JPH11200023A - 真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 長時間の成膜を行う場合にも、安定してシャ
ッター開閉動作が可能な真空蒸着装置を得る。 【解決手段】 真空容器内において、電子銃により発生
した電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発し
て、これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置におい
て、開口部を有するマスクを覆うシャッターの駆動機構
を回転方式とする真空蒸着装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【0001】

【発明の属する技術分野】本発明は、真空蒸着装置に関
しより詳しくは、真空蒸着装置のシャッター駆動機構に
関する。

【0002】

【従来の技術】金属薄膜を成膜するために、真空蒸着装
置が実用化されている。とくに、金属薄膜型磁気記録媒
体（いわゆる蒸着テープ）を製造するために、斜め蒸着
式の真空蒸着装置が用いられており、生産に活用されて
いる。最近の記録密度の進歩にともない蒸着テープの需
要が増大してきているが、真空中で行うというバッチ式
生産のため生産性向上が急務となっている。

【0003】このような状況のもとで長時間成膜を行った場
合、成膜時にシャッター及びマスク部に無効蒸着材料が
付着することは回避できず、シャッター部およびマスク
に無効蒸着材料が大量に堆積し、蒸着終了時にシャッタ
ー閉動作を行うことが困難となることがあった。このよ
うなことの対策として、特開平６−９３４２８号公報で
は、シャッターのローラー移動を案内する円弧状のガイ
ドレールを有するスライド方式が提案されている。しか
し、このシャッタースライド方式では、蒸着物がマスク
とシャッターの間に挟まり、シャッター閉動作が不完全
となり、マスク開口部からの熱負荷によりフィルム熱負
けによる切断等の不具合の発生する可能性が高く、さら
に蒸着可能時間がシャッター動作可能時間に制限される
ため、生産効率が低下することと、スムーズに開動作が
行われないために、開動作瞬間の熱負荷の変化状況が急
激であるため、蒸着スタート時にフィルムしわが発生す
ることがあった。

【0004】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、長時
間の成膜を行う場合にも、安定してシャッター開閉動作
が可能な真空蒸着装置を得ることにある。

【0005】

【発明を解決するための手段】このような目的は、以下
の本発明によって解決可能となる。すなわち本発明は、
真空容器内において、電子銃により発生した電子ビーム
により、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、これを被蒸着
材料に蒸着させる真空蒸着装置において、開口部を有す
るマスクを覆うシャッターの駆動機構を回転方式とする
真空蒸着装置にある。

【0006】

【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て、図１の従来型の真空蒸着装置を例に用いて詳細に説
明する。

【0007】図１に示される斜め蒸着装置１０１では、真空
槽１１０中において、排気口１０８を経て真空ポンプ
（図示せず）に接続されて真空状態に保たれ、この真空
槽内で長尺フィルム状の非磁性基体１０２を供給ロール
１０３から繰り出し、回転する冷却ドラム１０４の表面
に添わせて搬送しながら、遮蔽板（マスク）１９１を用
いて蒸着角度を決定し、定置されたるつぼ１０５中の強
磁性金属１５０表面に電子銃１０６からの電子ビーム１
０６Ｂを照射して斜め蒸着を行なうことにより、前記非
磁性基体１０２上に強磁性金属薄膜を形成する。また、
金属が溶けるまでの間はシャッター１９３によって非磁
性基体への金属の付着を防止する。このような金属の蒸
着に際して、ガス供給装置１９４から蒸着金属にガスが
幅方向に均一となるように供給される。このようにして
強磁性金属薄膜が形成された非磁性基体１０２は、巻き
取りロール１０７に巻き取られる。

【0008】このような蒸着装置に対して、本発明では、シ
ャッターの駆動を図２に示すような回転方式とし、その
駆動機構は、防着板外部から回転軸を有した機構を真空
層内部に導入して、蒸発源上に位置するシャッターを回
転させてマスク開口部を開閉可能な位置に設置する。シ
ャッターの構造は特に制約は無いが、図２のような回転
可能な半円型または、図３のような平板が望ましい。シ
ャッターは、蒸発源上で最小入射角付近に設置するが、
マスク開口部からの電子銃からの２次電子による帯電が
問題となる場合、必要に応じて、図３、図４のように最
大入射角位置に、第二のシャッターを設置しても良い。

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。

【0009】（実施例、比較例）図１に示される構成の斜め
蒸着装置を用いて、シャッター機構を、図１、図２、図
３とした。蒸着装置は、厚さ７μｍのポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）フィルムからなる非磁性基体１０
２上に、強磁性金属薄膜を形成した。平均の最小入射角
θｍｉｎ．を５０度、るつぼの湯面とドラム１０４の蒸
着面の平均距離を約３００ｍｍ、蒸着部の幅を５００ｍ
ｍとなるように設定した。

【0010】まず、大気中で開閉動作を１００回行い、スム
ーズに開閉するかを目視により確認し、◎○△×で、シ
ャッター動作安定度を判定した。

【0011】次に、真空槽内を排気し、槽内の圧力を１０^-5
Ｔｏｒｒに保った。るつぼには、酸化マグネシウム製の
ものを用い、電子銃のパワーは１２０ｋＷとした。ガス
供給ノズルは幅方向長さで６００ｍｍであり、蒸着時に
酸素主成分のガスを供給した。また、蒸着時の目標膜厚
は２００ｎｍとして蒸着を行い、蒸発物による影響でシ
ャッター開閉動作に影響するまでの時間を安定動作可能
時間として測定した。

【0012】

【表1】シャッター駆動方式

【0013】特開平６−９３４２８号公報のスライド方式で
は、蒸着物がマスクとシャッターの間に挟まり、シャッ
ター閉動作が不完全となり、マスク開口部からの熱負荷
により、フィルム熱負けによる切断等の不具合が発生し
た。さらに蒸着可能時間が、シャッター動作可能時間に
制限されるため、生産効率が大幅に落ちていた。またス
ムーズに開動作が行われないため、開動作瞬間の熱負荷
の変化状況が急激であるため蒸着スタート時に発生する
フィルムしわが防げなかった。

【0014】それに対し本発明のシャッター駆動方式を用い
た場合、動作がスムーズで安定であるため、蒸着スター
ト時に発生するフィルムしわが全く発生しなくなった。
また、安定動作が可能な時間が、６０分から２００分以
上となったことで、生産効率が３倍以上と大幅に向上し
た。

【0015】

【発明の効果】長時間成膜を行っても安定にかつスムー
ズに開閉可能なシャッター駆動が可能になった。これに
より、シャッター開閉異常による生産中止やフィルム熱
負けによる切断などが無くなり、生産性が大幅に向上し
た。

【図面の簡単な説明】

【図1】従来型のシャッターを有する蒸着装置を説明す
るための模式図である。

【図2】本発明のシャッター駆動機構の模式図である。

【図3】本発明のシャッター構造の異なる模式図であ
る。

【図4】本発明のシャッターを２つ有する模式図であ
る。

【符号の説明】

１０１ 斜め蒸着装置（真空槽） １０２ 非磁性基体 １０３ 供給ロール １０４ 冷却ドラム １０５ るつぼ １５０ 溶湯 １０６ 電子銃 １０６Ｂ 電子ビーム １０７ 巻き取りロール １０８ 排気口 １１０ 真空槽 １９１ 遮蔽板（マスク） １９３ シャッター １９４ ガス導入口

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項1】真空容器内において、電子銃により発生し
   た電子ビームにより、るつぼ内の蒸着材料を蒸発して、
   これを被蒸着材料に蒸着させる真空蒸着装置において、
   開口部を有するマスクを覆うシャッターの駆動機構を回
   転方式とすることを特徴とする真空蒸着装置。