JPS62266731A - 垂直磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents
垂直磁気記録媒体の製造装置Info
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- JPS62266731A JPS62266731A JP10946486A JP10946486A JPS62266731A JP S62266731 A JPS62266731 A JP S62266731A JP 10946486 A JP10946486 A JP 10946486A JP 10946486 A JP10946486 A JP 10946486A JP S62266731 A JPS62266731 A JP S62266731A
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- perpendicular magnetic
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は垂直磁気記録媒体の製造装置に関するものであ
る。
る。
従来、垂直磁気記録方式による高密度磁気記録を実現さ
せる材料として有力なものにＣｏＣｒ合金膜がある。
せる材料として有力なものにＣｏＣｒ合金膜がある。
この合金膜は主に真空蒸法、ス・ぐツタリング法。
メッキ法等によって製造され、磁性層が連続体であるた
めに記録密度の飛躍的な向上が期待されている。
めに記録密度の飛躍的な向上が期待されている。
しかしながら、こうして得た磁性層は耐久性に乏しかっ
た。
た。
本発明者はス／Ｊツタ法によるＣｏＣｒ膜作成において
スパッタ圧力ｆ ２Ｘ１０ Ｔｏｒｒ以下にすればＣ
ｏＣｒ膜の機械的特性即ち耐久性が向上することを見い
出した。
スパッタ圧力ｆ ２Ｘ１０ Ｔｏｒｒ以下にすればＣ
ｏＣｒ膜の機械的特性即ち耐久性が向上することを見い
出した。
しかしながら２Ｘ１０ Ｔｏｒｒｉｄ、下の圧力での
スノ臂ツタリングは装置限界に近く、放電が不安定にな
りやすいため、再現性及び信頼性の点で困難がある。
スノ臂ツタリングは装置限界に近く、放電が不安定にな
りやすいため、再現性及び信頼性の点で困難がある。
本発明はこれらの欠点を除去するため、スノＪ？ツタ圧
力を下げることなく、膜の機械的特性を向上させること
のできる垂直磁気記録媒体の製造装置を提供すること金
目的とする。
力を下げることなく、膜の機械的特性を向上させること
のできる垂直磁気記録媒体の製造装置を提供すること金
目的とする。
一般にスフ４ツタ原子の基板到達時の運動・千ネルギー
はス・母ツタ圧力が高いほど小さくなる。これは、ター
ゲットからたたき出されたスパッタ原子が基板に到達す
るまでにアルゴン分子と衝突′シ。
はス・母ツタ圧力が高いほど小さくなる。これは、ター
ゲットからたたき出されたスパッタ原子が基板に到達す
るまでにアルゴン分子と衝突′シ。
運動エネルギーの一部を失う確率が高くなるためである
。これが、スパッタ圧力を高くした場合に耐久性の良い
微細構造の磁性層を得られない理由であると考えられる
。
。これが、スパッタ圧力を高くした場合に耐久性の良い
微細構造の磁性層を得られない理由であると考えられる
。
とすれば、逆にスパッタ圧力を下げることなく。
機械的特性の良いＣｏＣｒ膜を得るには、スパッタ粒子
全加速して、運動エネルギーを増加させれば良いことに
なる。
全加速して、運動エネルギーを増加させれば良いことに
なる。
本発明は、このような考慮のもとになされたものである
。
。
即ち７本発明はＤＣマグネトロンス／Ｊ？ツタ装置を用
いた垂直磁気記録媒体の製造において、磁性層を形成す
べき基板とターゲットの間に、一対のＲＦ用電極を設け
、ＤＣス・ぐツタの際に、該ＲＦ用電電極間ＲＦ放電を
行わせることによってス・母フタ粒子を加速させるよう
にしｋものである。
いた垂直磁気記録媒体の製造において、磁性層を形成す
べき基板とターゲットの間に、一対のＲＦ用電極を設け
、ＤＣス・ぐツタの際に、該ＲＦ用電電極間ＲＦ放電を
行わせることによってス・母フタ粒子を加速させるよう
にしｋものである。
以下１本発明の実施例について図面を参照して説明する
。第１図を参照して、１はターゲット。
。第１図を参照して、１はターゲット。
２はスパッタ用直流電源、３は基板用ホルダー。
４は基ｉ、５はホルダーのためのバイアス用電源である
。ターケ９ット１．基板用ホルダー３および基板４は従
来同様容器中に収容されて、スパッタ装置を構成してい
る。
。ターケ９ット１．基板用ホルダー３および基板４は従
来同様容器中に収容されて、スパッタ装置を構成してい
る。
第１図の装置は１本発明に従い更に、ターゲット１と基
板４との間の領域に対向する一対の電極６．６′が設け
られている。これらの電極６，６′間にＲＦ雷電圧印加
するためのＲＦ主電源設けられている。
板４との間の領域に対向する一対の電極６．６′が設け
られている。これらの電極６，６′間にＲＦ雷電圧印加
するためのＲＦ主電源設けられている。
以下動作について説明する。
１）―
ターゲット１よシＤＣマグネトロンスノクツタ法により
たたき出された。２７９２２粒子９は、対向するＲＦＦ
極６，６′の間につくられたプラズマ領域８中を通過す
る間にイオン化され（イオンを１０で示す）電源５によ
ってバイアスをかけられた基板ホルダー３に向かって加
速され、基板４上に堆積する。
たたき出された。２７９２２粒子９は、対向するＲＦＦ
極６，６′の間につくられたプラズマ領域８中を通過す
る間にイオン化され（イオンを１０で示す）電源５によ
ってバイアスをかけられた基板ホルダー３に向かって加
速され、基板４上に堆積する。
ことによって形成されたＣｏ−Ｃｒ膜は機械的特性の良
好なものが得られた。
好なものが得られた。
例１
第１図に示す装置において、ポリエステルフィルム上に
ＣｏＣｒを５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの圧力でスパッタ
リングを行ない、バイアス電圧を０〜２５０Ｖｔで変化
させた。この時、 ｌ’ｊ Ｆ／＃ワーは２００Ｗ一定
とした。
ＣｏＣｒを５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの圧力でスパッタ
リングを行ない、バイアス電圧を０〜２５０Ｖｔで変化
させた。この時、 ｌ’ｊ Ｆ／＃ワーは２００Ｗ一定
とした。
例２
例１においてスパッタ圧力をｌＸｌ０ Ｔｏｒｒとし
。
。
バイアス電圧、ＲＦ／＃ワーを投入しないでＣｏＣｒ膜
の作成を行なった。
の作成を行なった。
例１及び例２で得られたＣｏＣｒ膜の膜強度をひろかき
テストで測定した結果を第２図に示す。−ここで、第２
図の縦軸の膜強度はひりかきテストで測定された限界荷
重を、バイアス電圧が１５０ｖのときを１として表した
相対値である。
テストで測定した結果を第２図に示す。−ここで、第２
図の縦軸の膜強度はひりかきテストで測定された限界荷
重を、バイアス電圧が１５０ｖのときを１として表した
相対値である。
第２図から１本発明によれば、イオン化したスパッタ粒
子がバイアス電位によって加速されることによシ得られ
るＣｏＣｒ膜の機械的特性がス・−Ｐ２り圧力を低くし
た時とほぼ同等になったことがわかる。
子がバイアス電位によって加速されることによシ得られ
るＣｏＣｒ膜の機械的特性がス・−Ｐ２り圧力を低くし
た時とほぼ同等になったことがわかる。
〔発明の効果〕 −
以上述べたように１本発明によればスノーツタ圧力を放
電限界近くまで下げることなく、ｌＸｌ０’Ｔｏｒｒの
ス・母ツタ圧力で作成されたものとほぼ同等な機械的特
性を持ったＣｏＣｒ膜が得られた。
電限界近くまで下げることなく、ｌＸｌ０’Ｔｏｒｒの
ス・母ツタ圧力で作成されたものとほぼ同等な機械的特
性を持ったＣｏＣｒ膜が得られた。
ここで本発明によって得られた効果はＣｏＣｒ以外の垂
直磁気記録用金属、薄膜に応用可能であり２本実施例に
制限されない。
直磁気記録用金属、薄膜に応用可能であり２本実施例に
制限されない。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示す概略図である。
第２図は本発明によって得られた磁性膜のバイアス電圧
と膜強度の関係を比較例とともに示す図である。 １・・・ターグーット、２・・・スパッタ用ＤＣ電源、
３・・・基板ホルダー、４・・・基板、５・・・バイア
ス用ＤＣ電源、 ６ 、６’・・・ＲＦＦ電用電極、７
・・・ＲＦ主電源８・・・ＲＦ放電領域、９・・・スｔ
Ｊ？ツタ粒子、１０・・・イオン化されたス・母ツタ粒
子。
と膜強度の関係を比較例とともに示す図である。 １・・・ターグーット、２・・・スパッタ用ＤＣ電源、
３・・・基板ホルダー、４・・・基板、５・・・バイア
ス用ＤＣ電源、 ６ 、６’・・・ＲＦＦ電用電極、７
・・・ＲＦ主電源８・・・ＲＦ放電領域、９・・・スｔ
Ｊ？ツタ粒子、１０・・・イオン化されたス・母ツタ粒
子。
Claims (1)
- １、負電位にバイアスされた基板ホルダーを持つＤＣマ
グネトロンスパッタ装置を用いた垂直磁気記録媒体の製
造装置において、ターゲットと基板との間に一対のＲＦ
放電用電極を設けたことを特徴とする垂直磁気記録媒体
の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10946486A JPS62266731A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 垂直磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10946486A JPS62266731A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 垂直磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62266731A true JPS62266731A (ja) | 1987-11-19 |
Family
ID=14510891
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10946486A Pending JPS62266731A (ja) | 1986-05-15 | 1986-05-15 | 垂直磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62266731A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02126424A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-05-15 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5734324A (en) * | 1980-08-08 | 1982-02-24 | Teijin Ltd | Manufacture of vertically magnetized film |
| JPS5925975A (ja) * | 1982-08-02 | 1984-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 合金薄膜の製造法 |
-
1986
- 1986-05-15 JP JP10946486A patent/JPS62266731A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5734324A (en) * | 1980-08-08 | 1982-02-24 | Teijin Ltd | Manufacture of vertically magnetized film |
| JPS5925975A (ja) * | 1982-08-02 | 1984-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 合金薄膜の製造法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02126424A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-05-15 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
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