JPS644254B2 - - Google Patents
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- JPS644254B2 JPS644254B2 JP6862781A JP6862781A JPS644254B2 JP S644254 B2 JPS644254 B2 JP S644254B2 JP 6862781 A JP6862781 A JP 6862781A JP 6862781 A JP6862781 A JP 6862781A JP S644254 B2 JPS644254 B2 JP S644254B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、短波長記録に有利な金属薄膜型記録
媒体の製造方法に関し、高分子成形物基板上に蒸
着、イオンプレーテイング等の方法で金属磁性薄
膜を形成した後、巻取リールに巻回した時に生ず
る巻きむらを解決せんとするものである。
媒体の製造方法に関し、高分子成形物基板上に蒸
着、イオンプレーテイング等の方法で金属磁性薄
膜を形成した後、巻取リールに巻回した時に生ず
る巻きむらを解決せんとするものである。
従来より、短波長記録再生用の長尺磁気テープ
を製造する方法として、高分子成形物基体を巻回
した供給リールから、所定の速度で高分子成形物
基体を送出し、高分子成形物基体上に金属磁性薄
膜を蒸着、イオンプレーテイング等の方法で形成
した後、巻取リールに巻回して金属薄膜型磁気テ
ープを形成する方法が知られている。この場合、
金属磁性薄膜を形成するために磁性体金属の蒸気
流に高分子成形物基体を露呈する過程で、高分子
成形物基体の両端部で、蒸気流の複雑な挙動が発
生し、このため、両端部で金属磁性薄膜の厚みむ
らが生じたり、蒸気流の熱のため両端部が変形し
たりする。このような長尺基体（以下テープと呼
ぶ）を巻取リールに巻回した場合、上記の金属磁
性薄膜の厚みむらや、変形に起因して、第１図に
示すように、巻取リール１上に一点鎖線で示した
形態で巻回されるべきテープ２が、除々に一方向
へ片よつて巻回され、その巻径が大きくなるにし
たがつて片より量が多くなり、遂には、巻回され
たテープ２が巻取リールからはずれてしまい、テ
ープを破損してしまうという事故が発生する。こ
の解決のためにとられた方法で代表的なものはい
わゆるジグザグ捲き取りという手法である。
を製造する方法として、高分子成形物基体を巻回
した供給リールから、所定の速度で高分子成形物
基体を送出し、高分子成形物基体上に金属磁性薄
膜を蒸着、イオンプレーテイング等の方法で形成
した後、巻取リールに巻回して金属薄膜型磁気テ
ープを形成する方法が知られている。この場合、
金属磁性薄膜を形成するために磁性体金属の蒸気
流に高分子成形物基体を露呈する過程で、高分子
成形物基体の両端部で、蒸気流の複雑な挙動が発
生し、このため、両端部で金属磁性薄膜の厚みむ
らが生じたり、蒸気流の熱のため両端部が変形し
たりする。このような長尺基体（以下テープと呼
ぶ）を巻取リールに巻回した場合、上記の金属磁
性薄膜の厚みむらや、変形に起因して、第１図に
示すように、巻取リール１上に一点鎖線で示した
形態で巻回されるべきテープ２が、除々に一方向
へ片よつて巻回され、その巻径が大きくなるにし
たがつて片より量が多くなり、遂には、巻回され
たテープ２が巻取リールからはずれてしまい、テ
ープを破損してしまうという事故が発生する。こ
の解決のためにとられた方法で代表的なものはい
わゆるジグザグ捲き取りという手法である。
これは捲き取り軸を、軸と水平方向にゆつくり
と往復運動させることで、端部を故意にずらしな
がら巻回されるテープの片よりを避ける手法があ
る。
と往復運動させることで、端部を故意にずらしな
がら巻回されるテープの片よりを避ける手法があ
る。
この手法を蒸着テープの製法に適用したところ
２つの大きな不都合が生じてきた。
２つの大きな不都合が生じてきた。
それは、シワの発生と、磁気テープとして用い
た場合の走行不安定性である。
た場合の走行不安定性である。
即ち、蒸着テープは、その短波長記録に於ける
優位性を保つために欠かせない条件として、基材
を平滑にする必要がある。この表面が平滑な基材
は、摩擦係数が大きく、従来のフイルムコンデン
サの製造において、粗い表面性のポリエステルフ
イルムの捲き取り蒸着で使えた技術は、結果とし
て巻取リールに巻回されたテープの相互のすべり
が悪いためシワとなつて現れてしまい例えば、
500mm幅の基材で、該シワの影響のない部分は、
数cmしかないということがまゝ起るのである。
優位性を保つために欠かせない条件として、基材
を平滑にする必要がある。この表面が平滑な基材
は、摩擦係数が大きく、従来のフイルムコンデン
サの製造において、粗い表面性のポリエステルフ
イルムの捲き取り蒸着で使えた技術は、結果とし
て巻取リールに巻回されたテープの相互のすべり
が悪いためシワとなつて現れてしまい例えば、
500mm幅の基材で、該シワの影響のない部分は、
数cmしかないということがまゝ起るのである。
このようなシワの発生は、巻取リールに巻回
後、所定の幅に切断してテープとした時に、ドロ
ツプアウト、ジツター等の特性面での不都合につ
ながつてきて、実用にならない。
後、所定の幅に切断してテープとした時に、ドロ
ツプアウト、ジツター等の特性面での不都合につ
ながつてきて、実用にならない。
なお500mm幅で、ジグザグ長サを±１mm〜±２
mmに抑えたとしても、巻取リールに巻回した後、
それを所定の幅に切断した時、基材にうねりが記
憶されており短波長記録再生においては、このう
ねりが悪影響を及ぼし、再生出力が変化したり、
またうねりの記憶にともない部分的に不均一な内
部応力が生じ、この応力に起因して常温下におい
てさえも長時間放置すると、寸法形状の変化をき
たす等の問題もあつた。
mmに抑えたとしても、巻取リールに巻回した後、
それを所定の幅に切断した時、基材にうねりが記
憶されており短波長記録再生においては、このう
ねりが悪影響を及ぼし、再生出力が変化したり、
またうねりの記憶にともない部分的に不均一な内
部応力が生じ、この応力に起因して常温下におい
てさえも長時間放置すると、寸法形状の変化をき
たす等の問題もあつた。
本発明はかかる欠点の排除を目指してなされた
もので、以下に図面を用いその実施例を示す。第
２図、第３図は本発明の一実施例において用いる
製造装置の一例を示す。
もので、以下に図面を用いその実施例を示す。第
２図、第３図は本発明の一実施例において用いる
製造装置の一例を示す。
図に示すように、真空槽３の内部空間４は真空
排気系５により、多くの場合10-5Torr〜
10-6Torrに排気され、外部よりガス導入孔６に
より酸素を強制的に導入する。高分子成形物基材
７は供給リール８により送出され、フリーローラ
９、エキスパンシヨンローラ１１等を介して、冷
却された回転ドラム１２の外周面に沿つて移動
し、マスク１３で制限された入射角範囲の磁性体
金属の蒸気流に露呈され、規定の膜厚、保磁力の
金属磁性薄膜が形成される。該蒸気流は、蒸発容
器１４内の、磁性金属膜を形成すべく所定の組成
を有する蒸発材料１５を公知の電子ビーム加熱
法、誘導加熱法等で加熱し蒸発材料１５を蒸発さ
せることにより得られる。容器１４は耐火物、水
冷銅ハース等で構成することができる。
排気系５により、多くの場合10-5Torr〜
10-6Torrに排気され、外部よりガス導入孔６に
より酸素を強制的に導入する。高分子成形物基材
７は供給リール８により送出され、フリーローラ
９、エキスパンシヨンローラ１１等を介して、冷
却された回転ドラム１２の外周面に沿つて移動
し、マスク１３で制限された入射角範囲の磁性体
金属の蒸気流に露呈され、規定の膜厚、保磁力の
金属磁性薄膜が形成される。該蒸気流は、蒸発容
器１４内の、磁性金属膜を形成すべく所定の組成
を有する蒸発材料１５を公知の電子ビーム加熱
法、誘導加熱法等で加熱し蒸発材料１５を蒸発さ
せることにより得られる。容器１４は耐火物、水
冷銅ハース等で構成することができる。
１６は半径が回転ドラム１２のそれに近い曲面
を有するマスクであり、第３図に示すように、回
転ドラム１２の両端であつて、かつ基材７の両端
面を覆うように配置されている。マスク１６によ
り基材７の両端面が、蒸発材料１５より発生する
蒸気流に露呈されず、したがつて基材７の端面に
は金属磁性薄膜は形成されない。
を有するマスクであり、第３図に示すように、回
転ドラム１２の両端であつて、かつ基材７の両端
面を覆うように配置されている。マスク１６によ
り基材７の両端面が、蒸発材料１５より発生する
蒸気流に露呈されず、したがつて基材７の端面に
は金属磁性薄膜は形成されない。
回転ドラム１２上で、基材７の両端面を除いて
全面にわたつて金属磁性薄膜を形成した後、エキ
スパンシヨンローラ１１、フリーローラ９を介し
て切断機構部１７に案内され、ここで、金属磁性
薄膜が形成されていない部分、すなわち基材７の
両端部分が切断され、磁性薄膜が形成されていな
い部分及び金属磁性薄膜が形成されている部分
は、それぞれフリーローラ９を介して巻取リール
１８，１９に巻取られる。
全面にわたつて金属磁性薄膜を形成した後、エキ
スパンシヨンローラ１１、フリーローラ９を介し
て切断機構部１７に案内され、ここで、金属磁性
薄膜が形成されていない部分、すなわち基材７の
両端部分が切断され、磁性薄膜が形成されていな
い部分及び金属磁性薄膜が形成されている部分
は、それぞれフリーローラ９を介して巻取リール
１８，１９に巻取られる。
本発明においては、上記のように、基材７の両
端面近傍に金属磁性薄膜を形成せず、その部分を
切断することから、端面部分における、蒸気流の
複雑な挙動に起因して端面部に生ずる金属磁性薄
膜の厚みむら等がなくなり、したがつて、従来の
ような巻取リール上における巻きむらをなくすこ
とができる。なお、基材７の両端部を切断すると
いう観点からみれば、必ずしも、基材７の両端部
分に金属磁性薄膜を形成することを防止しなくて
も、基材７の全面にわたつて（したがつて両端部
分も含む）金属磁性薄膜を形成しても同様の効果
を得ることも考えられるが、この場合基材の両端
部分が金属磁性薄膜を形成した状態で廃棄される
ことになり、資源の有効活用という点から好まし
くない。
端面近傍に金属磁性薄膜を形成せず、その部分を
切断することから、端面部分における、蒸気流の
複雑な挙動に起因して端面部に生ずる金属磁性薄
膜の厚みむら等がなくなり、したがつて、従来の
ような巻取リール上における巻きむらをなくすこ
とができる。なお、基材７の両端部を切断すると
いう観点からみれば、必ずしも、基材７の両端部
分に金属磁性薄膜を形成することを防止しなくて
も、基材７の全面にわたつて（したがつて両端部
分も含む）金属磁性薄膜を形成しても同様の効果
を得ることも考えられるが、この場合基材の両端
部分が金属磁性薄膜を形成した状態で廃棄される
ことになり、資源の有効活用という点から好まし
くない。
次に具体的に実施例の説明を行う。
実施例 １
回転ドラム径；1200mm、蒸発源；電子ビーム加
熱（電子銃へ供給する電圧：30KV、電力
90KW）、フイルム幅：550mm、蒸着部幅；480mm、
蒸着材料；Co82％・Ni18％、酸素分圧；5.6×
10-5Torr、捲き取り速度；95ｍ／min、蒸着厚
み；0.14μ。
熱（電子銃へ供給する電圧：30KV、電力
90KW）、フイルム幅：550mm、蒸着部幅；480mm、
蒸着材料；Co82％・Ni18％、酸素分圧；5.6×
10-5Torr、捲き取り速度；95ｍ／min、蒸着厚
み；0.14μ。
フイルム基材として、ポリエチレンテレフタ
レート5.5μ〜26μ、表面の平均粗サ0.05μ、芳香
族ポリアミド4μ〜8.9μ、平均粗サ0.04μ、ポリ
イミド35μ〜50μ、平均粗サ0.06μ、の３群より選
んだいずれの基材についても、蒸着長サ5500〜
9000ｍに於て本発明を実施した。
レート5.5μ〜26μ、表面の平均粗サ0.05μ、芳香
族ポリアミド4μ〜8.9μ、平均粗サ0.04μ、ポリ
イミド35μ〜50μ、平均粗サ0.06μ、の３群より選
んだいずれの基材についても、蒸着長サ5500〜
9000ｍに於て本発明を実施した。
これを1/2インチ、1/4インチにスリツトして、
温度40℃、湿度90％の雰囲気中で８週間保持した
後におけるテープの特性を調べたが寸法は極めて
安定しており、シワによるドロツプアウトもみら
れなかつた。
温度40℃、湿度90％の雰囲気中で８週間保持した
後におけるテープの特性を調べたが寸法は極めて
安定しており、シワによるドロツプアウトもみら
れなかつた。
実施例 ２
回転ドラム径；1000mm、蒸発源；電子ビーム加
熱（電子銃へ供給する電圧：20KV、電力
60KW）、フイルム幅600mm、蒸着部幅；540mm、
蒸着材料；Co85％・Cr15％、真空度２×
10-5Torr、捲き取り速度；45ｍ／min、蒸着厚
み；0.2μ、蒸着長さ；4000ｍ〜6000ｍ。
熱（電子銃へ供給する電圧：20KV、電力
60KW）、フイルム幅600mm、蒸着部幅；540mm、
蒸着材料；Co85％・Cr15％、真空度２×
10-5Torr、捲き取り速度；45ｍ／min、蒸着厚
み；0.2μ、蒸着長さ；4000ｍ〜6000ｍ。
実施例 ３
回転ドラム径；500mm、蒸発源；電子ビーム加
熱（電子銃へ供給する電圧：10KV、電力：
16KW）、フイルム幅；500mm、蒸着部幅；400mm、
蒸着材料；Co87％・Cr13％、真空度１×
10-4Torr（アルゴンを導入）、高周波イオンプレ
ーテイング、高周波電力（13.56MHz、370W）、
捲き取り速度；20ｍ／min、蒸着厚み；0.3μ、蒸
着長さ；2000ｍ。
熱（電子銃へ供給する電圧：10KV、電力：
16KW）、フイルム幅；500mm、蒸着部幅；400mm、
蒸着材料；Co87％・Cr13％、真空度１×
10-4Torr（アルゴンを導入）、高周波イオンプレ
ーテイング、高周波電力（13.56MHz、370W）、
捲き取り速度；20ｍ／min、蒸着厚み；0.3μ、蒸
着長さ；2000ｍ。
実施例 ４
前記フイルム基材〜の群を荷電粒子の注入
によりエレクトレツト化した他は実施例１〜同３
と同じ条件である。
によりエレクトレツト化した他は実施例１〜同３
と同じ条件である。
実施例２〜同４のいずれについても〔実施例
１〕で説明したのと同様な効果を確認した。
１〕で説明したのと同様な効果を確認した。
本発明によると以上のように磁気記録媒体の巻
きずれを容易に防止することができる。
きずれを容易に防止することができる。
第１図は従来の製造方法により製造した磁気テ
ープを巻取リールに巻回した状態を示す断面図、
第２図は本発明の一実施例において用いる製造装
置の構成を示す図、第３図は上記製造装置の要部
の側面図である。 １，１８，１９……巻取リール、７……高分子
基材、８……供給リール、１３，１６……マス
ク、１５……蒸発材料。
ープを巻取リールに巻回した状態を示す断面図、
第２図は本発明の一実施例において用いる製造装
置の構成を示す図、第３図は上記製造装置の要部
の側面図である。 １，１８，１９……巻取リール、７……高分子
基材、８……供給リール、１３，１６……マス
ク、１５……蒸発材料。
Claims (1)
- １ 連続供給されるフイルム状基材上に磁性材料
の蒸気を被着せしめて磁気記録層を形成し、次い
で上記磁気記録層が形成された上記基材を巻取軸
に巻取る磁気記録媒体の製造方法において、上記
基材の幅方向の両端部に余白部が生じるようにし
て上記磁気記録層を形成し、この後上記余白部が
残らないように上記基材の両端部を切り離してか
ら上記巻取軸に上記基材を巻取ることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6862781A JPS57183638A (en) | 1981-05-06 | 1981-05-06 | Production of magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6862781A JPS57183638A (en) | 1981-05-06 | 1981-05-06 | Production of magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57183638A JPS57183638A (en) | 1982-11-12 |
| JPS644254B2 true JPS644254B2 (ja) | 1989-01-25 |
Family
ID=13379169
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6862781A Granted JPS57183638A (en) | 1981-05-06 | 1981-05-06 | Production of magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57183638A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61250837A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-07 | Sony Corp | 蒸着磁気テ−プの製造方法 |
-
1981
- 1981-05-06 JP JP6862781A patent/JPS57183638A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57183638A (en) | 1982-11-12 |
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