JPS6031012B2 - 磁気記録体の製造方法 - Google Patents
磁気記録体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6031012B2 JPS6031012B2 JP9850176A JP9850176A JPS6031012B2 JP S6031012 B2 JPS6031012 B2 JP S6031012B2 JP 9850176 A JP9850176 A JP 9850176A JP 9850176 A JP9850176 A JP 9850176A JP S6031012 B2 JPS6031012 B2 JP S6031012B2
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- JP
- Japan
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- magnetic recording
- recording material
- present
- film
- base material
- Prior art date
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、長尺の。
子 多気テープ等の磁気記録体の製造方法を提供せんと
するものである。
するものである。
記録密度の向上に対する要求にこたえるべく、新しいタ
イプの磁気記録体とその製造方法に対する改良が最近進
められている。
イプの磁気記録体とその製造方法に対する改良が最近進
められている。
その代表的な方向のひとつに、黍着技術に基礎を置いた
金属または強磁性薄膜を利用した記録体がある。
金属または強磁性薄膜を利用した記録体がある。
これらはいわゆる真空蒸着法、スパッタリング法、イオ
ンプレーティング法などと呼ばれる蒸着技術により高分
子成形物の基材上に連続して強磁性薄膜をうろことによ
り、磁気記録体をうるわけであるが、高記録密度の条件
である高い保持力の薄膜をうるには、特公昭４１一１９
３８計号公報に開示されているような斜め蒸着が必要で
あり、この実施には、蒸発の原理的特長である４汀ラジ
アン方向に出る蒸気流の限定方向のみの蒸気流で黍着す
ることが必要であった。このことは、成膜速度を低くす
ることになり、いままでは高保持力をうろことと成膜速
度をあげることは相反する条件で実用上の隣路となって
いた。本発明は、高い保持力をうるとともに磁気テープ
等の良尺記録体において必要な条件である長手方向に容
易軸が存在する磁性膜を確実にかつ従来より高速でうろ
ことにより実用上の隙路を排除するものである。本発明
を実施するに有用な装置の一例を第１図に、本発明によ
り得られた磁気記録体の特性の一例を第２図イ，口に示
す。
ンプレーティング法などと呼ばれる蒸着技術により高分
子成形物の基材上に連続して強磁性薄膜をうろことによ
り、磁気記録体をうるわけであるが、高記録密度の条件
である高い保持力の薄膜をうるには、特公昭４１一１９
３８計号公報に開示されているような斜め蒸着が必要で
あり、この実施には、蒸発の原理的特長である４汀ラジ
アン方向に出る蒸気流の限定方向のみの蒸気流で黍着す
ることが必要であった。このことは、成膜速度を低くす
ることになり、いままでは高保持力をうろことと成膜速
度をあげることは相反する条件で実用上の隣路となって
いた。本発明は、高い保持力をうるとともに磁気テープ
等の良尺記録体において必要な条件である長手方向に容
易軸が存在する磁性膜を確実にかつ従来より高速でうろ
ことにより実用上の隙路を排除するものである。本発明
を実施するに有用な装置の一例を第１図に、本発明によ
り得られた磁気記録体の特性の一例を第２図イ，口に示
す。
真空槽１を例えば２つの蒸着室２，３に分けて高分子成
形物の基材４上へ、２種類の蒸発源により、二層からな
る磁気記録体をうるように構成する。
形物の基材４上へ、２種類の蒸発源により、二層からな
る磁気記録体をうるように構成する。
また目的に応じて多層化する場合についても本発明は、
もちろん有用であり、そのための装置構成は、公知のノ
，ンラィン方式による等、第１図の基本構成をもとに応
用されるものである。蒸発源は抵抗加熱、誘導加熱、電
子ビーム加熱等、いずれを用いてもよく、便宜上第１図
では抵抗加熱法を模式的に示した。フィラメント５，６
に装着された強磁性体（図示せず）は、加熱電源５′，
６′の調整により加熱蒸発される。７，８は真空排気系
であり、必要に応じて系内に不活性気体、反応性気体を
導入することも可能であり、それらの応用は公知範囲内
で実施できるものである。
もちろん有用であり、そのための装置構成は、公知のノ
，ンラィン方式による等、第１図の基本構成をもとに応
用されるものである。蒸発源は抵抗加熱、誘導加熱、電
子ビーム加熱等、いずれを用いてもよく、便宜上第１図
では抵抗加熱法を模式的に示した。フィラメント５，６
に装着された強磁性体（図示せず）は、加熱電源５′，
６′の調整により加熱蒸発される。７，８は真空排気系
であり、必要に応じて系内に不活性気体、反応性気体を
導入することも可能であり、それらの応用は公知範囲内
で実施できるものである。
本発明の基本的要点は、例えば原反９よりローラ１０を
介して連続的に移動し、かつ葵着されていく基村４が少
くとも強磁性材料の蒸着前に例えば圧延ローラ１１で圧
延して延伸されることにある。１２は巻き取られた基材
を示す。
介して連続的に移動し、かつ葵着されていく基村４が少
くとも強磁性材料の蒸着前に例えば圧延ローラ１１で圧
延して延伸されることにある。１２は巻き取られた基材
を示す。
１３は絶縁導入端子である。
圧延ローラ１１は常温であっても効果を有するし、熱処
理を兼ねて昇温状態で圧延出来るように構成されてもよ
い。第２図の特性をうるのに用いた圧延ローラ１１は、
一方のローラを固定で、他方のローラを固定ローラ側に
バネで引っ張った状態で、かつ熱媒をローラに通し、約
５０ｑｏに保持した構成で、３組のローラを１０伽置き
に配して実施した例である。第２図において、１４は延
伸なしの場合の、１５，１６はバネ張力５０ｋ９、１０
０ｋｇの時のそれぞれ特性図である。第１図の装置を用
いて、基材をポリエチレンテレフタレートフィルム厚さ
（１２ｒ）として該基村上に純度９９．班％以上のＭｏ
を０．０５山蒸着したのち、約５０℃の熱煤を流した圧
延ローラで５０ｋ９×３（直列に３回通した）、１００
ｋｇ×３（同）の本発明実施の場合と従来通り圧延ロー
ラを取り外して圧延を行わなかった場合につき、鉄の１
８００八膜厚の強磁性体層を蒸着形成し、直流磁化曲線
を実施した結果、長尺方向とそれに直角な方向の特性を
第２図に示した。
理を兼ねて昇温状態で圧延出来るように構成されてもよ
い。第２図の特性をうるのに用いた圧延ローラ１１は、
一方のローラを固定で、他方のローラを固定ローラ側に
バネで引っ張った状態で、かつ熱媒をローラに通し、約
５０ｑｏに保持した構成で、３組のローラを１０伽置き
に配して実施した例である。第２図において、１４は延
伸なしの場合の、１５，１６はバネ張力５０ｋ９、１０
０ｋｇの時のそれぞれ特性図である。第１図の装置を用
いて、基材をポリエチレンテレフタレートフィルム厚さ
（１２ｒ）として該基村上に純度９９．班％以上のＭｏ
を０．０５山蒸着したのち、約５０℃の熱煤を流した圧
延ローラで５０ｋ９×３（直列に３回通した）、１００
ｋｇ×３（同）の本発明実施の場合と従来通り圧延ロー
ラを取り外して圧延を行わなかった場合につき、鉄の１
８００八膜厚の強磁性体層を蒸着形成し、直流磁化曲線
を実施した結果、長尺方向とそれに直角な方向の特性を
第２図に示した。
圧延効果により磁気記録に必要な最尺方向のＨｃ（保磁
力）の向上と、最尺方向、直角方向の異方性の明確化が
はっきり現れており、特に斜め蒸着によらずとも保磁力
向上目的が達成できるものである。次に本発明の製造方
法について詳述する。
力）の向上と、最尺方向、直角方向の異方性の明確化が
はっきり現れており、特に斜め蒸着によらずとも保磁力
向上目的が達成できるものである。次に本発明の製造方
法について詳述する。
実施例 １
原反９よりローラ１０を介して連続的に移送される基材
シート４に、まずフィラメント５による強磁性体の蒸発
源で強磁性体を蒸発させて黍着し、ついで圧延ローラ１
１にて基材シートを最尺万向に圧延する。
シート４に、まずフィラメント５による強磁性体の蒸発
源で強磁性体を蒸発させて黍着し、ついで圧延ローラ１
１にて基材シートを最尺万向に圧延する。
しかる後にフィラメント６による強磁性体の蒸発源で強
磁性体を再度蒸着し、巻取りロールによって巻取る。実
施例 ２ 原反９より必要によりローラ１０を介して連続的に移送
される基材シート４を、圧延ローラー１にて長尺方向に
圧延し、しかる後に蒸発源６より強磁性体を蒸発させて
蒸着し巻取りロール１２によって巻取る。
磁性体を再度蒸着し、巻取りロールによって巻取る。実
施例 ２ 原反９より必要によりローラ１０を介して連続的に移送
される基材シート４を、圧延ローラー１にて長尺方向に
圧延し、しかる後に蒸発源６より強磁性体を蒸発させて
蒸着し巻取りロール１２によって巻取る。
すなわち、第１図で、フィラメント５による蒸発源を除
去した場合の製造方法である。本発明により保磁力が向
上するのは、蒸着する以前に延伸すると基材に機械的に
変位の異万性が残り、その上に葵着すると基材から黍着
膜がその変位の戻りに応じて応力を受けて異方性を誘導
することからくる保磁力の向上であると思われる。
去した場合の製造方法である。本発明により保磁力が向
上するのは、蒸着する以前に延伸すると基材に機械的に
変位の異万性が残り、その上に葵着すると基材から黍着
膜がその変位の戻りに応じて応力を受けて異方性を誘導
することからくる保磁力の向上であると思われる。
本発明の効果は、基材をポリィミド、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等の汎用プラスチックフィルム、鉄、コバ
ルト、ニッケルまたはそれらの合金ないいま添加元素を
必要に応じて加えた強磁性体との組み合わせのいずれで
も認められ、非磁性体層をはさんで磁性体層を重畳多層
化する場合においても有効である。また斜めの蒸着との
併用による効果も、特に生産速度を強く要望されない場
合は勿論期待できるが、本発明により特に斜め蒸着によ
らなくても高密度記録を達成でき、その産業性は大きい
ものである。
リプロピレン等の汎用プラスチックフィルム、鉄、コバ
ルト、ニッケルまたはそれらの合金ないいま添加元素を
必要に応じて加えた強磁性体との組み合わせのいずれで
も認められ、非磁性体層をはさんで磁性体層を重畳多層
化する場合においても有効である。また斜めの蒸着との
併用による効果も、特に生産速度を強く要望されない場
合は勿論期待できるが、本発明により特に斜め蒸着によ
らなくても高密度記録を達成でき、その産業性は大きい
ものである。
第１図は本発明の製造方法を実施するために使用する装
置の一実施例の断面正面図、第２図イ，口は本発明の製
造方法によって得られた磁気記録体の最尺方向とそれに
直角方向のＨ−Ｂ特性図である。 ４……基材、５，６……蒸発源のフィラメント、１ １
・・・・・・圧延ローラ。 第１図 第２図
置の一実施例の断面正面図、第２図イ，口は本発明の製
造方法によって得られた磁気記録体の最尺方向とそれに
直角方向のＨ−Ｂ特性図である。 ４……基材、５，６……蒸発源のフィラメント、１ １
・・・・・・圧延ローラ。 第１図 第２図
Claims (1)
- １ 長尺の高分子成形物からなる基材を長尺方向に延伸
した後に真空状態で強磁耐体を蒸着することを特徴とす
る磁気記録体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9850176A JPS6031012B2 (ja) | 1976-08-17 | 1976-08-17 | 磁気記録体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9850176A JPS6031012B2 (ja) | 1976-08-17 | 1976-08-17 | 磁気記録体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5323607A JPS5323607A (en) | 1978-03-04 |
| JPS6031012B2 true JPS6031012B2 (ja) | 1985-07-19 |
Family
ID=14221379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9850176A Expired JPS6031012B2 (ja) | 1976-08-17 | 1976-08-17 | 磁気記録体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6031012B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5924447A (ja) * | 1982-07-29 | 1984-02-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1976
- 1976-08-17 JP JP9850176A patent/JPS6031012B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5323607A (en) | 1978-03-04 |
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