JPS59150083A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS59150083A JPS59150083A JP2340783A JP2340783A JPS59150083A JP S59150083 A JPS59150083 A JP S59150083A JP 2340783 A JP2340783 A JP 2340783A JP 2340783 A JP2340783 A JP 2340783A JP S59150083 A JPS59150083 A JP S59150083A
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- Japan
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- film
- belt
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- metal
- vapor flow
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空蒸着などに使用する蒸着装置、特に電子ビ
ームなどのエネルキービームによって蒸発源を加熱し、
これにより発生させた金属蒸気流をフィルムベースなど
の支持体に蒸着せしめる蒸着装置の改良に関するもので
ある。
ームなどのエネルキービームによって蒸発源を加熱し、
これにより発生させた金属蒸気流をフィルムベースなど
の支持体に蒸着せしめる蒸着装置の改良に関するもので
ある。
近年、記録すべき情報量の増加に伴い高密度磁気記録に
対する要求が一段と強まるに至シ、従来のバインダー型
磁性液を可撓性支持体上に塗布、乾燥させる塗布型製造
方式に代わシ、真空蒸゛着、スパッタリック゛、イオン
ブレーティング、等の方法にょシバインダーを使用せず
に前記支持体上に強磁性金属薄膜を層設する、所謂非塗
布型の製造方法が、怖々研究され、実用化のための諸提
案がなされつつある。
対する要求が一段と強まるに至シ、従来のバインダー型
磁性液を可撓性支持体上に塗布、乾燥させる塗布型製造
方式に代わシ、真空蒸゛着、スパッタリック゛、イオン
ブレーティング、等の方法にょシバインダーを使用せず
に前記支持体上に強磁性金属薄膜を層設する、所謂非塗
布型の製造方法が、怖々研究され、実用化のための諸提
案がなされつつある。
これら非塗布型製造方法の内でも磁性金属の蒸発ビーム
を支持体表面に対し斜めに入射させて蒸着させる斜方入
射真空蒸着方法は、処理工程なども比較的コンｉくクト
であると同時に、良好な磁気特性を有した薄膜が得られ
るための実用的である。
を支持体表面に対し斜めに入射させて蒸着させる斜方入
射真空蒸着方法は、処理工程なども比較的コンｉくクト
であると同時に、良好な磁気特性を有した薄膜が得られ
るための実用的である。
この斜方入射真空蒸着方法は一般に、前記支持体を前記
蒸発源上方でシリンダー状キャン（クーリングキャン）
の外周面に沿って曲線状に移動せしめ、前記蒸発源にお
ける極めて限られた斜方入射角の蒸発全属地によって前
記支持体表面に強磁性金属薄膜を一度に指定厚さまで蒸
着することを特徴とするものである。
蒸発源上方でシリンダー状キャン（クーリングキャン）
の外周面に沿って曲線状に移動せしめ、前記蒸発源にお
ける極めて限られた斜方入射角の蒸発全属地によって前
記支持体表面に強磁性金属薄膜を一度に指定厚さまで蒸
着することを特徴とするものである。
このような方法においては蒸着又はスノくツクなどいず
れの手段によっても支持体は強く加熱され、とくにポリ
エステルフィルムのようなポリマーフィルムを用いる場
合には、このフィルム材料が１’００°Ｃ伺近以上では
軟化し、１８０〜２００ ’Ｃでは熔融するためこの支
持体フィルムを裏面から強く冷却して、蒸着中やスパッ
タ中もこの支持体フィルムの温度を１００℃以下、望ま
しくは４０〜５０℃以下に保つ必要がある。
れの手段によっても支持体は強く加熱され、とくにポリ
エステルフィルムのようなポリマーフィルムを用いる場
合には、このフィルム材料が１’００°Ｃ伺近以上では
軟化し、１８０〜２００ ’Ｃでは熔融するためこの支
持体フィルムを裏面から強く冷却して、蒸着中やスパッ
タ中もこの支持体フィルムの温度を１００℃以下、望ま
しくは４０〜５０℃以下に保つ必要がある。
このため従来は、上述したように水冷された冷却ドラム
（クーリングキャン）上に支持体フィルムを密着走行せ
しめ支持体を裏面から冷却しつつ、蒸着またはスノくツ
タを行なっている。
（クーリングキャン）上に支持体フィルムを密着走行せ
しめ支持体を裏面から冷却しつつ、蒸着またはスノくツ
タを行なっている。
また、バッチ式のスパッタ々とては支持体フィルムの裏
面に水冷した固定金属板を接触させ、このフィルムを摺
動せしめてスノくツタなどを行ない熱を除去している。
面に水冷した固定金属板を接触させ、このフィルムを摺
動せしめてスノくツタなどを行ない熱を除去している。
しかし、上述した冷却ドラムを使用する従来技術におい
ては、蒸着される時の支持体フィルムが長さ方向に曲面
を有するような形状となるため、この支持体フィルムへ
の蒸気流の入射角がフィルムの長さ方向で一定とならず
、このため、この従来技術においてはこの入射角と密接
な関係を有する蒸着膜の磁気特性、特に抗磁力が下がる
と（・う問題がある。
ては、蒸着される時の支持体フィルムが長さ方向に曲面
を有するような形状となるため、この支持体フィルムへ
の蒸気流の入射角がフィルムの長さ方向で一定とならず
、このため、この従来技術においてはこの入射角と密接
な関係を有する蒸着膜の磁気特性、特に抗磁力が下がる
と（・う問題がある。
また、冷却固定金属板を使用する従来技術においては、
プラスチックフィルムが真空雰囲気中の固定金属板上を
摺動走行することとなるため、静電気が生じてこのフィ
ルムが前記金属板には９つき、走行させることが不可能
になったジ、このフィルム上に外傷が生じたシするとい
う問題がある。
プラスチックフィルムが真空雰囲気中の固定金属板上を
摺動走行することとなるため、静電気が生じてこのフィ
ルムが前記金属板には９つき、走行させることが不可能
になったジ、このフィルム上に外傷が生じたシするとい
う問題がある。
本発明は上記問題に鑑みて、磁気特性の向−上した外傷
のない磁気記録媒体を連続して得ることのできる真空蒸
着装置を提供することを目的とするもので゛ある。
のない磁気記録媒体を連続して得ることのできる真空蒸
着装置を提供することを目的とするもので゛ある。
本発明の真空蒸着装置は、蒸発源を電子ビーム々どで加
熱して得られた金属蒸気流により支持体フィルム表面に
薄膜を形成するもので、前記フィルムを一方方向に連続
的に走行案内するステンレスなどからなる金属製のエン
ドレスベルトとこのエンドレスベルトノ一部を冷却する
冷却部を設けていることを特徴とするものである。
熱して得られた金属蒸気流により支持体フィルム表面に
薄膜を形成するもので、前記フィルムを一方方向に連続
的に走行案内するステンレスなどからなる金属製のエン
ドレスベルトとこのエンドレスベルトノ一部を冷却する
冷却部を設けていることを特徴とするものである。
このエンドレスベルトに使用する材料としては、銅合金
あるいはＳＵＳ合金などが好ましい。銅合金は熱伝導に
優れ、５（ＪＳ合金は曲げなどの強度において優れてい
るからである。
あるいはＳＵＳ合金などが好ましい。銅合金は熱伝導に
優れ、５（ＪＳ合金は曲げなどの強度において優れてい
るからである。
また、このベルトは蒸着部、すなわち加熱部での流入熱
量を吸収できる程度の厚みを有するもので゛あることが
好ましく、バンドの曲げ適性トのバランスからこの厚み
を０１〜５ ｍｍ、望ましくは１〜３ ｍｍ程度に設定
する。
量を吸収できる程度の厚みを有するもので゛あることが
好ましく、バンドの曲げ適性トのバランスからこの厚み
を０１〜５ ｍｍ、望ましくは１〜３ ｍｍ程度に設定
する。
また、このエンドレスベルトを冷却する冷却部材として
は水銀、あるいはシリコンオイルなどが好ましく・。
は水銀、あるいはシリコンオイルなどが好ましく・。
本発明の真空蒸着装置によれは金属蒸気流によって薄膜
形成される支持体フィルムを走行案内する金属性のエン
ドレスヘルドを設はテオシ、このエンドレスベルトの一
部を直線状に形成することもできるから、このエンドレ
スベルトに密着走行する前記支持体フィルムへの前記金
属蒸気流の入射角を略一定にすることができ、したがっ
てこの支持体フィルム表面の蒸着膜の磁気特性、特に抗
磁力を向上させることができる。さらに、本発明の装置
は前記金属性のエンドレスベルトの一部を冷却する冷却
部材を設けており、支持体フィルムの蒸気流入射部分、
すなわち加熱部分の熱を吸収するようにしているから、
支持体フィルムの加熱による軟化および熔融を生じるこ
となく支持体フィルム上に蒸着膜を形成することができ
る。さらに、本発明の装置はこの支持体フィルムをこの
エンドレスベル）Ｋ密着して走行せしめており、このフ
ィルムとこのベルトの摩擦によって静電気が発生するこ
とが々（・ので、このフィルムがこのベルトにほうつい
たり、このフィルムの表面に傷が生じたシすることはな
い。
形成される支持体フィルムを走行案内する金属性のエン
ドレスヘルドを設はテオシ、このエンドレスベルトの一
部を直線状に形成することもできるから、このエンドレ
スベルトに密着走行する前記支持体フィルムへの前記金
属蒸気流の入射角を略一定にすることができ、したがっ
てこの支持体フィルム表面の蒸着膜の磁気特性、特に抗
磁力を向上させることができる。さらに、本発明の装置
は前記金属性のエンドレスベルトの一部を冷却する冷却
部材を設けており、支持体フィルムの蒸気流入射部分、
すなわち加熱部分の熱を吸収するようにしているから、
支持体フィルムの加熱による軟化および熔融を生じるこ
となく支持体フィルム上に蒸着膜を形成することができ
る。さらに、本発明の装置はこの支持体フィルムをこの
エンドレスベル）Ｋ密着して走行せしめており、このフ
ィルムとこのベルトの摩擦によって静電気が発生するこ
とが々（・ので、このフィルムがこのベルトにほうつい
たり、このフィルムの表面に傷が生じたシすることはな
い。
以下、本発明の実施例について図面を用いて詳細に説明
する。
する。
図面は本発明の１実施例を示す概略図である。ペルジャ
ー１５によって形成された真空槽１内に駆動ロール２，
２にょシ定速駆動されるエンドレスベルト３が設げられ
る。送り出しロール４かも送出された長尺のフィルムベ
ース５がエンドレスベルト３１７）一部Ｋ ｔｊ 着さ
れ、移動し巻取りロール６に巻き取られる。
ー１５によって形成された真空槽１内に駆動ロール２，
２にょシ定速駆動されるエンドレスベルト３が設げられ
る。送り出しロール４かも送出された長尺のフィルムベ
ース５がエンドレスベルト３１７）一部Ｋ ｔｊ 着さ
れ、移動し巻取りロール６に巻き取られる。
エンドレスベルト３はスクイズロール７および細隙を通
して別の真空室８へ導かれ、ここで−１０°Ｃ程度に冷
却された水銀９中を通過する間に冷却され、再び細隙お
よびスクイズロール７を経て駆動ロール２に導かれる。
して別の真空室８へ導かれ、ここで−１０°Ｃ程度に冷
却された水銀９中を通過する間に冷却され、再び細隙お
よびスクイズロール７を経て駆動ロール２に導かれる。
このエンドレスベルト３は厚さ３ ｍｍの銅製のもので
あり、また、水銀９はこの真空室８と配管された冷凍機
（図示されて（・な（・）によって冷却循環されて、所
定の温度に保持される。
あり、また、水銀９はこの真空室８と配管された冷凍機
（図示されて（・な（・）によって冷却循環されて、所
定の温度に保持される。
一方、真空槽１内に設けられた電子銃から発生された電
子線１０によりルソホ１１内の蒸発源１２が加熱蒸発さ
れ、金属蒸気流］：３となフ、この金属蒸気流１３に対
して斜めに一定の角度で走行するように配置されたエン
ドレスベルト３に密着せしめられた前記フィルムベース
５上に蒸着される。どのエンドレスヘルド３は、蒸着部
分付近でベース５と良く密着し、かつほぼ一定の金属蒸
気流入射角を提供するような大きい曲率半径を有する弧
形状のものであっても良い。また、不要の蒸気流を排除
するために蒸発源１２と２イルムベース５の間にシール
ド板が配されている。々お、本実施例では蒸発源１２と
してコバルトを使用している。このように本実施例の真
空蒸着装置はエンドレスベルト３に密着走行するフィル
ムベース５の金属蒸気流１３入射部分において、この蒸
気流１３の入射に対してこのフィルムベース５か−定の
角度を有するように配設されているから蒸気流の入射角
と密接々関係を有するフィルムベース５表面の蒸着膜の
磁気特性、特に抗磁力を向上させることができる。さら
に、エンドレスベルト３の一部を冷却された水銀９中を
通過させて、エンドレスベルト３を冷却せしめているか
ら、このエンドレスヘルド３に密着走行するフィルムベ
ース５の蒸着によって生ずる熱を吸収することができ、
フィルムベース５を熱変形させることなく蒸着膜形成を
行なうことができる。また、本実施例の装置は真空槽１
を一定の真空度（１０”’ 〜１０−”Ｉ’ｏｒｒ ）
に維持するために、この真空槽１かもフランジ１４を通
して真空ポンプに到る配管がなされている。
子線１０によりルソホ１１内の蒸発源１２が加熱蒸発さ
れ、金属蒸気流］：３となフ、この金属蒸気流１３に対
して斜めに一定の角度で走行するように配置されたエン
ドレスベルト３に密着せしめられた前記フィルムベース
５上に蒸着される。どのエンドレスヘルド３は、蒸着部
分付近でベース５と良く密着し、かつほぼ一定の金属蒸
気流入射角を提供するような大きい曲率半径を有する弧
形状のものであっても良い。また、不要の蒸気流を排除
するために蒸発源１２と２イルムベース５の間にシール
ド板が配されている。々お、本実施例では蒸発源１２と
してコバルトを使用している。このように本実施例の真
空蒸着装置はエンドレスベルト３に密着走行するフィル
ムベース５の金属蒸気流１３入射部分において、この蒸
気流１３の入射に対してこのフィルムベース５か−定の
角度を有するように配設されているから蒸気流の入射角
と密接々関係を有するフィルムベース５表面の蒸着膜の
磁気特性、特に抗磁力を向上させることができる。さら
に、エンドレスベルト３の一部を冷却された水銀９中を
通過させて、エンドレスベルト３を冷却せしめているか
ら、このエンドレスヘルド３に密着走行するフィルムベ
ース５の蒸着によって生ずる熱を吸収することができ、
フィルムベース５を熱変形させることなく蒸着膜形成を
行なうことができる。また、本実施例の装置は真空槽１
を一定の真空度（１０”’ 〜１０−”Ｉ’ｏｒｒ ）
に維持するために、この真空槽１かもフランジ１４を通
して真空ポンプに到る配管がなされている。
この実施例の装置により、フィルムベース２の送シ速度
を＞、００ｍ１分、フィルムベース２の厚さ１５μｍ、
蒸着膜の厚さを５００Ａ、蒸気流１３のフィルムベース
２への入射角を３００の条件に設定して蒸着を行なった
場合、蒸着によるフィルムベース２の変形ば彦く、抗磁
力１２０００ｅＢ）ｌカーブの角形比０．９５の優れた
磁気特性を有する磁性層を得ることができる。これをク
ーリングキャンを使用した装置による蒸着の場合と比較
すると、特（Ｃ角形比において飛躍的々向上かみもれる
。
を＞、００ｍ１分、フィルムベース２の厚さ１５μｍ、
蒸着膜の厚さを５００Ａ、蒸気流１３のフィルムベース
２への入射角を３００の条件に設定して蒸着を行なった
場合、蒸着によるフィルムベース２の変形ば彦く、抗磁
力１２０００ｅＢ）ｌカーブの角形比０．９５の優れた
磁気特性を有する磁性層を得ることができる。これをク
ーリングキャンを使用した装置による蒸着の場合と比較
すると、特（Ｃ角形比において飛躍的々向上かみもれる
。
ナオ、金属蒸気流のフィルムペルスへ）入射角の一定性
をそれ程必要としない場合には、１駆動ロールの曲面に
沿ったフィルムベースの曲面部分に金属蒸気流を入射せ
しめるような装置によっても良い。この装置の利点は、
エンドレスベルトの１駆動、走行機械部分の小型化が可
能なことである。
をそれ程必要としない場合には、１駆動ロールの曲面に
沿ったフィルムベースの曲面部分に金属蒸気流を入射せ
しめるような装置によっても良い。この装置の利点は、
エンドレスベルトの１駆動、走行機械部分の小型化が可
能なことである。
以上、詳細に説明したように本発明の真空蒸着装置によ
れは、金属性のエンドレスベルトの一部を冷却してこの
ベルトと密着走行する支持体フィルムの加熱部分の熱を
吸収しているから、支持体フィルムの熱変形を生じるこ
となく、このフィルム上に金属蒸着膜を形成することが
できる。また、このエンドレスベルトの一部を直線状に
形成することもてきるから、このエンドレスベルトに密
着走行する支持体フィルムへの金属蒸気流の入射角を略
一定にすることができ、したがってこのフィルム表面に
形成された蒸着膜の磁気特性を向上させることができ、
実用的価値は極めて高い。
れは、金属性のエンドレスベルトの一部を冷却してこの
ベルトと密着走行する支持体フィルムの加熱部分の熱を
吸収しているから、支持体フィルムの熱変形を生じるこ
となく、このフィルム上に金属蒸着膜を形成することが
できる。また、このエンドレスベルトの一部を直線状に
形成することもてきるから、このエンドレスベルトに密
着走行する支持体フィルムへの金属蒸気流の入射角を略
一定にすることができ、したがってこのフィルム表面に
形成された蒸着膜の磁気特性を向上させることができ、
実用的価値は極めて高い。
図面は本発明の１実施例を示す概略図である。
ｌ・・・真 空 槽 ３・・・金属エンド
レスベルト５・・フィルムベース ９・・・水銀１０
・・電 子 線 １２・・蒸 発 源１３・・・金属蒸
気流
レスベルト５・・フィルムベース ９・・・水銀１０
・・電 子 線 １２・・蒸 発 源１３・・・金属蒸
気流
Claims (1)
- 減圧下で蒸発源を加熱して得られた蒸気流によシ連続的
に移送される可撓性帯状支持体の表面に薄膜を形成する
真空蒸着装置において、前記支持体を一方向に連続的に
走行案内する金属製のニジドレスベルトとこの工／ドレ
スベルトの一部を冷却する冷却部を設けて成ることを特
徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2340783A JPS59150083A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2340783A JPS59150083A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59150083A true JPS59150083A (ja) | 1984-08-28 |
Family
ID=12109642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2340783A Pending JPS59150083A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59150083A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4787569A (en) * | 1985-10-22 | 1988-11-29 | Kabushiki Kaisha Tokai-Rika-Denki-Seisakusho | Webbing retractor |
| WO2009072242A1 (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-11 | Panasonic Corporation | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 |
| EP2096190A1 (en) * | 2008-02-28 | 2009-09-02 | Applied Materials, Inc. | Coating apparatus for coating a web |
| DE102012108742A1 (de) | 2012-06-04 | 2013-12-05 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Transport von bandförmigen Materialien in Vakuumbehandlungsanlagen |
-
1983
- 1983-02-15 JP JP2340783A patent/JPS59150083A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4787569A (en) * | 1985-10-22 | 1988-11-29 | Kabushiki Kaisha Tokai-Rika-Denki-Seisakusho | Webbing retractor |
| WO2009072242A1 (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-11 | Panasonic Corporation | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 |
| JPWO2009072242A1 (ja) * | 2007-12-05 | 2011-04-21 | パナソニック株式会社 | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 |
| EP2096190A1 (en) * | 2008-02-28 | 2009-09-02 | Applied Materials, Inc. | Coating apparatus for coating a web |
| DE102012108742A1 (de) | 2012-06-04 | 2013-12-05 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Anordnung zum Transport von bandförmigen Materialien in Vakuumbehandlungsanlagen |
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