JPS59165410A - 強磁性薄膜形成装置 - Google Patents
強磁性薄膜形成装置Info
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- JPS59165410A JPS59165410A JP3939883A JP3939883A JPS59165410A JP S59165410 A JPS59165410 A JP S59165410A JP 3939883 A JP3939883 A JP 3939883A JP 3939883 A JP3939883 A JP 3939883A JP S59165410 A JPS59165410 A JP S59165410A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
- H01F41/20—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by evaporation
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高分子材料から成る非磁性かつ可撓性支持体
（以下、「ウェブ」と称する）上に、真空蒸着、ス／ξ
ツタリング、イオンブレーティング、等の方法によシ、
強磁性薄膜を形成する際に生ずる前記ウェブの熱変形を
、迅速かつ確実に修正可能な手段を具備した強磁性薄膜
形成装置に関する。
（以下、「ウェブ」と称する）上に、真空蒸着、ス／ξ
ツタリング、イオンブレーティング、等の方法によシ、
強磁性薄膜を形成する際に生ずる前記ウェブの熱変形を
、迅速かつ確実に修正可能な手段を具備した強磁性薄膜
形成装置に関する。
本発明で言う「ウェブ」とは、一般に、幅が０゜Ｊ〜Ｊ
ｍ、長さが３ｏ−ｙ、２ｏ 、ｏｏｏｍ、厚さが２〜２
００μｍのボリエ゛チレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−。２Ｊ４−ナフタレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルキースアセテート
プロピオネート、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル
、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、等のプ
ラスチックフィルムが含まれる。
ｍ、長さが３ｏ−ｙ、２ｏ 、ｏｏｏｍ、厚さが２〜２
００μｍのボリエ゛チレンテレフタレート、ポリエチレ
ン−。２Ｊ４−ナフタレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルキースアセテート
プロピオネート、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル
、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、等のプ
ラスチックフィルムが含まれる。
又、本発明で形成される強磁性薄膜は、Ｆｅ、Ｃ０１Ｎ
１ ％等の強磁性金属、あるいは、Ｆｅ−Ｃｏ５ Ｆ
ｅ Ｎｉ、Ｃｏ Ｎｉｂ Ｆｅ Ｓ ＬＦ ｅ
Ｒｈｓ Ｃｏ Ｐ％Ｃｏ Ｂｂ Ｃｏ Ｓ １
ｓＣｏ Ｖ％ Ｃｏ ＹｓＣｏ Ｙａｖ Ｃｏ
ＬＪＬ％Ｃｏ−Ｃｅ％ Ｃｏ−Ｐｒｖ Ｃｏ−８
ｍ−Ｃｏ −ｐｔ％Ｃｏ−Ｍｎ−５Ｆ ｅ −Ｃｏ −
Ｎ ｉ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ％ Ｃｏ−Ｎ１−Ｂ％ Ｃｏ−
Ｎｉ−Ａｇ５Ｃｏ−Ｎｉ−Ｎｄ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｅ、Ｃ
ｏ−Ｎ１−Ｚｎｂ ｃ′ｏ−Ｎｉ−、ｃｕ％ Ｃｏ−Ｎ
１−Ｗ％Ｃｏ−Ｎｉ−Ｒｅ％Ｃｏ−Ｎｉ−８ｍｂ Ｃ
ｏ−Ｓｍ−ｃｕ、等の金属合金あるいは化合物を材料と
し、通常、７；”ｇｖ −ｒｇ、σｏｖ’ｈ の厚さ
に層設される。
１ ％等の強磁性金属、あるいは、Ｆｅ−Ｃｏ５ Ｆ
ｅ Ｎｉ、Ｃｏ Ｎｉｂ Ｆｅ Ｓ ＬＦ ｅ
Ｒｈｓ Ｃｏ Ｐ％Ｃｏ Ｂｂ Ｃｏ Ｓ １
ｓＣｏ Ｖ％ Ｃｏ ＹｓＣｏ Ｙａｖ Ｃｏ
ＬＪＬ％Ｃｏ−Ｃｅ％ Ｃｏ−Ｐｒｖ Ｃｏ−８
ｍ−Ｃｏ −ｐｔ％Ｃｏ−Ｍｎ−５Ｆ ｅ −Ｃｏ −
Ｎ ｉ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ％ Ｃｏ−Ｎ１−Ｂ％ Ｃｏ−
Ｎｉ−Ａｇ５Ｃｏ−Ｎｉ−Ｎｄ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｅ、Ｃ
ｏ−Ｎ１−Ｚｎｂ ｃ′ｏ−Ｎｉ−、ｃｕ％ Ｃｏ−Ｎ
１−Ｗ％Ｃｏ−Ｎｉ−Ｒｅ％Ｃｏ−Ｎｉ−８ｍｂ Ｃ
ｏ−Ｓｍ−ｃｕ、等の金属合金あるいは化合物を材料と
し、通常、７；”ｇｖ −ｒｇ、σｏｖ’ｈ の厚さ
に層設される。
従来、前記ウェブの表明に、金属等の薄膜を、真空蒸着
、スパッタリング、イオンブレーティング、等の方法に
よって形成することは、装飾やコンデンサー、等の製造
、加工分野で広く知られていたものであるが、近年、磁
気記録媒体の製造分野においても、前述した強磁性材料
から成る薄膜を、前記各方法によυウェブ上に形成して
、記録密度の向上を図る試みがなされ、一部、実用化さ
れるに至っている。
、スパッタリング、イオンブレーティング、等の方法に
よって形成することは、装飾やコンデンサー、等の製造
、加工分野で広く知られていたものであるが、近年、磁
気記録媒体の製造分野においても、前述した強磁性材料
から成る薄膜を、前記各方法によυウェブ上に形成して
、記録密度の向上を図る試みがなされ、一部、実用化さ
れるに至っている。
その強磁性薄膜を形成するために実用化された従来装置
要部の代表例を、第１図に示した。
要部の代表例を、第１図に示した。
第１図において、従来装置ｌは、排気系（図示せず）に
連通ずる導管３全通してその内部圧力が、通常、／、Ｏ
Ｘｌ、０ ３〜／、０×１Ｏ−７Ｔｏｒｒ程度の真空度
に減圧、維持される真空槽λ内に、後述するウェブ走行
系、蒸発系、及び加熱系を夫々包含、配設して成ってい
た。
連通ずる導管３全通してその内部圧力が、通常、／、Ｏ
Ｘｌ、０ ３〜／、０×１Ｏ−７Ｔｏｒｒ程度の真空度
に減圧、維持される真空槽λ内に、後述するウェブ走行
系、蒸発系、及び加熱系を夫々包含、配設して成ってい
た。
なお、前記ウェブ走行系は、その表面に所望する強磁性
材料ｊの薄膜を蒸着すべきウェブＷをコイル状に巻回し
て成るウェブロールＷＲ１’を回転自在に軸支するウェ
ブ送出部弘、該ウェブ送出部グから繰り出された前記ウ
ェブＷの走行を案内する複数本のガイドローラ！、その
中空内部に冷媒が供給されて外周面が冷却される冷却ド
ラムぶ及び前記強磁性薄膜が蒸着された前記ウェブＷを
コイル状に巻回してウェブロールＷＲ２ｔ−形成するウ
ェブ巻取部７から成っていた。
材料ｊの薄膜を蒸着すべきウェブＷをコイル状に巻回し
て成るウェブロールＷＲ１’を回転自在に軸支するウェ
ブ送出部弘、該ウェブ送出部グから繰り出された前記ウ
ェブＷの走行を案内する複数本のガイドローラ！、その
中空内部に冷媒が供給されて外周面が冷却される冷却ド
ラムぶ及び前記強磁性薄膜が蒸着された前記ウェブＷを
コイル状に巻回してウェブロールＷＲ２ｔ−形成するウ
ェブ巻取部７から成っていた。
又、前記蒸発系は、前記冷却ドラム乙の下方に前記強磁
性材料ｌを収納して配設されたノ・−スタ及び前記冷却
ドラム乙の下方外周面近傍にあって前記強磁性材料ｌの
蒸気流Ｖの−ｓ’ｒｉ断して前記ウェブＷの被蒸着面領
域を規制するマスクＩＯから成っていた。
性材料ｌを収納して配設されたノ・−スタ及び前記冷却
ドラム乙の下方外周面近傍にあって前記強磁性材料ｌの
蒸気流Ｖの−ｓ’ｒｉ断して前記ウェブＷの被蒸着面領
域を規制するマスクＩＯから成っていた。
更に、前記加熱系は、前記真空槽λの側壁に取付けられ
て偏向コイル、集束コイル、等の手段によシミ子ビーム
ＥＢｔ−前記ハースタ内の強磁性材料ｌに照射し、加熱
、蒸気化する電子銃１／から成っていた。
て偏向コイル、集束コイル、等の手段によシミ子ビーム
ＥＢｔ−前記ハースタ内の強磁性材料ｌに照射し、加熱
、蒸気化する電子銃１／から成っていた。
この従来装置ｌによって、前記ウェブＷを真空下で連続
的に移送させながら、所望する前記強磁性材料ｒの蒸気
流■を画一ウェブＷの表面に比較的効率良く蒸着せしめ
、記録密度の良い薄膜を得ることが可能になったが、し
かしながら、次に記すような欠点があった。
的に移送させながら、所望する前記強磁性材料ｒの蒸気
流■を画一ウェブＷの表面に比較的効率良く蒸着せしめ
、記録密度の良い薄膜を得ることが可能になったが、し
かしながら、次に記すような欠点があった。
−を前記ウェブＷは、前記冷却ドラム乙の下方外周面に
沿って矢印Ａの方向に移動する際、その表面が高温度（
例えば、２ｏｏ、ｔｏｏｏ ０Ｃ）の蒸気流■の蒸着に
よシ生ずる熱変形を抑制するために、その裏面を前記冷
却ドラム乙によシ冷却しているが、蒸着した薄膜と前記
ウェブＷとの熱膨張率の差によって前記ウェブＷにカー
ルが発生し、該カールは前記ウェブ巻取部７においてウ
ェブロールＷＲ２ｅ形成せしめても存在するものであっ
た。
沿って矢印Ａの方向に移動する際、その表面が高温度（
例えば、２ｏｏ、ｔｏｏｏ ０Ｃ）の蒸気流■の蒸着に
よシ生ずる熱変形を抑制するために、その裏面を前記冷
却ドラム乙によシ冷却しているが、蒸着した薄膜と前記
ウェブＷとの熱膨張率の差によって前記ウェブＷにカー
ルが発生し、該カールは前記ウェブ巻取部７においてウ
ェブロールＷＲ２ｅ形成せしめても存在するものであっ
た。
前記カールが生じたウェブＷを用いて磁気テープに加工
すると、前記カールが残存している個所が、磁気ヘッド
の接触を不安定にさせ、再生出力が大幅に変動する要因
になっていた。
すると、前記カールが残存している個所が、磁気ヘッド
の接触を不安定にさせ、再生出力が大幅に変動する要因
になっていた。
−２，又、第２図に示したように、前記ウェブＷの両耳
端部には、比較的狭幅であるが未蒸着部分２０．２／″
ｆｔ設けて蒸着することが一般的であシ、その場合、蒸
着部分２．２と未蒸着部分λσ、λｌの境界において、
゛前記ウェブＷの熱変形が発生し易く、そのま＼の状態
で巻取ると、前記境界近傍が異常に隆起し；ｌ）あるい
はシワを発生させることがあった。
端部には、比較的狭幅であるが未蒸着部分２０．２／″
ｆｔ設けて蒸着することが一般的であシ、その場合、蒸
着部分２．２と未蒸着部分λσ、λｌの境界において、
゛前記ウェブＷの熱変形が発生し易く、そのま＼の状態
で巻取ると、前記境界近傍が異常に隆起し；ｌ）あるい
はシワを発生させることがあった。
一３前述したカール、隆起、シワ、等を修正、除去する
ために、第１図に示したように、前記真空槽−の外部に
、ウェブ送出′蔀／コ、ガイドローラ１３、加熱ロー２
１弘、ウェブ巻取部ｉｔ、から成る別のウェブ走行系を
配置し、前記真空槽λ内で一旦つェブロールＷＲ２に巻
取ったウェブＷを、再度繰シ出してウェブロールＷＲ３
？形成する間に、前記ウェブＷの裏面を前記加熱ローラ
ｌダによシガラス転移点近傍まで加熱することにょシ対
処していたが、この別のウェブ走行系を設けることは処
理工程の増加を来たし、設備費及び原価を圧迫するもの
であった。
ために、第１図に示したように、前記真空槽−の外部に
、ウェブ送出′蔀／コ、ガイドローラ１３、加熱ロー２
１弘、ウェブ巻取部ｉｔ、から成る別のウェブ走行系を
配置し、前記真空槽λ内で一旦つェブロールＷＲ２に巻
取ったウェブＷを、再度繰シ出してウェブロールＷＲ３
？形成する間に、前記ウェブＷの裏面を前記加熱ローラ
ｌダによシガラス転移点近傍まで加熱することにょシ対
処していたが、この別のウェブ走行系を設けることは処
理工程の増加を来たし、設備費及び原価を圧迫するもの
であった。
−≠、又、前記境界近傍の隆起やシワは、前記加熱四−
ラｌφに対する接触度合が不安定になシ、前記カールの
修正が完全になされないことがある一方、次工程のスリ
ッティングにおいて、スリッターの刃の破損やテープの
折損を招くことがあった。
ラｌφに対する接触度合が不安定になシ、前記カールの
修正が完全になされないことがある一方、次工程のスリ
ッティングにおいて、スリッターの刃の破損やテープの
折損を招くことがあった。
本発明は、前述した従来装置の欠点を解消し、コンパク
トな構造でかつ迅速、確実に前記カール等の熱変形を修
正することが可能な強磁性薄膜形成装置全提供すること
を目的とするものである。
トな構造でかつ迅速、確実に前記カール等の熱変形を修
正することが可能な強磁性薄膜形成装置全提供すること
を目的とするものである。
本発明のか＼る目的は、内部圧力を／、Ｏ×ｌ０−３〜
ハｏ×１０ Ｔｏｒｒの真空度に減圧、維持可能な
真空槽内で、長尺の非磁性かつ可撓性帯状支持体を連続
的に移動させながら、該支持体の表面に強磁性材料の蒸
発粒子から成る蒸気流を蒸着して強磁性薄膜を形成する
装置において、前記真空槽内にウェブ走行系、蒸発系、
加熱系を夫々配設すると＼もに、前記ウェブ走行系の冷
却ドラムとウェブ巻取部との間にウェブ加熱手段を挿設
して成ること全特徴とする強磁性薄膜形成装置により達
成される。
ハｏ×１０ Ｔｏｒｒの真空度に減圧、維持可能な
真空槽内で、長尺の非磁性かつ可撓性帯状支持体を連続
的に移動させながら、該支持体の表面に強磁性材料の蒸
発粒子から成る蒸気流を蒸着して強磁性薄膜を形成する
装置において、前記真空槽内にウェブ走行系、蒸発系、
加熱系を夫々配設すると＼もに、前記ウェブ走行系の冷
却ドラムとウェブ巻取部との間にウェブ加熱手段を挿設
して成ること全特徴とする強磁性薄膜形成装置により達
成される。
以下、添付した図面に基づき、本発明装置の一実施態様
について説明する。
について説明する。
本発明に基づく装置３１は、第３図に示したように、排
気系（図示せず）に連通ずる導管３３全通してその内部
圧力が、通常、ハｏｘｉｏ−３〜ハ０Ｘ１０ ’Ｔｏ
ｒｒ程度の真空度に減圧、維持されかつ必要に応じて酸
素あるいはアルゴン等のガスが注入可能な真空槽３２内
に、前述した従来装置ｌと同じようにウェブ走行系、蒸
発系、加熱系が夫々包含、配設されて成っているが、そ
のウェブ走行系には従来のウェブ走行系にないウェブ加
熱手段 が付加されているものである。
気系（図示せず）に連通ずる導管３３全通してその内部
圧力が、通常、ハｏｘｉｏ−３〜ハ０Ｘ１０ ’Ｔｏ
ｒｒ程度の真空度に減圧、維持されかつ必要に応じて酸
素あるいはアルゴン等のガスが注入可能な真空槽３２内
に、前述した従来装置ｌと同じようにウェブ走行系、蒸
発系、加熱系が夫々包含、配設されて成っているが、そ
のウェブ走行系には従来のウェブ走行系にないウェブ加
熱手段 が付加されているものである。
即ち、その表面に所望する強磁性材料ｒの薄膜を蒸着す
べきウェブＷｔ−コイル状に巻回して成るウェブロール
ＷＲ１全回転自在に軸支するウェブ送出部３弘、該ウェ
ブ送出部３グから繰シ出された前記ウェブＷの走行を案
内する複数本のガイドｐ−２３よ、その中空内部に冷媒
が供給されて外周面が冷却される冷却ドラム３４．該冷
却ドラム３ｔから離れた前記ウェブＷの裏面をガラス転
移点近傍まで加熱することが可能なウェブ加熱手段とし
ての電熱式加熱ローラ４１２及び前記強磁性薄膜が蒸着
された前記ウェブＷをコイル状に巻回してウェブロール
ＷＲ２を形成するウェブ巻取部３７から成っている。
べきウェブＷｔ−コイル状に巻回して成るウェブロール
ＷＲ１全回転自在に軸支するウェブ送出部３弘、該ウェ
ブ送出部３グから繰シ出された前記ウェブＷの走行を案
内する複数本のガイドｐ−２３よ、その中空内部に冷媒
が供給されて外周面が冷却される冷却ドラム３４．該冷
却ドラム３ｔから離れた前記ウェブＷの裏面をガラス転
移点近傍まで加熱することが可能なウェブ加熱手段とし
ての電熱式加熱ローラ４１２及び前記強磁性薄膜が蒸着
された前記ウェブＷをコイル状に巻回してウェブロール
ＷＲ２を形成するウェブ巻取部３７から成っている。
その他の蒸発系及び加熱系は、従来装置と同等の構成を
採るものであり、即ち、蒸発系は、前記冷却ドラム３６
の下方に前記強磁性材料ｓｔｙ収納して配設して配設さ
れたハース３り及び前記冷却ドラム３６の下方外周面近
傍にあって前記強磁性材料３ｇの蒸気流■の一部ｔｌ−
遮断して、前記ウェブＷの被蒸着面領域を規制するマス
ク４ｔｏから成っている。
採るものであり、即ち、蒸発系は、前記冷却ドラム３６
の下方に前記強磁性材料ｓｔｙ収納して配設して配設さ
れたハース３り及び前記冷却ドラム３６の下方外周面近
傍にあって前記強磁性材料３ｇの蒸気流■の一部ｔｌ−
遮断して、前記ウェブＷの被蒸着面領域を規制するマス
ク４ｔｏから成っている。
又、前記加熱系は、前記真空槽３２の側壁に取付けられ
て偏向コイル、集束コイル、等の手段により電子ビーム
ＥＢｉ前記ハース３り内の強磁性材料３ｔに照射し、加
熱、蒸気化する電子銃４ｔｌから成っている。
て偏向コイル、集束コイル、等の手段により電子ビーム
ＥＢｉ前記ハース３り内の強磁性材料３ｔに照射し、加
熱、蒸気化する電子銃４ｔｌから成っている。
前記ウェブ送出部３４／−のウェブロールＷＲ□から連
続的に繰シ出された前記ウェブＷは、前記ガイド日−ラ
３！によって適宜走行案内されながら、前記冷却ドラム
３６、ウェブ加熱ローラ弘λ、ウェブ巻取部３７の順で
移動し、再度コイル状に巻取られ前記ウェブロールＷＲ
２＝ｉ形成する。
続的に繰シ出された前記ウェブＷは、前記ガイド日−ラ
３！によって適宜走行案内されながら、前記冷却ドラム
３６、ウェブ加熱ローラ弘λ、ウェブ巻取部３７の順で
移動し、再度コイル状に巻取られ前記ウェブロールＷＲ
２＝ｉ形成する。
特に、前記冷却ドラム３ｔの下方外周面上に沿って矢印
Ａの方向に移動する前記ウェブＷは、前記冷却ドラム３
ｔによりその裏面から冷却される一方、前記マスクａＯ
によシ被蒸着面領域が適正に規制される表面から、前記
電子銃≠７の電子ビームＥＢによシ加熱、蒸気化した前
記ノ為−ス３り内の強磁性材料３ｇの蒸発粒子から成る
前記蒸気流■によって加熱されるので、両面の熱膨張率
の差によシ若干の熱変形が生じる。
Ａの方向に移動する前記ウェブＷは、前記冷却ドラム３
ｔによりその裏面から冷却される一方、前記マスクａＯ
によシ被蒸着面領域が適正に規制される表面から、前記
電子銃≠７の電子ビームＥＢによシ加熱、蒸気化した前
記ノ為−ス３り内の強磁性材料３ｇの蒸発粒子から成る
前記蒸気流■によって加熱されるので、両面の熱膨張率
の差によシ若干の熱変形が生じる。
前記熱変形は、一般に、カールとして現れ、蒸着薄膜を
内側に彎曲した現象を呈している。
内側に彎曲した現象を呈している。
しかしながら、本発明装置３１においては、前記冷却ド
ラム３６とウェブ巻取部３７の間に、５前記加熱ローラ
４Ａコを配設して、前記ウェブＷを裏面からガラス転移
点近傍まで（約ざ０．／２０”Ｃ）加熱するので、前述
した熱変形は修正、除去されて巻取られる。
ラム３６とウェブ巻取部３７の間に、５前記加熱ローラ
４Ａコを配設して、前記ウェブＷを裏面からガラス転移
点近傍まで（約ざ０．／２０”Ｃ）加熱するので、前述
した熱変形は修正、除去されて巻取られる。
従って、従来のように、前記ウェブ巻取部７でコイル状
に一旦巻取ったウェブロールＷＲ２ｔ−１槽外の別のウ
ェブ走行系で巻き戻しながら加熱処理する必要がなく、
工程の簡略化及びコストダウンが図られると＼もに、前
記カール以外の熱変形即ち前記境界近傍の隆起やシワの
発生及びその助長を両割して適正にコイル状に巻取るこ
とができるので、製品の歩止まシが著しく向上するもの
である。
に一旦巻取ったウェブロールＷＲ２ｔ−１槽外の別のウ
ェブ走行系で巻き戻しながら加熱処理する必要がなく、
工程の簡略化及びコストダウンが図られると＼もに、前
記カール以外の熱変形即ち前記境界近傍の隆起やシワの
発生及びその助長を両割して適正にコイル状に巻取るこ
とができるので、製品の歩止まシが著しく向上するもの
である。
なお、前記ウェブ加熱手段は、前記電熱式加熱ローラ４
Ａ２に限らず、温水循環式加熱ローラ、並び圧電熱又は
温水式加熱プ、レー、ト、浄によシ構成することも可能
であシ、その取付個数も必要に応じ複数本化して良い。
Ａ２に限らず、温水循環式加熱ローラ、並び圧電熱又は
温水式加熱プ、レー、ト、浄によシ構成することも可能
であシ、その取付個数も必要に応じ複数本化して良い。
又、前記加熱系も、誘導加熱方式、等の手段であっても
良い。
良い。
次に本発明装置の新規な効果を、実施例により一層明確
にする。
にする。
第３図に示した強磁性薄膜形成装置を用い、幅が２０
ｃｍ、厚さがｌ１μｍのポリエステルフィルムの表面に
Ｃｏ−Ｎｉ合金薄膜７Ｉ＆：（Ｎｉ：／、ｔａｔチ）を
形成し、該薄膜が内側になるように巻取った。
ｃｍ、厚さがｌ１μｍのポリエステルフィルムの表面に
Ｃｏ−Ｎｉ合金薄膜７Ｉ＆：（Ｎｉ：／、ｔａｔチ）を
形成し、該薄膜が内側になるように巻取った。
装置内の真空度は／Ｘ１０ Ｔｏｒｒで、加熱系は
偏向型電子ビム（３〜、ｚ ｏ Ｋ ｅ Ｖ ） 、ウ
ェブ加熱手段は温水循環式加熱ローラ、を夫々用い、蒸
気流の入射角は４Ｌｊ度に設定した。
偏向型電子ビム（３〜、ｚ ｏ Ｋ ｅ Ｖ ） 、ウ
ェブ加熱手段は温水循環式加熱ローラ、を夫々用い、蒸
気流の入射角は４Ｌｊ度に設定した。
ウェブの速度、Ｃｏ、−Ｎｉ膜厚、加熱ローラの温度は
第１表の通シ設定した。
第１表の通シ設定した。
注）ウェブのカール測定法は、ウェブ巻取部で巻取った
ウェブを幅３鰭×長さ３！關に切シ取シ、その幅方向の
曲率半径Ｒ（ＴＤ）及び長手方向の曲率半径Ｒ（ＭＤ）
７に夫々測定し、薄膜面を内側にしたカールを十カール
と呼び、その逆全−カールとした。
ウェブを幅３鰭×長さ３！關に切シ取シ、その幅方向の
曲率半径Ｒ（ＴＤ）及び長手方向の曲率半径Ｒ（ＭＤ）
７に夫々測定し、薄膜面を内側にしたカールを十カール
と呼び、その逆全−カールとした。
第１表に示した結果から明らかなように、真空槽内で加
熱ローラによシ巻取前にカール修正処理を行った試料屋
！及び６は従来のもの（試料Ｊｆ６．７、ｇ）に比較し
、ウェブのカールが格段に良化されていることが確認で
きた。
熱ローラによシ巻取前にカール修正処理を行った試料屋
！及び６は従来のもの（試料Ｊｆ６．７、ｇ）に比較し
、ウェブのカールが格段に良化されていることが確認で
きた。
又、第Ｖ図は、第１表の試料ＡＡと従来の方法で試料Ａ
ｇをカール修正した時のウェブ幅方向の位置によるカー
ルの残存状態を示したグラフであシ、Ｂ（試料ＡＡ）は
従来のものＡ（試料扁ｒ）よシもカールの度合が小さく
かつ比較的均一に展開していることが判明した。
ｇをカール修正した時のウェブ幅方向の位置によるカー
ルの残存状態を示したグラフであシ、Ｂ（試料ＡＡ）は
従来のものＡ（試料扁ｒ）よシもカールの度合が小さく
かつ比較的均一に展開していることが判明した。
第１図は、従来装置の要部略図、第２図は強磁性薄膜を
形成したウェブの平面説明図、第３図は本発明装置の略
図、第Ｖ図はウェブの幅方向のカール比較グラフである
。 ３コは真空槽、３≠はウェブ送出部、３ｔは冷却ドラム
、３７はウェブ巻取部、グコはウェブ加熱手段である。 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第４図
形成したウェブの平面説明図、第３図は本発明装置の略
図、第Ｖ図はウェブの幅方向のカール比較グラフである
。 ３コは真空槽、３≠はウェブ送出部、３ｔは冷却ドラム
、３７はウェブ巻取部、グコはウェブ加熱手段である。 特許出願人 富士写真フィルム株式会社第４図
Claims (1)
- （１）内部圧力ｆ／、０ＸＩＯ〜１．０Ｘ１０−７Ｔｏ
ｒｒの真空度に減圧、維持可能な真空槽内で、長尺の非
磁性かつ可撓性帯状支持体を連続的に移動させながら、
該支持体の表面に強磁性材料の蒸発粒子から成る蒸気流
を蒸着して強磁性薄膜を形成する装置において、前記真
空槽内にウェブ走行系、蒸発系、加熱系を夫々配設する
と＼もに、前記ウェブ走行系のオ却ドラムとウェブ巻平
部との間にウェブ加熱手段を挿設して成ること全特徴と
する強磁性薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3939883A JPS59165410A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 強磁性薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3939883A JPS59165410A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 強磁性薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59165410A true JPS59165410A (ja) | 1984-09-18 |
Family
ID=12551882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3939883A Pending JPS59165410A (ja) | 1983-03-10 | 1983-03-10 | 強磁性薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59165410A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423506A (en) * | 1977-07-22 | 1979-02-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording media |
| JPS57167137A (en) * | 1981-04-06 | 1982-10-14 | Olympus Optical Co Ltd | Formation for thin film |
| JPS57167138A (en) * | 1981-04-06 | 1982-10-14 | Olympus Optical Co Ltd | Heat treatment device for film formed with pellicle |
| JPS58169333A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-05 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製法 |
-
1983
- 1983-03-10 JP JP3939883A patent/JPS59165410A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423506A (en) * | 1977-07-22 | 1979-02-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic recording media |
| JPS57167137A (en) * | 1981-04-06 | 1982-10-14 | Olympus Optical Co Ltd | Formation for thin film |
| JPS57167138A (en) * | 1981-04-06 | 1982-10-14 | Olympus Optical Co Ltd | Heat treatment device for film formed with pellicle |
| JPS58169333A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-05 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製法 |
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