JPS6383921A

JPS6383921A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPS6383921A
Application number: JP22843686A
Authority: JP
Inventors: Akio Yanai; 矢内　明郎; Yasuro Nishikawa; 西川　康郎
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1986-09-29
Filing date: 1986-09-29
Publication date: 1988-04-14

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、特に走行耐
久性に優れ、出力変動が少ない金属薄膜型磁気記録媒体
の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

従来オーディオ用、ビデオ用あるいはコンピュータ用等
の磁気記録媒体としては非磁性支持体上に酸化鉄系磁性
粉末を各種ノ々インダー中に分散せしめて塗布した、い
わゆる「塗布型」磁気記録媒体の使用が一般的であった
。これに対し記録密度高密度化のため記録波長を減少さ
せトラック幅を狭くするといった方向へと磁気記録媒体
への要求は厳しくなっており、結果、短波長記録に本質
的に適した「金属薄膜型」磁気記録媒体の開発が進行中
でかつ一部実用に供されている。

そして、この金属薄膜型磁気記録体の特性を改善するた
め種々研究され、その一つとして高温ないし高湿下に於
いても磁性層表面に錆がほとんど発生せず、磁気特性の
経口変化を少なくするために強磁性金属薄膜にメルカプ
ト基を有する化合物を主成分とする防錆剤を付着させる
ことが提案されている（特開昭６１−８２３２４号公報
）。

また、磁性層が数μ程度と厚い「塗布型」記録媒体の場
合、支持体上欠陥、ゴミ等が存在しても塗布によるスム
ージング、塗布後のカレンダー工程等でその欠陥、ゴミ
等がかくされ、それらＫよる障害が出ないことがままあ
る。これに対し、磁性層の厚さが０．０５〜０．５μｍ
程度と薄い「金属薄膜型」記録媒体では支持体上の欠陥
がそのまま磁性層表面上に表われてしまうものである。

さらに、金属薄膜型磁気記録媒体では非磁性支持体上に
金属薄膜あるいは合金薄膜を真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンブレーティング法、メッキ法等の手法を用
いて直接形成されるが、「塗布型」記録媒体と違って塗
布後のカレンダー工程を経ないためＫ、それに比して走
行耐久性などが劣っていた。

前記、メルカプト基を有する化合物を保護潤滑層に使用
した場合、防錆作用およびスチル耐久性の向上はみられ
るものの、静止摩擦力が大きく、かつ動摩擦力の変動が
大きいことによる走行耐久性に難があること、またいわ
ゆるヘッド目詰りによる出力変動が大きいという欠点が
ある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は以上の状況のもとになされたもので、その目的
とするところは走行耐久性が優れ、かつ出力変動を生ず
ることが少ない金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法を提
供することである。

〔発明の構成〕

本発明は、非磁性支持体上に強磁性金属薄膜あるいは合
金薄膜（以下両者を単に「金属薄膜」という）を設け、
その上にメルカプト基を有する化合物を含有する保護潤
滑層を設けた後、該保護潤滑層の表面を不織布によって
バフ処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
である。

本発明で用いられる非磁性支持体は可とり性のものでも
非再とり性のもののいずれでもよく、前者はテープ、後
者はディスクなどの形状で用いられ、非磁性可とう性支
持体としては酢酸セルロー、＜　ｓ　硝酸セルロース寡
エチルセルローズＢメチルセルローズ富ポリアミド；ポ
リメチルメタクリレート募ポリテトラフルオルエチレン
；ポリトリフルオルエチレン寥エチレン、フロピレンの
ヨリナα−オレフィンの重合体あるいは共重合体重塩化
ビニルの重合体あるいは共重合体ｉポリ塩化ビニリデン
寡ポリカーｉネート８プリイミド寡ポリエチレンテレフ
タレートのようなポリエステル類等が用いられるが、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミドか
らなるプラスチック製支持体が好適である。

その支持体の上に設けられる強磁性金属薄膜の材料とし
ては鉄、コ・々ルト、ニッケルその他の強磁性金属あル
イはＦｅ−Ｃｏ、　Ｆ’ｅ−Ｎｉ、　Ｃｏ−Ｎｉ、　Ｆ
ｅ−Ｒｈ、Ｇｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｂ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ
、Ｃｏ−Ｃｅ。

Ｇｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−８ｍ、Ｃｏ−Ｍｎ、Ｃｏ−０ｒ、Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｂ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ａｇ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｎｄ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｅ
、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｚｎ、Ｇｏ−Ｎｉ−Ｃｕ。

Ｃｏ−Ｎ１−Ｗ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｒｅ等の強磁性合金ラミ
気メッキ、無電解メッキ、気相メッキ、スパッタリング
、蒸着、イオンブレーティング等の方法により形成せし
めたもので、その膜厚は磁気記録媒体として使用する場
合０．０２〜２μｍの範囲であり、特に０．０５〜０．
４μｍの範囲が望ましい。

上記の強磁性金属薄膜は他にＯ，Ｎ、　Ｃｒ、　Ｃａ。

Ａｓ、Ｓｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｓｎ、Ｓ
ｂ。

Ｔｅ、Ｐｍ、Ｒｅ、Ｏｓ、　工ｒ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、
Ｂｉ等を含んでいてもよい。

また、必要に応じ下地層、下塗層を設けたり、あるいは
金属薄膜層を多層化することも任意である。

上記したところにより強磁性金属薄膜を形成した後、そ
の上にメルカプト基を有する化合物を含有する保護潤滑
層を設ける。

本発明において使用されるメルカプト基を有する化合物
は飽和または不飽和の置換または未置換の炭化水素基を
有するメルカプト化合物が一般的であり、環状構造を有
してもよいが、中でも比較的分子量が大きく、揮発性の
少ない有機化合物が好結果をもたらす。特に好ましいも
のはＲ１−Ｘ−Ｙ−Ｒ”（Ｒ’　とＲ２は置換または未
置換の炭化水素基でさらに　Ｒ１、Ｒ２の少なくとも一
方はメルカプト基で置換された炭化水素基である。Ｘは
一〇〇−、−８ｏ２＋、−ｏｓｏ２＋、−ｐｏ（ＯＨ）
＋、−ｐ。

（ＯＲ３）　−ｓ　Ｙｉｄ−ＮＨ＋、　−ＮＲ’　＋、
　−ｏ　−＋　Ｒ３ハ置換又は未置換の炭化水素基ｓＲ
’は置換又は未置換の炭化水素基）で表わされるエステ
ルまたはアミド化合物あるいはフッ化アルキル基を有す
るメルカプト化合物等が好ましい。

これらのうち好ましいものしては、β−メルカプトプロ
ピオン酸４ヘニル、β−メルカプトプロピオン酸オクタ
デシル、β−メルカプトプロピオン酸ドデシル、β−メ
ルカプトプロピオン酸オクチル、β−メルカプトプロピ
オン酸オレイル、チオグリコール酸ベヘニル、チオグリ
コール酸オクタデシル、チオグリコール酸ドデシル、チ
オグリコール酸オクチル、チオグリコール酸オレイル、
チオサリチル酸ベヘニル、チオサリチル酸オクタデシル
、チオサリチル酸ドデシル、チオサリチル酸オクチル、
チオサリチル酸メチル、チオサリチル酸オレイル、ステ
アリン酸２−メルカプトエチル、オレイン酸２−メルカ
プトエチル、ミリスチン酸２−メルカプトエチル、ラウ
リン酸２−メルカプトエチルがあり、より好ましくはβ
−メルカプトプロピオン酸ベヘニル、β−メルカプトプ
ロピオン酸オクタデシル、β−メルカプトプロピオン酸
ドデシル、β−メルカプトプロピオン酸オレイル、チオ
グリコール酸ベヘニル、チオグリコール酸オクタデシル
、チオグリコール酸ドデシル、チオグリコール酸オレイ
ル、ステアリン酸２−メルカプトエチル、オレイン酸２
−メルカプトエチル、ミリスチン酸２−メルカプトエチ
ル、チオグリコール酸オクタデシルアミド、β−メルカ
プトプロパンスルホン酸オクタデシル、Ｃ，Ｆ’、Ｏ−
φ−Ｃ２Ｈ４ＳＨ（ｌｉＨ７，ｚニレ７２ｖｉ）、等で
ある。

本発明において強磁性金属薄膜の表面に設ける保護潤滑
層には上記の例示にあるメルカプト基を有する化合物の
１種または２種以上のほか一般の潤滑剤を混在させても
よい。

メルカプト基を有する化合物のほかに混入できる潤滑剤
としては、脂肪酸、金属石鹸、脂肪酸アミド、脂肪酸エ
ステル、高級脂肪族アルコール、モノアルキルフォスフ
ェート、ジアルキル７オスフエート、トリアルキルフォ
スフェート、パラフィン類、シリコーンオイル１動植物
油、鉱油、高級脂肪族アミン藤グラファイト、シリカ、
二硫化モリブデン、二硫化タングステン等の無機微粉朱
書ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、エ
チレン−塩化ビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチ
レン等の樹脂微粉末２αオレフイン重合物富常温で液体
の不飽和脂肪族炭化水素、フルオロカーゼン類等があげ
られる。

本発明において、表面保護潤滑層を形成する方法として
は、材料を有機溶剤に溶解して基板に塗布あるいは噴霧
したのち乾燥する方法、材料を熔融して基板に塗着させ
る方法、有機溶剤に材料を溶解した溶液に基板を浸漬し
て材料を基板表面に吸着させる方法、ラングミュア−プ
ロジェット法などにより基板表面に材料の単分子膜を形
成する方法等が挙げられる。

本発明において設ける保護潤滑層の厚み（存在量のこと
をここでは厚みと呼ぶととＫする）は、Ｑ、５ｍｇ／ｍ
”〜１００ｍｇ／ｍ”が好ましく、より好ましくは２ｍ
ｇ／ｍ”〜２０ｍｇ／ｍ”である。厚みが３．５ｍｇ／
ｍ”以下だと均一な膜として形成するのが困難であり、
走行性、耐久性が十分でない。

また厚みが１００ｍｇ／ｍ”以上の場合は、ヘッド−テ
ープ間のスペーシング損失のため電磁変換特性が劣化す
る。

また本発明において、潤滑層の下地金属薄膜との密着を
向上させるために、保護潤滑層を設ける前に下地金属薄
膜表面を脂肪酸などの界面活性剤や各種カップリング剤
で改質しておくこともできる。

また保護潤滑層は１層でもよいし複数の層からなってい
てもよい。

上記したところＫより強磁性金属薄膜の上にメルカプト
基を有する化合物を含有する保護潤滑層を設けた後、不
織布によるバフ処理を行なう。

本発明における不織布によるバフ処理は、金属薄膜型磁
気記録媒体をその表面が不織布と接触しながら相対運動
させるととくより行うものであり、具体的には磁気記録
媒体と不織布とが互に逆方向に運動することにより行わ
れ、磁気記録媒体の金属薄膜の表面がそれに接触する不
織布により摺動されて平滑処理されるものであって、そ
れにより摩擦係数の小さい、ヘッドの目詰りを生ずるこ
との少ない磁気記録媒体が得られる。このＡ７処理に用
いる処理材は何で・もよいわけではなく、不織布を用い
ることにより良好な結果が得られたものである。

本発明における不織布によるバフ処理を以下において具
体的に説明する。まず、第１図に本発明の、２フ処理で
使用される装置の一例を示す。この構成は、両面に強磁
性金属薄膜を形成し終えた磁気記録媒体（テープ）を送
り出しリール１より５〜１５ｍ／分の速度で送り出し、
不織布でパフ処理した後巻き取りリール２に巻き取ると
いうものであるが、その間にこの例では必要に応じ４ケ
所でパフ処理が可能である。４−１．４−２．４−５゜
４−４はいずれも０〜１０ｍ／分の速度で不織布を走行
せしめ、記録媒体と接触させながら相対運動を起こさせ
るに際してのガイドであり、不織布５は図のように送り
出しり−ル６から巻き取りリール７へと移動するに際し
ガイド４−６の部分において記録媒体と接触相対運動を
行なう。不織布と記録媒体とは軽く接触する糧度でよい
。なお、図では省略されているが、４−１．４−２．４
−４の各ガイド部においてもガイド４−３と同様の機構
を有しているものである。ガイドは不織布を記録媒体に
接触させるために凸状の曲面をもつ形状を有することが
必要で、その断面は円状又は楕円状で、不織布の接触面
積を大きくするためには図のように楕円状のものが好ま
しいが、円状の場合にはガイドを回転させるようにして
もよい。

金属薄膜型磁気記録媒体と不織布との接触相対運動は、
相対的に運動すればよいから、同方向に移動する場合も
含まれるが、その場合には両者の速度差が小さくなり易
いので、第１図でも示した通り記録媒体と不織布とを互
いに逆方向に運動させた時本発明の効果はより大きいも
のである。使用する不織布としてはポリエステルおるい
はポリウレタン含浸ポリエステル［例：商品名・々イリ
ーン（日本〕々イリーン（株）製）、商品名工クセーヌ
（束しｅｘｔｏｌ　、ポリエステル＋ナイロン［例：闇
品名ザビーナ（鐘紡＠）製））等からつくられたものが
効果が大きい。

また、第２図にはテープ状磁気記録媒体ではなくディス
ク状磁気記録媒体に対する不織布によるノ々７処理の一
例を示す。この方式ではディスク８を回転しつつガイド
１１に沿って矢印方向に運動する不織布１０とガイド下
部において接触相対運動を行なうものである。不織布は
送り出しローラ９から送り出され巻り取りローラ１２へ
と巻き取られる。

〔実施例〕

次に実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるもではない。

実施例１円筒形キャン１３を有する巻取式蒸着装置（第６図）を
用いて、１２μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィ
ルム１４上にコ／々ルトニッケル磁性膜（Ｃｏ、１ＯＮ
ｉ□。）を厚さ２２００λになるように斜めに蒸着し、
磁気記録媒体の原反を作成した。蒸発源としては３０Ｋ
Ｗの電子ビーム蒸発源１７を用い、ガス導入ボート１８
．１９より０２ガス１６００ｃｃ分流しながらペースの
搬送スピード６０ｍ／分で蒸着した。ベース面の法線に
対する蒸気流の最低入射角θｕ３５度とした。１５は入
射角規制マスク、１６はるつは及び蒸着材料である。こ
の原反の磁性金属薄膜を設けた面にはチオグリコール酸
オクタデシル（Ｌ菫）又は０１１Ｆ１７０　ｃｃＨ，ｃＨ２ＳＨ（Ｌ２　）をメチ
ルエチルケトンに溶解して塗布乾燥した。これらの試料
を８囚幅にスリットし、テープ状試料とした。

こうして得られたテープ状試料を第３図に示したのと同
様な装置で記録媒体の金属薄膜層を設けた側にのみガイ
ドを設けてその側のみでバフ処理をするようＫした装置
により不織布による・々フ処理を行った。不、織布とし
ては東しく株）製、商品名「エクセーヌ」を使用した。

こうして得られたテープをｆ３　ｍ　／　ｍカセットに
組み込んで、摩擦係数測定、出力変動測定などを行った
。

なお、摩擦係数μは５ＵＳ４２０Ｊのφ４ポールに対し
てテープを１．４　ｃｍ／　８で摺ったときの摩擦係数
′、、□０．え７ケ２−１ゆ、−０、（え、５３チル再
生時間を制限する機構は解除）で、スチル再生時の出力
が３ｄＢ劣化するまでの時間を測定評価した。出力変動
は４０℃、８０％ＲＨ下でＶＴＲにてＮＴＳＣカラー信
号を記録したものを１００ノぞス繰返し走行させ、１ノ
ぐスめ１１１００．ξスめの出力変動（ｄＢ）を測定し
た。

第１表以上の夕１ｊ定結果にみられるように、本発明によれば
摩擦係数の小さい、ヘッドの目詰りを生ずることの少な
い磁気記録媒体が得られるものであるが、・セフ処理は
不織布によって行うことが必要であり、何の素材を用い
てもノ々７処理によって同様の効果が得られるわけでは
ない。そして不織布によるノ９フ処理によって磁性記録
媒体表面についたヒミ、金属薄膜形成時に生ずる金属微
粒子などが除かれて、使用時にヘッドを目詰りさせるこ
とが著しく減少させることができるものと考えられる。

〔発明の効果〕

本発明によれば磁性記録媒体の走行耐久性が向上し、出
力変動も減少する。また摩擦係数の低下もみられ、走行
性も改良される。

メルカプト基を含有する潤滑保護層を形成した後、さら
に不織布による・セフ処理をすると、走行耐久性が著し
く改善され、特に出力変動が減少するものである。

メルカプト基を有する化合物を含有する保護潤滑層を設
けてなる金属薄膜型磁気記録媒体と不織布との接触相対
運動において、記録媒体の表面を不織布と接触しながら
相対運動させることＫより、金属薄膜の表面を不織布が
摺動することＫより平滑化処理などが行われて前述の効
果を生ずるものとみられる。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は、共に本発明の磁気記録媒体の製造方
法におけるノ々７処理を図式的に示すものであり、第３
図は非磁性支持体上に金１属薄膜を設ける工程に用いら
れる装置を示すものである。１・・・送り出しリール、２・巻取りリール、３・・・
テープ状記録媒体、４−１〜４−４・・・ガイド、５・
・・不織布、８・・・ディスク状記録媒体、１０・・・
不織布、１１・・・ガイド、１６・・・円筒状キャン、
１４・・・可とう性支持体、１５・・・入射角規制マス
ク、１６・・・るつぼ及び蒸着材料、１７・・・′電子
銃、１８．ｊ９・・・ガス導入ポート。第　　１　　図第　　２　　図第　　３　　図

Claims

【特許請求の範囲】

１）非磁性支持体上に強磁性金属薄膜あるいは合金薄膜
を設け、その上にメルカプト基を有する化合物を含有す
る保護潤滑層を設けた後、該保護潤滑層の表面を不織布
によつてバフ処理することを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。