JPS63251925A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS63251925A JPS63251925A JP62086008A JP8600887A JPS63251925A JP S63251925 A JPS63251925 A JP S63251925A JP 62086008 A JP62086008 A JP 62086008A JP 8600887 A JP8600887 A JP 8600887A JP S63251925 A JPS63251925 A JP S63251925A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- magnetic recording
- polymer film
- tape
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関するもので
ある。
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関するもので
ある。
従来の技術
強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体は、短
波長出力が大きいことから、今後、一層の進展が予測さ
れる高密度磁気記録に不可欠の媒体として位置づけされ
開発が進めら9れている〔外国論文誌:アイイーイーイ
ー トランザクションズオンマクネfイクス(IEEE
TRANSACTIONS ONMAGNETI
C3)vol MAG−21、p、p、1217〜1
220(1sas))。一般にかかる構成の磁気記録媒
体は高分子フィルムを円筒キャンに沿わせて巻き取りな
がら、スパッタリング法、電界蒸着法。
波長出力が大きいことから、今後、一層の進展が予測さ
れる高密度磁気記録に不可欠の媒体として位置づけされ
開発が進めら9れている〔外国論文誌:アイイーイーイ
ー トランザクションズオンマクネfイクス(IEEE
TRANSACTIONS ONMAGNETI
C3)vol MAG−21、p、p、1217〜1
220(1sas))。一般にかかる構成の磁気記録媒
体は高分子フィルムを円筒キャンに沿わせて巻き取りな
がら、スパッタリング法、電界蒸着法。
イオンブレーティング法、電子ビーム蒸着法等で、強磁
性金属薄膜を高分子フィルム上に形成することで磁気記
録層を得るものである〔特開昭63−42010号公報
、電子通信学会、磁気記録研究会資料 MR81−2(
1981) 、特開昭61−186475号公報等〕。
性金属薄膜を高分子フィルム上に形成することで磁気記
録層を得るものである〔特開昭63−42010号公報
、電子通信学会、磁気記録研究会資料 MR81−2(
1981) 、特開昭61−186475号公報等〕。
第2図は、斜め蒸着法にて、磁気記録媒体を製造するの
に利用される巻き取シ蒸着装置の要部構成図である。第
2図で1はポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等
の高分子フィルムで2は巻出し軸、3は巻取り軸、4は
チルドラムで、6は蒸発源、6は電子ビーム発生器、7
は集束された高エネルギー電子ビームで8はシャッター
、9は熱シールド、10は真空容器、11は真空隔壁。
に利用される巻き取シ蒸着装置の要部構成図である。第
2図で1はポリエチレンテレフタレート、ポリイミド等
の高分子フィルムで2は巻出し軸、3は巻取り軸、4は
チルドラムで、6は蒸発源、6は電子ビーム発生器、7
は集束された高エネルギー電子ビームで8はシャッター
、9は熱シールド、10は真空容器、11は真空隔壁。
12.13は排気孔、14は回転ローラである。
第2図の装置で、酸素を外部より導入しながら、蒸発源
5の位置や、電子ビームのエネルギー等を工夫すること
で最小入射角を小さくとり、蒸着効率を高める各種の工
夫がなされ実用化に近すいてきている〔特開昭55−1
2547号公報、特公昭57−19493号公報、特公
昭57−23931号公報、特公昭57−29770号
公報、特開昭69−124037号公報等〕。
5の位置や、電子ビームのエネルギー等を工夫すること
で最小入射角を小さくとり、蒸着効率を高める各種の工
夫がなされ実用化に近すいてきている〔特開昭55−1
2547号公報、特公昭57−19493号公報、特公
昭57−23931号公報、特公昭57−29770号
公報、特開昭69−124037号公報等〕。
一方高分子フィルムの表面形状の制御も磁気記録層の耐
久性を向上することが見出され、粒状突起、ミミズ状隆
超、それらの組み合わせ等が有望視され、材質、突起高
さ、突起密度等の最適化のだめに多くの実験がくり返さ
れている〔特開昭58−100221号公報、特開昭5
9−92427号公報、特開昭59−223932号公
報、特開昭59−207422号公報、特開昭61−7
4139号公報〕。
久性を向上することが見出され、粒状突起、ミミズ状隆
超、それらの組み合わせ等が有望視され、材質、突起高
さ、突起密度等の最適化のだめに多くの実験がくり返さ
れている〔特開昭58−100221号公報、特開昭5
9−92427号公報、特開昭59−223932号公
報、特開昭59−207422号公報、特開昭61−7
4139号公報〕。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、上記した構成では、記録密度が大きくな
るにつれて、耐久性と、優れた信号対雑音比(C/N
)やディジタル記録でのエラー率の均一性、実用性を大
面積に渡って確保した磁気記録媒体を製造するには不十
分で改善が望まれていた。
るにつれて、耐久性と、優れた信号対雑音比(C/N
)やディジタル記録でのエラー率の均一性、実用性を大
面積に渡って確保した磁気記録媒体を製造するには不十
分で改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、高密度デ
ィジタル記録に適した耐久性の良好な磁気記録媒体を大
量に得られる磁気記録媒体の製造方法を提供するもので
ある。
ィジタル記録に適した耐久性の良好な磁気記録媒体を大
量に得られる磁気記録媒体の製造方法を提供するもので
ある。
問題点を解決するための手段
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した問題点を
解決するために、回転支持体に沿って移動する高分子フ
ィルムに斜め蒸着する際、高入射角部に同時にスパッタ
蒸着が行われるものである。
解決するために、回転支持体に沿って移動する高分子フ
ィルムに斜め蒸着する際、高入射角部に同時にスパッタ
蒸着が行われるものである。
作 用
上記した構成により、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、高入射角部が斜め蒸着でなされるだけでなく、エネ
ルギーをもったスパッタ蒸着でほぼ垂直に近い入射で成
膜が初期なされるので、耐久性を向上できるのと、均一
性も改良されるのと、構成材料も蒸着成分と近い材料で
スパッタ層が形成されるので、異質の層として構成され
ないため、単一蒸着と等価に磁気特性の制御も行うこと
ができることになる。
は、高入射角部が斜め蒸着でなされるだけでなく、エネ
ルギーをもったスパッタ蒸着でほぼ垂直に近い入射で成
膜が初期なされるので、耐久性を向上できるのと、均一
性も改良されるのと、構成材料も蒸着成分と近い材料で
スパッタ層が形成されるので、異質の層として構成され
ないため、単一蒸着と等価に磁気特性の制御も行うこと
ができることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら、本発明の磁気記録媒体の製
造方法について詳しく説明する。
造方法について詳しく説明する。
第1図は、本発明を実施するために用いた蒸着装置の要
部構成図である。第1図で16は、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリイミド等の高分子フィルムで、必要に応
じて、微粒子塗布層やミミズ状の塗布層等を配したもの
から成る長尺、広幅のもので、17の送り出し軸から1
8の巻取シ軸へ移動するよう構成され、その際、回転支
持体16に沿った状態で、蒸着によ9強磁性金属薄膜を
上記高分子フィルム上に形成するようにしたものである
。19は強磁性金属材料の蒸発源、20は加熱用の電子
ビームを模式的に示したものである。
部構成図である。第1図で16は、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリイミド等の高分子フィルムで、必要に応
じて、微粒子塗布層やミミズ状の塗布層等を配したもの
から成る長尺、広幅のもので、17の送り出し軸から1
8の巻取シ軸へ移動するよう構成され、その際、回転支
持体16に沿った状態で、蒸着によ9強磁性金属薄膜を
上記高分子フィルム上に形成するようにしたものである
。19は強磁性金属材料の蒸発源、20は加熱用の電子
ビームを模式的に示したものである。
21はマスク22によシ限定を受けた蒸気流で、図示し
たHからLまで、入射角が高入射角(通常90度)から
、低入射角まで変化するよう構成される。23はターゲ
ットホルダーで、24はイオンビームを示している。2
3は蒸着材料が蒸着された上で、イオンビーム照射によ
シスバッタを行うためのカソードにあたるもので、スパ
ッタ原子は、高入射角部に向うが、入射角としては、む
しろ垂直に近いものとなるよう構成される。
たHからLまで、入射角が高入射角(通常90度)から
、低入射角まで変化するよう構成される。23はターゲ
ットホルダーで、24はイオンビームを示している。2
3は蒸着材料が蒸着された上で、イオンビーム照射によ
シスバッタを行うためのカソードにあたるもので、スパ
ッタ原子は、高入射角部に向うが、入射角としては、む
しろ垂直に近いものとなるよう構成される。
これらの構成要素は、真空容器内に配設され、真空に保
たれ、必要に応じて、酸素ガス等が導入されるよう構成
されるものである。
たれ、必要に応じて、酸素ガス等が導入されるよう構成
されるものである。
以下、更に具体的に実施例により得られる磁気記録媒体
と、従来技術によシ得た磁気記録媒体との性能対比を行
うことで、本発明の有価値性について詳説する。直径1
mの円筒キャン直下30cmに、Co −N i (N
i : 20 wt % )蒸発源を配し、図でOH
の延長上0から62tM1の位置に、Co−N1(Ni
:sowt%)板(厚み5 m )を置いて、蒸着しな
がら、その部分をAr イオンで照射し、スパッタ蒸着
できるようにした。容器内はあらかじめ1.5 x 1
0 (Torr)まで排気してから、4 x 10
(Torr)の酸素中で蒸着を行った。
と、従来技術によシ得た磁気記録媒体との性能対比を行
うことで、本発明の有価値性について詳説する。直径1
mの円筒キャン直下30cmに、Co −N i (N
i : 20 wt % )蒸発源を配し、図でOH
の延長上0から62tM1の位置に、Co−N1(Ni
:sowt%)板(厚み5 m )を置いて、蒸着しな
がら、その部分をAr イオンで照射し、スパッタ蒸着
できるようにした。容器内はあらかじめ1.5 x 1
0 (Torr)まで排気してから、4 x 10
(Torr)の酸素中で蒸着を行った。
高分子フィルムは厚み10μmのポリエチレンテレフタ
レートを用い、直径100人の5lO2微粒子をポリエ
ステル樹脂で平均13ケ/(μm)I定した微粒子塗布
層を配してから蒸着に供した。蒸着はCo−N1(Ni
:20wt%)を用い、最小入射角30度で蒸着し、同
時にCo−Ni板上にArイオ7(12KeV、54μ
A/cM)を照射して、Co−N i −0膜をスパッ
タして、高入射角部に、はぼ垂直入射でスパッタ蒸着を
行ったものをテープAとし、Arイオンビームを停止し
た状態で製造したテープをBとし、テープBと同じで最
小入射角のみを43度としだのをテープCとし、夫々、
表面にパーフルオロオクタン酸を60人真空蒸着して、
評価を行った。尚蒸着膜厚は0.16μm一定とした。
レートを用い、直径100人の5lO2微粒子をポリエ
ステル樹脂で平均13ケ/(μm)I定した微粒子塗布
層を配してから蒸着に供した。蒸着はCo−N1(Ni
:20wt%)を用い、最小入射角30度で蒸着し、同
時にCo−Ni板上にArイオ7(12KeV、54μ
A/cM)を照射して、Co−N i −0膜をスパッ
タして、高入射角部に、はぼ垂直入射でスパッタ蒸着を
行ったものをテープAとし、Arイオンビームを停止し
た状態で製造したテープをBとし、テープBと同じで最
小入射角のみを43度としだのをテープCとし、夫々、
表面にパーフルオロオクタン酸を60人真空蒸着して、
評価を行った。尚蒸着膜厚は0.16μm一定とした。
製造は、50cm@ 、2500mの規模で夫々行い、
5IIIII幅の磁気テープを、任意に30巻(長さ9
0m長)選んで、特性比較をした。市販(7) 8 +
+1IIV T R(VX−801、松下?lt器製)
を改造シて、PCM音声を記録再生した時のエラー率を
比較したところ、テープAは30巻のバラツキはなく、
1X10−5〜1.4×10−5であツタ力、チー7”
Bは3×10〜1.9X10 、アープCは1×10
〜−3 、− 3.4X10 とハフツキが大きかった。
5IIIII幅の磁気テープを、任意に30巻(長さ9
0m長)選んで、特性比較をした。市販(7) 8 +
+1IIV T R(VX−801、松下?lt器製)
を改造シて、PCM音声を記録再生した時のエラー率を
比較したところ、テープAは30巻のバラツキはなく、
1X10−5〜1.4×10−5であツタ力、チー7”
Bは3×10〜1.9X10 、アープCは1×10
〜−3 、− 3.4X10 とハフツキが大きかった。
又C/NはテープAをO(dB)とすると、テープBは
−1,3(dB) 、テープCは−o、5(dB)で、
この特性と生産性を比べてみると、テープAとテープB
は蒸着時のフィルム巻取速度が50m/′Mで、テープ
Cは36 m/′NRであシテープAが優れていること
がわかる。
−1,3(dB) 、テープCは−o、5(dB)で、
この特性と生産性を比べてみると、テープAとテープB
は蒸着時のフィルム巻取速度が50m/′Mで、テープ
Cは36 m/′NRであシテープAが優れていること
がわかる。
耐久性については、40°C1o%FLHで走行をくシ
返しPCMエラー率を追跡した結果、テープAは30回
の変化はなく、1X10〜1×10 で、テープB、テ
ープCは初期値の10倍〜37倍に増大した。
返しPCMエラー率を追跡した結果、テープAは30回
の変化はなく、1X10〜1×10 で、テープB、テ
ープCは初期値の10倍〜37倍に増大した。
発明の効果
以上、本発明によれば、ディジタル記録を高密度化する
のに用いる磁気記録媒体としての良好な特性を維持した
上で、大量にかつ均一に得ることができるといったすぐ
れた効果がある。
のに用いる磁気記録媒体としての良好な特性を維持した
上で、大量にかつ均一に得ることができるといったすぐ
れた効果がある。
第1図は本発明の実施に用い′た蒸着装置の要部構成図
、第2図は従来用いられている蒸着装置の要部構成図で
ある。 16・・・・・・回転支持体、19・・・・・・蒸発源
、23・・・・・・ターゲットホルダー、24・・・・
・イオンビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名区
c8! へ派
、第2図は従来用いられている蒸着装置の要部構成図で
ある。 16・・・・・・回転支持体、19・・・・・・蒸発源
、23・・・・・・ターゲットホルダー、24・・・・
・イオンビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名区
c8! へ派
Claims (1)
- 回転支持体に沿って移動する高分子フィルムに斜め蒸着
法にて磁気記録層を形成する際、高入射部に同時にスパ
ッタ蒸着がなされることを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62086008A JPS63251925A (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62086008A JPS63251925A (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63251925A true JPS63251925A (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=13874665
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62086008A Pending JPS63251925A (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63251925A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5679410A (en) * | 1994-06-06 | 1997-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Continuous fabrication of thin film magnetic recording medium with vacuum deposition |
-
1987
- 1987-04-08 JP JP62086008A patent/JPS63251925A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5679410A (en) * | 1994-06-06 | 1997-10-21 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Continuous fabrication of thin film magnetic recording medium with vacuum deposition |
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