JPH11200011A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPH11200011A JPH11200011A JP1790798A JP1790798A JPH11200011A JP H11200011 A JPH11200011 A JP H11200011A JP 1790798 A JP1790798 A JP 1790798A JP 1790798 A JP1790798 A JP 1790798A JP H11200011 A JPH11200011 A JP H11200011A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- width direction
- vapor deposition
- vacuum
- film
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フィルム全幅において、磁性層膜厚と磁気特
性の幅方向均一性を確保すること可能とする蒸着装置を
得る。 【解決手段】 真空容器内において、電子銃により発生
した電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発し
て、これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置におい
て、蒸着範囲を制限するマスクの幅方向端部の形状を、
テーパーを持った構造とした真空蒸着装置。
性の幅方向均一性を確保すること可能とする蒸着装置を
得る。 【解決手段】 真空容器内において、電子銃により発生
した電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発し
て、これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置におい
て、蒸着範囲を制限するマスクの幅方向端部の形状を、
テーパーを持った構造とした真空蒸着装置。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空蒸着装置に関
し、より詳しくは、蒸着範囲を制限するマスクの幅方向
端部の形状に関する。
し、より詳しくは、蒸着範囲を制限するマスクの幅方向
端部の形状に関する。
【0002】
【従来の技術】金属薄膜を成膜するために、真空蒸着装
置が実用化されている。とくに、金属薄膜型磁気記録媒
体（いわゆる蒸着テープ）を製造するために、斜め蒸着
式の真空蒸着装置が用いられており、生産に活用されて
いる。最近の記録密度の進歩にともない蒸着テープの需
要が増大してきているが、真空中で行うというバッチ式
生産のため生産性向上が急務となっている。
置が実用化されている。とくに、金属薄膜型磁気記録媒
体（いわゆる蒸着テープ）を製造するために、斜め蒸着
式の真空蒸着装置が用いられており、生産に活用されて
いる。最近の記録密度の進歩にともない蒸着テープの需
要が増大してきているが、真空中で行うというバッチ式
生産のため生産性向上が急務となっている。
【0003】このような状況のもと、従来はマスクの幅方向
端部は単にフィルムに対し垂直に端面が形成されてお
り、端部厚みの影響で、蒸発源から見て、陰の部分とな
る箇所（すなわち蒸着されにくい部分）が発生してい
た。この結果、蒸着磁性層の厚みが所定の範囲に成膜可
能となる有効部分が狭くなり、フィルム端部から８０ｍ
ｍ以上の膜厚異常部分が発生していた。また、特公平３
−３４１３０号公報では磁性層の抗磁力を一定にするた
めに、マスクの磁性層形成の蒸気入射角度を規制する部
分への蒸気入射角度を、基板への蒸気入射角度よりも大
きくすることが提案されている。しかし、マスク幅方向
端部の陰の影響については言及されておらず、フィルム
耳端部の膜厚不良によるロスを提言することが不可能で
あった。
端部は単にフィルムに対し垂直に端面が形成されてお
り、端部厚みの影響で、蒸発源から見て、陰の部分とな
る箇所（すなわち蒸着されにくい部分）が発生してい
た。この結果、蒸着磁性層の厚みが所定の範囲に成膜可
能となる有効部分が狭くなり、フィルム端部から８０ｍ
ｍ以上の膜厚異常部分が発生していた。また、特公平３
−３４１３０号公報では磁性層の抗磁力を一定にするた
めに、マスクの磁性層形成の蒸気入射角度を規制する部
分への蒸気入射角度を、基板への蒸気入射角度よりも大
きくすることが提案されている。しかし、マスク幅方向
端部の陰の影響については言及されておらず、フィルム
耳端部の膜厚不良によるロスを提言することが不可能で
あった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、フィ
ルム全幅において、磁性層膜厚と磁気特性の幅方向均一
性を確保すること可能とする蒸着装置を得ることにあ
る。
ルム全幅において、磁性層膜厚と磁気特性の幅方向均一
性を確保すること可能とする蒸着装置を得ることにあ
る。
【0005】
【発明を解決するための手段】このような目的は、以下
の本発明によって達成可能である。すなわち本発明は、
真空容器内において、電子銃により発生した電子ビーム
により、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、これを被蒸着
材料に蒸着させる真空蒸着装置において、蒸着範囲を制
限するマスクの幅方向端部の形状を、テーパーを持った
構造とした真空蒸着装置にある。
の本発明によって達成可能である。すなわち本発明は、
真空容器内において、電子銃により発生した電子ビーム
により、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、これを被蒸着
材料に蒸着させる真空蒸着装置において、蒸着範囲を制
限するマスクの幅方向端部の形状を、テーパーを持った
構造とした真空蒸着装置にある。
【0006】また、蒸着範囲を制限するマスクの幅方向端部
のテーパー角度を、１０度以上、４５度以下に設定する
ことによってより好ましい状況とすることができる。
のテーパー角度を、１０度以上、４５度以下に設定する
ことによってより好ましい状況とすることができる。
【0007】さらに、蒸着範囲を制限するマスクの幅方向端
部のテーパー内部を冷却することで長時間の使用にも耐
えるものとすることができる。
部のテーパー内部を冷却することで長時間の使用にも耐
えるものとすることができる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て、図１の真空蒸着装置を例に用いて詳細に説明する。
て、図１の真空蒸着装置を例に用いて詳細に説明する。
【0009】図１に示される斜め蒸着装置１０１では、真空
槽１１０中において、排気口１０８を経て真空ポンプ
（図示せず）に接続されて真空状態に保たれ、この真空
槽内で長尺フィルム状の非磁性基体１０２を供給ロール
１０３から繰り出し、回転する冷却ドラム１０４の表面
に添わせて搬送しながら、遮蔽板（マスク）１９１を用
いて蒸着角度を決定し、定置されたるつぼ１０５中の強
磁性金属１５０表面に電子銃１０６からの電子ビーム１
０６Ｂを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記非
磁性基体１０２上に強磁性金属薄膜を形成する。また、
金属が溶けるまでの間はシャッター１９３によって非磁
性基体への金属の付着を防止する。このような金属の蒸
着に際して、ガス供給装置１９４から蒸着金属にガスが
幅方向に均一となるように供給される。このようにして
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体１０２は、巻き
取りロール１０７に巻き取られる。
槽１１０中において、排気口１０８を経て真空ポンプ
（図示せず）に接続されて真空状態に保たれ、この真空
槽内で長尺フィルム状の非磁性基体１０２を供給ロール
１０３から繰り出し、回転する冷却ドラム１０４の表面
に添わせて搬送しながら、遮蔽板（マスク）１９１を用
いて蒸着角度を決定し、定置されたるつぼ１０５中の強
磁性金属１５０表面に電子銃１０６からの電子ビーム１
０６Ｂを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記非
磁性基体１０２上に強磁性金属薄膜を形成する。また、
金属が溶けるまでの間はシャッター１９３によって非磁
性基体への金属の付着を防止する。このような金属の蒸
着に際して、ガス供給装置１９４から蒸着金属にガスが
幅方向に均一となるように供給される。このようにして
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体１０２は、巻き
取りロール１０７に巻き取られる。
【0010】このような蒸着装置の、蒸着範囲を制限するマ
スク１９１は、図２に示すように、幅方向端部の形状を
テーパーを持った構造とすることで、蒸発源から見た、
端部の陰の影響を最低限に押さえることが可能となる。
このようなテーパーの形状については、とくに指定はな
く、直線、または曲線、またはこれらを組み合わせた形
状であって良い。 また、形成されるテーパーの角度
は、図４のように決定でき、その角度は１０度以上４５
度以下が望ましく、特に望ましくは１０度以上３０度以
下である。
スク１９１は、図２に示すように、幅方向端部の形状を
テーパーを持った構造とすることで、蒸発源から見た、
端部の陰の影響を最低限に押さえることが可能となる。
このようなテーパーの形状については、とくに指定はな
く、直線、または曲線、またはこれらを組み合わせた形
状であって良い。 また、形成されるテーパーの角度
は、図４のように決定でき、その角度は１０度以上４５
度以下が望ましく、特に望ましくは１０度以上３０度以
下である。
【0011】さらに、テーパー部分の熱変形を防ぐために、
図５に示したように、テーパー部の内部を冷却可能な構
造とすることが望ましい。冷却方法の指定は無いが、冷
却水または低温に保持された冷媒を必要量供給すること
が可能であれば良い。
図５に示したように、テーパー部の内部を冷却可能な構
造とすることが望ましい。冷却方法の指定は無いが、冷
却水または低温に保持された冷媒を必要量供給すること
が可能であれば良い。
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。
をさらに詳細に説明する。
【0012】図１に示される構成の斜め蒸着装置を用いて、
厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルムからなる非磁性基体１０２上に、強磁性金属薄膜
を形成した。平均の最小入射角θｍｉｎ．を５０度、る
つぼの湯面とドラム１０４の蒸着面の平均距離を約３０
０ｍｍ、蒸着部の幅を５００ｍｍとした。
厚さ７μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルムからなる非磁性基体１０２上に、強磁性金属薄膜
を形成した。平均の最小入射角θｍｉｎ．を５０度、る
つぼの湯面とドラム１０４の蒸着面の平均距離を約３０
０ｍｍ、蒸着部の幅を５００ｍｍとした。
【0013】（実施例、比較例）表１に示すような、テーパ
ー角度のマスク板を、冷却もしくは冷却せずに蒸着装置
に取り付けた。その後、真空槽内を排気し、槽内の圧力
を１０-5Ｔｏｒｒに保った。るつぼには、酸化マグネシ
ウム製のものを用い、電子銃のパワーは１２０ｋＷとし
た。ガス供給ノズルは幅方向長さで６００ｍｍであり、
蒸着時に酸素主成分のガスを供給した。また、蒸着時の
目標膜厚は２００ｎｍとして蒸着を行った。
ー角度のマスク板を、冷却もしくは冷却せずに蒸着装置
に取り付けた。その後、真空槽内を排気し、槽内の圧力
を１０-5Ｔｏｒｒに保った。るつぼには、酸化マグネシ
ウム製のものを用い、電子銃のパワーは１２０ｋＷとし
た。ガス供給ノズルは幅方向長さで６００ｍｍであり、
蒸着時に酸素主成分のガスを供給した。また、蒸着時の
目標膜厚は２００ｎｍとして蒸着を行った。
【0014】作成したサンプルの、フィルム端からのロス量
と蒸着時のしわ発生状況、マスクの寿命を確認した。
と蒸着時のしわ発生状況、マスクの寿命を確認した。
【0015】
【表1】テーパー形状による幅方向歩留まり 特公平３−３４１３０号公報では磁性層の抗磁力を一定
にするために、マスクの磁性層形成の蒸気入射角度を規
制する部分への蒸気入射角度を基板への蒸気入射角度よ
りも大きくすることが提案されている。しかしマスク幅
方向端部の陰の影響については言及されておらず、フィ
ルム耳端部の膜厚不良によるロスを提言することが不可
能であった。
にするために、マスクの磁性層形成の蒸気入射角度を規
制する部分への蒸気入射角度を基板への蒸気入射角度よ
りも大きくすることが提案されている。しかしマスク幅
方向端部の陰の影響については言及されておらず、フィ
ルム耳端部の膜厚不良によるロスを提言することが不可
能であった。
【0016】これに対し本発明のテーパー角度１０度以上４
５度以下のマスクを用いた場合、蒸発源から見た端部の
陰の影響が大幅に減少され、所定の膜厚に成膜された蒸
着膜の幅（蒸着有効幅）が増大した。今まではフィルム
端部から左右８０ｍｍが膜厚異常部分としてロス分とな
っていたが、本発明のマスク形状に変更することにより
フィルム端部のロスが左右１０ｍｍ以内に大幅に減少さ
せることが可能になった。しかしテーパー角度を１０度
未満（たとえば５度）にすると冷却可能な構造にするこ
とが困難になり、またそのためマスクの寿命時間として
は５０時間以下と格段に劣る。
５度以下のマスクを用いた場合、蒸発源から見た端部の
陰の影響が大幅に減少され、所定の膜厚に成膜された蒸
着膜の幅（蒸着有効幅）が増大した。今まではフィルム
端部から左右８０ｍｍが膜厚異常部分としてロス分とな
っていたが、本発明のマスク形状に変更することにより
フィルム端部のロスが左右１０ｍｍ以内に大幅に減少さ
せることが可能になった。しかしテーパー角度を１０度
未満（たとえば５度）にすると冷却可能な構造にするこ
とが困難になり、またそのためマスクの寿命時間として
は５０時間以下と格段に劣る。
【0017】またフィルム全幅にほぼ同等の磁性層厚を形成
する事が可能になった事により、今までは膜厚異常部分
等で不均一なフィルム熱負荷により発生していた走行時
のシワが無くなった。この結果、蒸着膜成膜工程で発生
していたシワが原因となり引き起こしていた次工程での
ロス分が大幅に減少した。
する事が可能になった事により、今までは膜厚異常部分
等で不均一なフィルム熱負荷により発生していた走行時
のシワが無くなった。この結果、蒸着膜成膜工程で発生
していたシワが原因となり引き起こしていた次工程での
ロス分が大幅に減少した。
【0018】
【発明の効果】蒸発源から見た端部の陰の影響が大幅に
減少され、所定の膜厚に成膜された蒸着膜の幅（蒸着有
効幅）が増大した。
減少され、所定の膜厚に成膜された蒸着膜の幅（蒸着有
効幅）が増大した。
【図1】蒸着装置を説明するための模式図である。
【図2】本発明の蒸着マスクの模式図である。
【図3】本発明の蒸着マスクの模式図である。
【図4】本発明の蒸着マスクのテーパー部分の拡大模式
図である。
図である。
【図5】本発明の蒸着マスクのテーパー部分の冷却状態
の模式図である。
の模式図である。
１０１ 斜め蒸着装置（真空槽） １０２ 非磁性基体 １０３ 供給ロール １０４ 冷却ドラム １０５ るつぼ １５０ 溶湯 １０６ 電子銃 １０６Ｂ 電子ビーム １０７ 巻き取りロール １０８ 排気口 １１０ 真空槽 １９１ 遮蔽板（マスク） １９３ シャッター １９４ ガス導入口
Claims (3)
- 【請求項1】真空容器内において、電子銃により発生し
た電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、
これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置において、
蒸着範囲を制限するマスクの幅方向端部の形状を、テー
パーを持った構造とすることを特徴とする真空蒸着装
置。 - 【請求項2】蒸着範囲を制限するマスクの幅方向端部の
テーパー角度を、１０度以上、４５度以下に設定するこ
とを特徴とする請求項１に記載の真空蒸着装置。 - 【請求項3】蒸着範囲を制限するマスクの幅方向端部の
テーパー内部を冷却することを特徴とする請求項１、ま
たは２に記載の真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1790798A JPH11200011A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1790798A JPH11200011A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11200011A true JPH11200011A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11956828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1790798A Pending JPH11200011A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11200011A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100484024B1 (ko) * | 2001-09-25 | 2005-04-20 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 마스크 및 그 제조 방법, 일렉트로루미네선스 장치 및 그제조 방법, 및 전자 기기 |
| JP2009209381A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 成膜装置、ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 |
| JP2013044015A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-04 | Fujifilm Corp | 成膜装置 |
| JP2016065292A (ja) * | 2014-09-25 | 2016-04-28 | 株式会社アルバック | スパッタリング装置および透明導電膜の形成方法 |
-
1998
- 1998-01-13 JP JP1790798A patent/JPH11200011A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100484024B1 (ko) * | 2001-09-25 | 2005-04-20 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 마스크 및 그 제조 방법, 일렉트로루미네선스 장치 및 그제조 방법, 및 전자 기기 |
| US6930021B2 (en) | 2001-09-25 | 2005-08-16 | Seiko Epson Corporation | Mask and method of manufacturing the same, electro-luminescence device and method of manufacturing the same, and electronic instrument |
| JP2009209381A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 成膜装置、ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 |
| JP2013044015A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-04 | Fujifilm Corp | 成膜装置 |
| JP2016065292A (ja) * | 2014-09-25 | 2016-04-28 | 株式会社アルバック | スパッタリング装置および透明導電膜の形成方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041217 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20041217 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050204 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Effective date: 20050225 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20070724 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070726 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070925 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20071115 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |