁気記録媒体をその表面が不織布と接触しながら相対運
動させることにより行うものであり、具体的には磁気記
録媒体と不織布とが互に逆方向に運動することにより行
われ、磁気記録媒体の金属薄膜の表面がそれに接触する
不織布により摺動されて平滑処理されるものであって、
それによりドロップアウト及びエラーレートが少な(な
り、走行性が改善される。このパフ処理に用いる処理材
は何でもよいわけではなく、不織布を用いることにより
良好な結果が得られたものである。
本発明における不織布によるパフ処理を以下において具
体的に説明する。まず、第1図に本発明の・々)処理で
使用される装置の一例を示す。この構成は、両面に強磁
性金属薄膜を形成し終えた磁気記録媒体(テープ)を送
り出しリール1より0.5〜15m/分 の速度で送り
出し、不織布でノ々フ処理した後巻き取りリール2に巻
き取るというものであるが、その間にこの例では必要に
応じ4ケ所でパフ処理が可能である。4−1 、4−2
。
体的に説明する。まず、第1図に本発明の・々)処理で
使用される装置の一例を示す。この構成は、両面に強磁
性金属薄膜を形成し終えた磁気記録媒体(テープ)を送
り出しリール1より0.5〜15m/分 の速度で送り
出し、不織布でノ々フ処理した後巻き取りリール2に巻
き取るというものであるが、その間にこの例では必要に
応じ4ケ所でパフ処理が可能である。4−1 、4−2
。
4−3.4−4はいずれも0〜10m/分の速度で不織
布を走行せしめ、記録媒体と接触させながら相対運動を
起こさせるに際してのガイrであり、不織布5は図のよ
うに送り出しリール6から巻き取りリール7へと移動す
るに際しガイr4−3の部分において記録媒体と接触相
対運動を行なう。
布を走行せしめ、記録媒体と接触させながら相対運動を
起こさせるに際してのガイrであり、不織布5は図のよ
うに送り出しリール6から巻き取りリール7へと移動す
るに際しガイr4−3の部分において記録媒体と接触相
対運動を行なう。
不織布と記録媒体とは軽(接触する程度でよい。
なお、図では省略されているが、4−1.4.−2.4
−4の各ガイ1部においてもガイP4−3と同様の機構
を有しているものである。ガイrは不織布を記録媒体に
接触させるために凸状の曲面をもつ形状を有することが
必要で、その断面は円状又は楕円状で、不織布の接触面
積を大きくするためには図のように楕円状のものが好ま
しいが、円状の場合にはガイPを回転させるようにして
もよ℃ト 金属薄膜型磁気記録媒体と不織布との接触相対運動は、
相対的に運動すればよいから、同方向に移動する場合も
含まれるが、その場合には両者の速度差が小さくなり易
いので、第1図でも示した通り記録媒体と不織布とを互
いに逆方向に運動させた時本発明の効果はより大きいも
のである。使用する不織布としてはポリエステルあるい
はポリウレタン含浸ポリエステル(例:商品名バイリー
ン(日本バイリーン■製)、商品名工クセーヌ(東し■
製))、ポリエステル士ナイロン(例:商品名ザピーナ
(鐘紡■製〕)等からつくられたものが効果が大きい。
−4の各ガイ1部においてもガイP4−3と同様の機構
を有しているものである。ガイrは不織布を記録媒体に
接触させるために凸状の曲面をもつ形状を有することが
必要で、その断面は円状又は楕円状で、不織布の接触面
積を大きくするためには図のように楕円状のものが好ま
しいが、円状の場合にはガイPを回転させるようにして
もよ℃ト 金属薄膜型磁気記録媒体と不織布との接触相対運動は、
相対的に運動すればよいから、同方向に移動する場合も
含まれるが、その場合には両者の速度差が小さくなり易
いので、第1図でも示した通り記録媒体と不織布とを互
いに逆方向に運動させた時本発明の効果はより大きいも
のである。使用する不織布としてはポリエステルあるい
はポリウレタン含浸ポリエステル(例:商品名バイリー
ン(日本バイリーン■製)、商品名工クセーヌ(東し■
製))、ポリエステル士ナイロン(例:商品名ザピーナ
(鐘紡■製〕)等からつくられたものが効果が大きい。
また、第2図にはテープ状磁気記録媒体ではなくディス
ク状磁気記録媒体に対する不織布によるノ々フ処理の一
例を示す。この方式ではディスク8を回転しつつガイド
11に沿って矢印方向に運動する不織布10とガイド下
部において接触相対運動を行なうものである。不織布1
0は送り出しローラ9から送り出され巻き取りローラ]
2へト巻き取られる。
ク状磁気記録媒体に対する不織布によるノ々フ処理の一
例を示す。この方式ではディスク8を回転しつつガイド
11に沿って矢印方向に運動する不織布10とガイド下
部において接触相対運動を行なうものである。不織布1
0は送り出しローラ9から送り出され巻き取りローラ]
2へト巻き取られる。
次に具体例をもって本発明の一実施形態ならびにその結
果を説明する。
果を説明する。
厚さ12μmのポリエチレンテレフタレート基体上に通
常の巻取式斜め蒸着の手法でC08ON ! 20の部
分酸化金属薄膜を形成した。すなわち、Co88N1□
。合金を電子ビームで加熱蒸発させ、入射角θ、−35
°の斜め蒸着にて膜厚16001の膜を作成した。ここ
で製膜中に真空槽内の真空度がto ×104Torr
となるよう酸素ガスを導入して金属薄膜を部分酸化した
。こうして得られた媒体の金属薄膜層を設けていない基
体の逆側に走行性改善のためノ々ツク・コーティング層
を塗布し、かつ金属薄膜層の上面にはミリスチン酸を、
その存在量が6η/RとなるようにMEK (メチル・
エチル・ケトン)に希釈溶解させて塗布乾燥させた。
常の巻取式斜め蒸着の手法でC08ON ! 20の部
分酸化金属薄膜を形成した。すなわち、Co88N1□
。合金を電子ビームで加熱蒸発させ、入射角θ、−35
°の斜め蒸着にて膜厚16001の膜を作成した。ここ
で製膜中に真空槽内の真空度がto ×104Torr
となるよう酸素ガスを導入して金属薄膜を部分酸化した
。こうして得られた媒体の金属薄膜層を設けていない基
体の逆側に走行性改善のためノ々ツク・コーティング層
を塗布し、かつ金属薄膜層の上面にはミリスチン酸を、
その存在量が6η/RとなるようにMEK (メチル・
エチル・ケトン)に希釈溶解させて塗布乾燥させた。
こうして得られた記録媒体原反な8〜幅にスリットし、
第1図に示したのと同様な装置で記録媒体の金属薄膜層
を設けた側にのみガイPを設けてその側のみでノ々フ処
理をするようにした装置により不織布によるパフ処理を
行った。不織布としては東し■製、商品名「エクセーヌ
」を使用した。
第1図に示したのと同様な装置で記録媒体の金属薄膜層
を設けた側にのみガイPを設けてその側のみでノ々フ処
理をするようにした装置により不織布によるパフ処理を
行った。不織布としては東し■製、商品名「エクセーヌ
」を使用した。
こうして得られたテープを8xカセツトに組み込んで、
ドロップアウト測定ならびに摩擦係数測定を行なった。
ドロップアウト測定ならびに摩擦係数測定を行なった。
ドロップ・アウト測定は市販のビデオレコーダー(富士
写真フィルム■FUJIX−8)でテープを走行させつ
つ15μsec 18dBのドロップ・アウトの1分
間の発生個数をカウントした。また摩擦係数は5US4
20Jステンレスボールガイドに対するIEC式摩擦係
数を100pass走行にて測定した。
写真フィルム■FUJIX−8)でテープを走行させつ
つ15μsec 18dBのドロップ・アウトの1分
間の発生個数をカウントした。また摩擦係数は5US4
20Jステンレスボールガイドに対するIEC式摩擦係
数を100pass走行にて測定した。
第1表に測定結果を示す。
第1表
以上の測定結果にみられるように、本発明によればドロ
ップアウト数が少なく、かつ摩擦係数の小さい磁気記録
媒体が得られるものであるが、ノ々フ処理は不織布によ
って行うことが必要であり、何の素材でノ々フ処理して
も同様の効果が得られるわけではない。
ップアウト数が少なく、かつ摩擦係数の小さい磁気記録
媒体が得られるものであるが、ノ々フ処理は不織布によ
って行うことが必要であり、何の素材でノ々フ処理して
も同様の効果が得られるわけではない。
〔発明の効果〕
本発明によればドロップアウト等の信号欠落を大幅に改
善することが可能である。また、摩擦係数の低下もみら
れ走行性改良にも効果がある。
善することが可能である。また、摩擦係数の低下もみら
れ走行性改良にも効果がある。
金属薄膜型磁気記録媒体と不織布との接触相対運動にお
いて、記録媒体上の金属薄膜の表面を不織布と接触しな
がら相対運動させることにより、金属薄膜の表面を不織
布が摺動することにより平滑処理などが行われてドロッ
プアウト及びエラーレートが小さくなるものとみられる
が、その詳細な機構は不明である。
いて、記録媒体上の金属薄膜の表面を不織布と接触しな
がら相対運動させることにより、金属薄膜の表面を不織
布が摺動することにより平滑処理などが行われてドロッ
プアウト及びエラーレートが小さくなるものとみられる
が、その詳細な機構は不明である。
また、磁気記録媒体の金属表面上に保護層を設げたさい
には潤滑剤などにより走行特性の改善などの効果を生ず
る。
には潤滑剤などにより走行特性の改善などの効果を生ず
る。
第1図、第2図共に本発明による磁気記録媒体の製造方
法を図式的に示している。 イスク状媒体、10・不織布、11・・・ガイド、
1ニーに5’ 第 1 面
法を図式的に示している。 イスク状媒体、10・不織布、11・・・ガイド、
1ニーに5’ 第 1 面
Claims (4)
- (1)非磁性支持体上に強磁性金属薄膜あるいは合金薄
膜を設けた金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法において
、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜あるいは合金薄膜を
形成した後、その表面を不織布によつてバフ処理するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (2)非磁性支持体上に強磁性金属薄膜あるいは合金薄
膜を形成し、更にその表面上に保護層を設けた後、その
表面を不織布によつてバフ処理することを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体の製造方法。 - (3)強磁性金属薄膜あるいは合金薄膜の表面を不織布
によつてバフ処理するにさいして、金属薄膜型磁気記録
媒体をその表面が不織布と接触しながら相対運動させる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載
の磁気記録媒体の製造方法。 - (4)強磁性金属薄膜あるいは合金薄膜の表面を不織布
によつてバフ処理するにさいして、金属薄膜型磁気記録
媒体をその表面が不織布と接触しながら互いに逆方向に
運動させることを特徴とする特許請求の範囲第1〜3項
のいずれかに記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61205042A JPS6362656A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | 磁気記録媒体の製造方法 |
US07/449,339 US4983421A (en) | 1986-09-02 | 1989-12-13 | Method for producing magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61205042A JPS6362656A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6362656A true JPS6362656A (ja) | 1988-03-18 |
Family
ID=16500484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61205042A Pending JPS6362656A (ja) | 1986-09-02 | 1986-09-02 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4983421A (ja) |
JP (1) | JPS6362656A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996027188A1 (fr) * | 1995-02-28 | 1996-09-06 | Sony Corporation | Procede de polissage superficiel d'un support d'enregistrement magnetique et appareil de polissage superficiel |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5307593A (en) * | 1992-08-31 | 1994-05-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of texturing rigid memory disks using an abrasive article |
JP3150898B2 (ja) * | 1996-02-19 | 2001-03-26 | 日本ミクロコーティング株式会社 | 表面にアモルファス−ニッケル−リンから成る被膜層を形成して成る被加工物の加工方法 |
US6168831B1 (en) * | 1998-05-22 | 2001-01-02 | Hyundai Electronics America | Apparatus for differential zone lubrication of magnetic recording media and related methods |
JP4149679B2 (ja) * | 2001-02-28 | 2008-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
US6908362B2 (en) * | 2001-03-02 | 2005-06-21 | Superpower, Inc | Reel-to-reel substrate tape polishing system |
US9245542B1 (en) | 2015-07-28 | 2016-01-26 | Seagate Technology Llc | Media cleaning with self-assembled monolayer material |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6076954A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-05-01 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気デイスク研摩装置 |
JPS6116586A (ja) * | 1984-06-08 | 1986-01-24 | フアインメカニツシエ・ウエルケ・ハーレ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング | 高出力炭酸ガスレ−ザ−光線の外部変調器 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4815009B1 (ja) * | 1969-11-26 | 1973-05-11 | ||
JPS549488B2 (ja) * | 1971-09-16 | 1979-04-25 | ||
DE2803914A1 (de) * | 1978-01-30 | 1979-08-02 | Basf Ag | Verfahren und anordnung zum glaetten der oberflaeche von schichtaufzeichnungstraegern |
JPS60155668A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-15 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 磁気記憶媒体表面に炭化水素保護膜を形成する方法 |
-
1986
- 1986-09-02 JP JP61205042A patent/JPS6362656A/ja active Pending
-
1989
- 1989-12-13 US US07/449,339 patent/US4983421A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6076954A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-05-01 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気デイスク研摩装置 |
JPS6116586A (ja) * | 1984-06-08 | 1986-01-24 | フアインメカニツシエ・ウエルケ・ハーレ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング | 高出力炭酸ガスレ−ザ−光線の外部変調器 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996027188A1 (fr) * | 1995-02-28 | 1996-09-06 | Sony Corporation | Procede de polissage superficiel d'un support d'enregistrement magnetique et appareil de polissage superficiel |
US5876270A (en) * | 1995-02-28 | 1999-03-02 | Sony Corporation | Method and apparatus for polishing surface of magnetic recording medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4983421A (en) | 1991-01-08 |
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