JPS59129944A - 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置Info
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- JPS59129944A JPS59129944A JP233783A JP233783A JPS59129944A JP S59129944 A JPS59129944 A JP S59129944A JP 233783 A JP233783 A JP 233783A JP 233783 A JP233783 A JP 233783A JP S59129944 A JPS59129944 A JP S59129944A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、基体に磁性膜が形成された磁気記録媒体の製
造′方法及び該製造方法に使用する磁気記録媒体の製造
装置に関するものである。
造′方法及び該製造方法に使用する磁気記録媒体の製造
装置に関するものである。
近年、高密度磁気記録媒体として垂直磁気記録媒体の研
究開発が活発に行われている。このような磁気記録媒体
は、一般に、ポリエステルフィルム等を基体とし、その
上に磁気記録媒体として適する金属や合金等の薄膜（磁
性膜）を付着させることにより、形成される。そして、
基体上に磁性膜を形成するために、生産性の点から、高
速で膜形成を行うことができる直流（ＤＣ）マグネトロ
ンスパッタ法や真空蒸着法を用いている。
究開発が活発に行われている。このような磁気記録媒体
は、一般に、ポリエステルフィルム等を基体とし、その
上に磁気記録媒体として適する金属や合金等の薄膜（磁
性膜）を付着させることにより、形成される。そして、
基体上に磁性膜を形成するために、生産性の点から、高
速で膜形成を行うことができる直流（ＤＣ）マグネトロ
ンスパッタ法や真空蒸着法を用いている。
ＤＣマグネトロンスパッタ法とは、陰極ターケ８ノドと
陽極との間に直流電源を接続し、この直流電源による陰
極ターゲットと陽極との間の直流電界に直交する磁界を
発生する手段を備え、上記電界と上記磁界とが直交した
場におけるマグネトロン放電を利用したスパッタ法であ
る。このＤＣマグネトロンスパッタ法によれば、直交電
磁界の影響で電子が陽極に衝突する割合が少なくなり、
陽極の温度上昇をおさえることができる。このため。
陽極との間に直流電源を接続し、この直流電源による陰
極ターゲットと陽極との間の直流電界に直交する磁界を
発生する手段を備え、上記電界と上記磁界とが直交した
場におけるマグネトロン放電を利用したスパッタ法であ
る。このＤＣマグネトロンスパッタ法によれば、直交電
磁界の影響で電子が陽極に衝突する割合が少なくなり、
陽極の温度上昇をおさえることができる。このため。
陰極ターケ゛ットと陽極との間に、大電力を与えてスパ
ッタを行うことができ、従って高速で膜形成を行うこと
ができる。
ッタを行うことができ、従って高速で膜形成を行うこと
ができる。
しかしながら、生産性向上のために、このようなりＣマ
グネトロンスパッタ法や上述の真空蒸着法を用いて基体
に磁性膜を形成すると、基体と磁性膜との間に充分な付
着強度が得られず、磁気記録媒体として充分な耐メ性が
得られない。
グネトロンスパッタ法や上述の真空蒸着法を用いて基体
に磁性膜を形成すると、基体と磁性膜との間に充分な付
着強度が得られず、磁気記録媒体として充分な耐メ性が
得られない。
本発明の目的は、耐久性に優れた磁気記録媒体を、生産
性をおとすことなく製造できる磁気記録媒体の製造方法
及び該製造方法に使用する磁気記録媒体の製造装置を提
供することにある。
性をおとすことなく製造できる磁気記録媒体の製造方法
及び該製造方法に使用する磁気記録媒体の製造装置を提
供することにある。
本発明によれば、基体に磁性膜が形成された磁気記録媒
体を製造する方法において、前記基体に前記磁性膜と同
種又は異種の膜を交流スパッタ法により付着させる工程
と、該交流スパッタ法により前記基体に付着させた膜上
に、前記磁性膜を直流マグネトロンス・ぐツタ法又は真
空蒸着法により付着させる工程とを含む磁気記録媒体の
製造方法が得られる。
体を製造する方法において、前記基体に前記磁性膜と同
種又は異種の膜を交流スパッタ法により付着させる工程
と、該交流スパッタ法により前記基体に付着させた膜上
に、前記磁性膜を直流マグネトロンス・ぐツタ法又は真
空蒸着法により付着させる工程とを含む磁気記録媒体の
製造方法が得られる。
更に２本発明によれば、基体に磁性膜が形成された磁気
記録媒体を製造するだめの装置において。
記録媒体を製造するだめの装置において。
前記基体に前記磁性膜と同種又は異種の膜を交流スパッ
タ法により付着させる第１の膜形成部と、該第１の膜形
成部により前記基体に付着された膜上に、前記磁性膜を
直流マグネトロンスパッタ又は真空蒸着にょシ付着させ
る第２の膜形成部とを有する磁気記録媒体の製造装置が
得られる。
タ法により付着させる第１の膜形成部と、該第１の膜形
成部により前記基体に付着された膜上に、前記磁性膜を
直流マグネトロンスパッタ又は真空蒸着にょシ付着させ
る第２の膜形成部とを有する磁気記録媒体の製造装置が
得られる。
次に図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第１図を参照すると、従来の磁気記録媒体の製は真空容
器、２はパルプ、３は真空ポンプである。 ゛真空
容器ｌはパルプ２を介して真空ポンプ３にょ１） Ｎｏ
−７Ｔｏｒｒ台に排気される。このように充分に排気さ
れた後に真空容器１にはアルゴンガス圧力調整用可変パ
ルプ４を介してアルゴンガスボンベ５よりアルゴンガス
が導入され、以後真空容器１内の圧力は５×１０〜Ｉ
Ｘ １０ Ｔｏｒｒ程度に維持される。６は基体（例
えばポリエステルフィルム）１１を巻いた送り出しロー
ル、７及び７′はガイドロール、８は磁性薄膜を付着さ
せた基体１１を巻き取るための巻き取りロールである。
器、２はパルプ、３は真空ポンプである。 ゛真空
容器ｌはパルプ２を介して真空ポンプ３にょ１） Ｎｏ
−７Ｔｏｒｒ台に排気される。このように充分に排気さ
れた後に真空容器１にはアルゴンガス圧力調整用可変パ
ルプ４を介してアルゴンガスボンベ５よりアルゴンガス
が導入され、以後真空容器１内の圧力は５×１０〜Ｉ
Ｘ １０ Ｔｏｒｒ程度に維持される。６は基体（例
えばポリエステルフィルム）１１を巻いた送り出しロー
ル、７及び７′はガイドロール、８は磁性薄膜を付着さ
せた基体１１を巻き取るための巻き取りロールである。
これら、６゜７．７′及び８は、真空容器ｌ内の所定方
向に基体１１を移動させるだめの基体送シ機構を構成し
ている。基体１１は送り出しロール６から送り出されガ
イドロール７及び７′を通過し２巻き取りロール８で巻
き取られている。また、ガイドロール７と７′との間に
は、基体１１に形成される磁性薄膜と同種の利料のター
ゲット（陰極）９と、基体支持電極（陽極）１０とが配
置されている。ターケ・ット９に直流電源１２より負電
位が与えられる。
向に基体１１を移動させるだめの基体送シ機構を構成し
ている。基体１１は送り出しロール６から送り出されガ
イドロール７及び７′を通過し２巻き取りロール８で巻
き取られている。また、ガイドロール７と７′との間に
は、基体１１に形成される磁性薄膜と同種の利料のター
ゲット（陰極）９と、基体支持電極（陽極）１０とが配
置されている。ターケ・ット９に直流電源１２より負電
位が与えられる。
ターケ゛ット９の裏側には、ターゲット９と基体支持電
極１０との間の直流電界に直交する磁界を発生するマグ
ネット（図示せず）が配置されている。
極１０との間の直流電界に直交する磁界を発生するマグ
ネット（図示せず）が配置されている。
上述の如く、真空容器ｌ内を５ Ｘ １０”−４Ｔｏｒ
ｒ〜Ｉ Ｘ １０”−２Ｔｏｒｒ程度の圧力に維持して
、ターケ゛ット９と真空容器１との間にグロー放電（こ
の場合。
ｒ〜Ｉ Ｘ １０”−２Ｔｏｒｒ程度の圧力に維持して
、ターケ゛ット９と真空容器１との間にグロー放電（こ
の場合。
直交電磁場におけるマグネトロン放電）を生ぜしめて、
ターケ゛ット９の原子を基体１１に付着せしめ、基体１
１に磁性薄膜を形成する。なお、第１図において、２０
は絶縁物である。
ターケ゛ット９の原子を基体１１に付着せしめ、基体１
１に磁性薄膜を形成する。なお、第１図において、２０
は絶縁物である。
このように、従来、磁気記録媒体の生産性の向上のため
に、高速で膜形成を行うことができるＤＣマグネトロン
スパッタ装置や真空蒸着装置を用いて、磁気記録媒体を
製造するのが、一般的である。しかしながら、ＤＣマグ
ネトロンスパッタ装置や真空蒸着装置を用いて磁気記録
媒体を製造すると、基体と磁性薄膜との間の付着強度が
弱く、磁気記録媒体の耐久性が悪いという欠点があった
。
に、高速で膜形成を行うことができるＤＣマグネトロン
スパッタ装置や真空蒸着装置を用いて、磁気記録媒体を
製造するのが、一般的である。しかしながら、ＤＣマグ
ネトロンスパッタ装置や真空蒸着装置を用いて磁気記録
媒体を製造すると、基体と磁性薄膜との間の付着強度が
弱く、磁気記録媒体の耐久性が悪いという欠点があった
。
第２図を参照すると２本発明の一実施例に係る磁気記録
媒体の製造装置は、目的とする磁性膜と同種又は異種の
膜を基体１１に、交流（ＡＣ）スパッタ（具体的には高
周波（ＲＦ）ス・母ツタ）により付着させる第１の膜形
成部Ａと、該第１の膜形成部Ａにより基体１１に付着さ
れた膜上に、目的とする磁性膜をＤＣマグネトロンスパ
ッタによシ付着させる第２の膜形成部Ｂとを有している
。第１の膜形成部Ａば、ＡＣスパッタ用ターケ゛ッ）１
３や基体支持電極１４等を有している。壕だ、第２の膜
形成部Ｂは、第１図の場合と同様のＤＣマグネトロンス
パッタ用のターケ８ノド９や基体支持電極１０等を有し
ている。第２図において、第１図と同じ番号を付したも
のは第１図で説明したのと同一の機能を有している。即
ち、第２の膜形成部Ｂは、第１図のＤＣマグネトロンス
パッタ装置と同様の構成を有している。従って、ここで
は第１の膜形成部Ａについて詳細に説明する。
媒体の製造装置は、目的とする磁性膜と同種又は異種の
膜を基体１１に、交流（ＡＣ）スパッタ（具体的には高
周波（ＲＦ）ス・母ツタ）により付着させる第１の膜形
成部Ａと、該第１の膜形成部Ａにより基体１１に付着さ
れた膜上に、目的とする磁性膜をＤＣマグネトロンスパ
ッタによシ付着させる第２の膜形成部Ｂとを有している
。第１の膜形成部Ａば、ＡＣスパッタ用ターケ゛ッ）１
３や基体支持電極１４等を有している。壕だ、第２の膜
形成部Ｂは、第１図の場合と同様のＤＣマグネトロンス
パッタ用のターケ８ノド９や基体支持電極１０等を有し
ている。第２図において、第１図と同じ番号を付したも
のは第１図で説明したのと同一の機能を有している。即
ち、第２の膜形成部Ｂは、第１図のＤＣマグネトロンス
パッタ装置と同様の構成を有している。従って、ここで
は第１の膜形成部Ａについて詳細に説明する。
ＡＣス／Ｆツタ用ターケ゛ット１３は、磁性薄膜形成用
のターゲット９と同−利料、もしくは基体（例えばポリ
エステルフィルム）１１に対する付着力の強い制別から
成っている。ＡＣスパッタ用ターケ゛ット１３は、ター
ケ゛ット９よりも基体の移動始端側に配置されている。
のターゲット９と同−利料、もしくは基体（例えばポリ
エステルフィルム）１１に対する付着力の強い制別から
成っている。ＡＣスパッタ用ターケ゛ット１３は、ター
ケ゛ット９よりも基体の移動始端側に配置されている。
基体支持電極１４はＡＣスパッタ用ターケ゛ット１３に
対向して配置さガスを含む真空容器１内の圧力が５×１
０〜Ｉ Ｘ １．０”−２Ｔｏｒｒにおいて、ＡＣ電源
１５よ、９ＡＣ電圧を蓄電器１６を介して印加すると、
ターケ゛ット１３と真空容器１との間でグロー放電が生
じ。
対向して配置さガスを含む真空容器１内の圧力が５×１
０〜Ｉ Ｘ １．０”−２Ｔｏｒｒにおいて、ＡＣ電源
１５よ、９ＡＣ電圧を蓄電器１６を介して印加すると、
ターケ゛ット１３と真空容器１との間でグロー放電が生
じ。
ターケ８ット１゛３の成分原子は基体１１に付着する。
この場合、ターケゝソト１３と基体支持電極１４との間
隙を通過している部分の基体１１にはターゲット１３の
成分原子の他に荷電粒子が衝突し、基体表面の洗浄作用
と、温度上昇を生せしめるだめ。
隙を通過している部分の基体１１にはターゲット１３の
成分原子の他に荷電粒子が衝突し、基体表面の洗浄作用
と、温度上昇を生せしめるだめ。
飛来したターゲット１３の成分原子は基体１１にｉ力に
付着する。これらの現象は、ＤＣマグネトロンスパッタ
においてもみられるが、ＡＣスパッタの場合に比して極
めて微小な量の荷電粒子しか基体に衝突しない。このこ
とがＤＣマグネトロンス・ぐツタの時、基体と磁性薄膜
の付着力が弱い原因と考えられる。
付着する。これらの現象は、ＤＣマグネトロンスパッタ
においてもみられるが、ＡＣスパッタの場合に比して極
めて微小な量の荷電粒子しか基体に衝突しない。このこ
とがＤＣマグネトロンス・ぐツタの時、基体と磁性薄膜
の付着力が弱い原因と考えられる。
以上のような第１の膜形成部Ａにおけるターケ゛ット１
３によるＡＣスパッタによる成膜に引き続いて、第２の
膜形成部Ｂにおけるターゲット９によるＤＣマグネトロ
ンス・フッタを行い、基体ｌｌ上に必要々膜厚を有する
磁性薄膜を高速で形成する。
３によるＡＣスパッタによる成膜に引き続いて、第２の
膜形成部Ｂにおけるターゲット９によるＤＣマグネトロ
ンス・フッタを行い、基体ｌｌ上に必要々膜厚を有する
磁性薄膜を高速で形成する。
このようにして、製造された磁気記録媒体は極めて強力
外付着力を有し、耐久性の良い磁気記録媒体を製造する
ことができた。
外付着力を有し、耐久性の良い磁気記録媒体を製造する
ことができた。
また、クーケ８ット１３によるＡＣスパッタで付着させ
る薄膜の膜厚は極めて薄くても著しい効果があることが
実験結果よシ判明した。第３図はＡＣ，（バッタによる
付着する膜厚と付着強度を示す実験結果であり、付着強
度は相対値で示したものである。この結果よりＡＣスノ
Ｅツタによシ膜厚を１００Ｘ以上付着させれば極めて強
い付着力を示すことがわかる。
る薄膜の膜厚は極めて薄くても著しい効果があることが
実験結果よシ判明した。第３図はＡＣ，（バッタによる
付着する膜厚と付着強度を示す実験結果であり、付着強
度は相対値で示したものである。この結果よりＡＣスノ
Ｅツタによシ膜厚を１００Ｘ以上付着させれば極めて強
い付着力を示すことがわかる。
以上に本発明の一実施例の説明を行ったが２本発明の思
想はこれに限定されるものではないことは明らかである
。例えば、上記実施例では第２の膜形成部ＢとしてＤＣ
マグネトロンスパッタ装置を用いたが、第２の膜形成部
Ｂとして、該ＤＣマグネトロンスパッタ装置と同様に高
速で膜形成を行うことができる真空蒸着装置を用いるこ
ともできるＯ 以上説明したように２本発明によれば、耐久性に優れた
磁気記録媒体を、生産性をおとすことなく製造できる磁
気記録媒体の製造方法及び該製造方法に使用する磁気記
録媒体の製造装置が得られる。
想はこれに限定されるものではないことは明らかである
。例えば、上記実施例では第２の膜形成部ＢとしてＤＣ
マグネトロンスパッタ装置を用いたが、第２の膜形成部
Ｂとして、該ＤＣマグネトロンスパッタ装置と同様に高
速で膜形成を行うことができる真空蒸着装置を用いるこ
ともできるＯ 以上説明したように２本発明によれば、耐久性に優れた
磁気記録媒体を、生産性をおとすことなく製造できる磁
気記録媒体の製造方法及び該製造方法に使用する磁気記
録媒体の製造装置が得られる。
第１図は従来の磁気記録媒体製造装置を示す概略図、第
２図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体製造装置を
示す概略図、第３図はＡＣス・ぐツタにより基体上に形
成された膜の膜厚と該膜の基体に対する相対付着強度を
示した図である。 １・・・真空容器、２・・・バルブ、３・・・真空ポン
プ。 ４・・・アルコゞンガス圧力調整用可変パルプ、５・・
・アルコゞンボンベ、６・・・送す出シロール、７及ヒ
フ′・・・ガイドロール、８・・・巻き取りロール、９
・・・ターケゞット、１０・・・基体支持電極、１１・
・・基体、１２・・・直流電源、１３・・・ＡＣスパッ
タ用ターケゝット、１４・・・基体支持電極、１５・・
・ＡＣ電源、１６・・・蓄電器。 ２０・・・絶縁物、Ａ・・・第１の膜形成部、Ｂ・・・
第２の第２図 ＡＣスパッタｌはる膜厚 第３図
２図は本発明の一実施例に係る磁気記録媒体製造装置を
示す概略図、第３図はＡＣス・ぐツタにより基体上に形
成された膜の膜厚と該膜の基体に対する相対付着強度を
示した図である。 １・・・真空容器、２・・・バルブ、３・・・真空ポン
プ。 ４・・・アルコゞンガス圧力調整用可変パルプ、５・・
・アルコゞンボンベ、６・・・送す出シロール、７及ヒ
フ′・・・ガイドロール、８・・・巻き取りロール、９
・・・ターケゞット、１０・・・基体支持電極、１１・
・・基体、１２・・・直流電源、１３・・・ＡＣスパッ
タ用ターケゝット、１４・・・基体支持電極、１５・・
・ＡＣ電源、１６・・・蓄電器。 ２０・・・絶縁物、Ａ・・・第１の膜形成部、Ｂ・・・
第２の第２図 ＡＣスパッタｌはる膜厚 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基体に磁性膜が形成された磁気記録媒体を製造する
方法において、前記基体に前記磁性膜と同種又は異種の
膜を交流スパッタ法によシ付着させる工程と、該交流ス
４ツタ法により前記基体に付着させた膜上に、前記磁性
膜を直流マグネトロンスパッタ法又は真空蒸着法により
付着させる工程とを含む磁気記録媒体の製造方法。 ２ 基体に磁性膜が形成された磁気記録媒体を製造する
だめの装置において、前記基体に前記磁性膜と同種又は
異種の膜を交流スパッタ法により付着させる第１の膜形
成部と、該第１の膜形成部により前記基体に付着された
膜上に、前記磁性膜を直流マグネトロンスパ、り又は真
空蒸着により付着させる第２の膜形成部とを有する磁気
記録媒体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP233783A JPS59129944A (ja) | 1983-01-12 | 1983-01-12 | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP233783A JPS59129944A (ja) | 1983-01-12 | 1983-01-12 | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59129944A true JPS59129944A (ja) | 1984-07-26 |
| JPH0335731B2 JPH0335731B2 (ja) | 1991-05-29 |
Family
ID=11526485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP233783A Granted JPS59129944A (ja) | 1983-01-12 | 1983-01-12 | 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59129944A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2571534A1 (fr) * | 1984-10-04 | 1986-04-11 | Tdk Corp | Procede de realisation d'un support d'enregistrement magnetique |
| JPS6267729A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-27 | Sanyo Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-01-12 JP JP233783A patent/JPS59129944A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2571534A1 (fr) * | 1984-10-04 | 1986-04-11 | Tdk Corp | Procede de realisation d'un support d'enregistrement magnetique |
| JPS6267729A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-03-27 | Sanyo Electric Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0555930B2 (ja) * | 1985-09-20 | 1993-08-18 | Sanyo Electric Co |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0335731B2 (ja) | 1991-05-29 |
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