JP2022013227A - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基材の皺発生の抑制。【解決手段】成膜装置は、ローラと、成膜源とを具備する。上記ローラは、成膜面と上記成膜面とは反対側の裏面とを有する長尺の基材と、上記基材の上記成膜面を上記基材の長尺方向において被覆する長尺のマスクとを巻き付けながら、上記基材と上記マスクとを巻き付け方向に搬送する。上記成膜源は、上記基材及び上記マスクを介して上記ローラに対向する。上記長尺方向と直交する上記基材の幅方向において、上記マスクの幅は、上記基材の幅よりも短い。上記基材は、上記幅方向における上記基材の両端間において上記マスクによって被覆され、上記マスクの両側においては上記基材が上記マスク以外のマスクによって被覆されない。【選択図】図１

Description

本発明は、成膜装置及び成膜方法に関する。

成膜装置の中に、巻出ローラから長尺の基材であるフィルムを繰り出し、フィルムを主ローラに巻き付けながら該フィルムに成膜を行った後、フィルムを巻取ローラで巻き取る巻取式の成膜装置がある。近年では、長尺のマスクを別の巻出ローラから繰り出し、このマスクによってフィルムの一部を主ローラ上で被覆することにより、マスクによって被覆されていないフィルムの箇所に成膜を行う巻取式の成膜装置が提供されている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００２－３３９０５５公報

しかしながら、成膜用のフィルムとマスクとが真空容器内で同じ主ローラに巻き付けられると、マスクがフィルムを被覆する位置によっては、フィルムのヨレがマスクによって拘束されてしまい、主ローラに巻き付けられたフィルムに皺が発生する場合がある。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、長尺の基材を用いた巻取式の成膜に関し、基材の皺発生がより抑制される成膜装置及び成膜方法を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る成膜装置は、ローラと、成膜源とを具備する。
上記ローラは、成膜面と上記成膜面とは反対側の裏面とを有する長尺の基材と、上記基材の上記成膜面を上記基材の長尺方向において被覆する長尺のマスクとを巻き付けながら、上記基材と上記マスクとを巻き付け方向に搬送する。
上記成膜源は、上記基材及び上記マスクを介して上記ローラに対向する。
上記長尺方向と直交する上記基材の幅方向において、上記マスクの幅は、上記基材の幅よりも短い。
上記基材は、上記幅方向における上記基材の両端間において上記マスクによって被覆され、上記マスクの両側においては上記基材が上記マスク以外のマスクによって被覆されない。

このような成膜装置によれば、上記マスクの配置によって基材の皺発生がより抑制される。

上記の成膜装置においては、上記マスクは、上記基材の中心線に重なるように上記基材に配置されてもよい。

このような成膜装置によれば、上記マスクの配置によって基材の皺発生がより抑制される。

上記の成膜装置は、上記ローラ及び上記成膜源を収容する真空容器をさらに具備してもよく、上記ローラに支持されている上記基材の上記裏面の全域とは反対側の上記成膜面と上記成膜面を被覆する上記マスクとが上記真空容器で露出されてもよい。

このような成膜装置によれば、上記基材の露出によって基材の皺発生がより抑制される。

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る成膜方法では、成膜面と上記成膜面とは反対側の裏面とを有する長尺の基材と、上記基材の長尺方向と直交する上記基材の幅方向において、上記基材の幅よりも幅が短いマスクであって上記基材の上記成膜面を上記長尺方向において被覆する長尺の上記マスクとをローラに巻き付けながら、上記基材と上記マスクとを巻き付け方向に搬送される。
上記基材を上記幅方向における上記基材の両端間において上記マスクによって被覆し、上記マスクの両側においては上記基材を上記マスク以外の別マスクによって被覆しないで上記成膜面に膜が形成される。

このような成膜方法によれば、上記マスクの配置によって基材の皺発生がより抑制される。

以上述べたように、本発明によれば、基材の皺発生を抑制する成膜装置及び成膜方法が提供される。

本実施形態に係る成膜装置の一例を示す模式的断面図である。 本実施形態に係る成膜装置の一部を示す模式的平面図である。 図（ａ）は、主ローラと、主ローラに巻き付かれた基材及びマスクを示す模式的断面図である。図（ｂ）は、主ローラと、主ローラに巻き付かれた基材及びマスクを示す模式的平面図である。 図（ａ）は、比較例に係るマスクを用いた場合の作用を説明する模式図である。図（ｂ）は、本実施形態に係るマスクを用いた場合の作用を説明する模式図である。 マスクの変形例を示す模式的平面図である。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。各図面には、ＸＹＺ軸座標が導入される場合がある。また、同一の部材または同一の機能を有する部材には同一の符号を付す場合があり、その部材を説明した後には適宜説明を省略する場合がある。また、以下に示す数値は例示であり、この例に限らない。

図１は、本実施形態に係る成膜装置の一例を示す模式的断面図である。図２は、本実施形態に係る成膜装置の一部を示す模式的平面図である。

図１には、一例として、巻取式の成膜装置１００が例示される。成膜装置１００は、真空容器１０１と、成膜部１１０と、搬送部１２０と、第１搬送機構１３０と、第２搬送機構１４０と、主ローラ１５０とを有する。主ローラ１５０は、単にローラ１５０とされたり、成膜ローラ１５０と呼称されたりする。

（真空容器）

真空容器１０１は、密閉構造を有する。真空容器１０１は、真空ポンプ１９０を有する排気ライン１９１に接続される。真空容器１０１の内部は、所定の減圧雰囲気に排気または維持可能に構成される。真空容器１０１は、成膜源１１１、第１搬送機構１３０、第２搬送機構１４０、及び主ローラ１５０等を収容する。真空容器１０１は、例えば、仕切板１０２によって成膜部１１０と搬送部１２０とに区画される。

（成膜部）

成膜部１１０は、仕切板１０２と、主ローラ１５０と、真空容器１０１の外壁とにより区画される。成膜部１１０は、真空容器１０１内の下方に配置される。成膜部１１０には、成膜源１１１が設けられる。成膜部１１０は、例えば、排気ライン１９１に接続されている。

成膜部１１０は、搬送部１２０と連通している。このため、成膜部１１０内が排気されると、搬送部１２０内が排気される。排気中においては、仕切板１０２の存在によって、成膜部１１０と搬送部１２０との間に圧力差が生じる。この圧力差により、蒸発材料の蒸発流が搬送部１２０内に侵入することが抑制される。

成膜源１１１は、Ｚ軸方向において基材１６０及びマスク１７０を介してローラ１５０に対向する。成膜源１１１は、任意の蒸発材料を蒸発させる蒸着源である。成膜源１１１は、蒸発材料を加熱する加熱機構（図示略）を有する。加熱機構の加熱温度は、例えば、蒸発材料がリチウム金属である場合に、５３０℃以上７００℃以下に設定される。加熱機構の加熱方法は、例えば、抵抗加熱でもよく、誘導加熱でもよく、電子ビーム加熱でもよい。蒸発材料としては、Ｌｉのほか、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｃｕ及びこれらの合金、酸化物、窒化物、フッ化物等があげられる。

成膜部１１０には、防着板１１２が設けられる。防着板１１２は、成膜源１１１と主ローラ１５０との間に位置する。例えば、図２には、成膜部１１０の側から搬送部１２０の側に成膜装置１００を見た場合の成膜装置１００の一部構成が示されている。

防着板１１２は、開口部１１２ａを有する。防着板１１２は、主ローラ１５０のＹ軸方向の両端部に成膜源１１１からの粒子が付着すること防ぐマスクとして機能する。主ローラ１５０の外周面（支持面１５０ｓ）のうち、Ｚ軸方向において開口部１１２ａと対向する位置が基材１６０に薄膜Ｌを形成する際の成膜位置となる。成膜源１１１は、主ローラ１５０の成膜位置に対向する。

（搬送部）

搬送部１２０は、仕切板１０２と、真空容器１０１の外壁に区画された搬送室である。搬送部１２０は、真空容器１０１内の上方に配置される。搬送部１２０には、別の排気ラインが接続されてもよい。このような構成であれば、搬送部１２０と成膜部１１０とが独立して排気可能になる。

（第１搬送機構）

第１搬送機構１３０は、巻出ローラ１３１と、ガイドローラ１３２、１３４と、巻取ローラ１３５と、主ローラ１５０とを有する。巻出ローラ１３１、主ローラ１５０、及び巻取ローラ１３５のそれぞれは、回転駆動部（図示しない）を備え、Ｙ軸周りに所定の回転速度で回転することができる。これにより、真空容器１０１内において、巻出ローラ１３１から巻取ローラ１３５に向かって基材１６０が所定の搬送速度で搬送される。

巻出ローラ１３１は、成膜部１１０よりも基材１６０の搬送方向の上流側に設けられる。巻出ローラ１３１は、基材１６０を主ローラ１５０へ送り出すことができる。巻出ローラ１３１と主ローラ１５０との間の適宜の位置には、独自の回転駆動部を備えていないフリーローラであるガイドローラ１３２が配置される。

主ローラ１５０は、基材１６０の搬送方向において巻出ローラ１３１と巻取ローラ１３５との間に配置される。主ローラ１５０は、基材１６０を支持する支持面１５０ｓを有する。支持面１５０ｓは、主ローラ１５０のＹ軸周りの外周面である。

主ローラ１５０の少なくとも一部は、Ｚ軸方向において、仕切板１０２に設けられた開口部１０２ａを通じて成膜部１１０に対向する。主ローラ１５０は、所定の間隔を隔てて開口部１０２ａと離間し、Ｚ軸方向において成膜源１１１に対向する。主ローラ１５０は、基材１６０とマスク１７０とを巻き付けながら、基材１６０とマスク１７０とを巻き付け方向に搬送する。巻き付け方向とは、矢印によって示される主ローラ１５０の回転方向である。この回転方向は、基材１６０及びマスク１７０の搬送方向に対応している。

主ローラ１５０は、ステンレス鋼、鉄、アルミニウム等の金属材料で筒状に構成される。主ローラ１５０の内部には、例えば、温調媒体循環系等の温調ユニット（図示略）が設けられてもよい。温調ユニットに循環させる温媒としては、例えば、シリコン油等の高沸点の有機媒体を用いることができる。冷媒としては、水があげられる。主ローラ１５０の大きさは特に限定されない。典型的には、主ローラ１５０のＹ軸方向の幅寸法が基材１６０のＹ軸方向の幅寸法よりも大きく設定される。

巻取ローラ１３５は、成膜部１１０より基材１６０の搬送方向の下流側に設けられる。巻取ローラ１３５は、成膜部１１０で薄膜が形成された基材１６０を回収することができる。主ローラ１５０と巻取ローラ１３５との間の適宜の位置には、独自の回転駆動部を備えていないフリーローラであるガイドローラ１３４が配置される。

（第２搬送機構）

第２搬送機構１４０は、巻出ローラ１４１と、ガイドローラ１４２、１４３と、巻取ローラ１４４と、主ローラ１５０とを有する。主ローラ１５０は、第１搬送機構１３０と搬送機構１４０とに共有される。巻出ローラ１４１及び巻取ローラ１４４は、それぞれ回転駆動部（図示しない）を備え、Ｙ軸周りに所定の回転速度でそれぞれ回転可能に構成される。これにより、真空容器１０１内において、巻出ローラ１４１から巻取ローラ１４４に向かって長尺のマスク１７０が所定の搬送速度で搬送される。

第２搬送機構１４０がマスク１７０を搬送する搬送速度は、第１搬送機構１３０が基材１６０を搬送する搬送速度と同等であることが好ましい。これにより、成膜位置における基材１６０とマスク１７０との相対移動を防止でき、所望のマスク精度を確保することができる。

巻出ローラ１４１は、成膜部１１０よりも基材１６０の搬送方向の上流側に設けられる。巻出ローラ１４１は、マスク１７０を主ローラ１５０へ送り出すことができる。マスク１７０は、巻出ローラ１４１に支持される。本実施形態では、基材１６０の幅方向を「幅方向」とする。幅方向は、例えば、Ｙ軸方向に対応している。

巻出ローラ１４１と主ローラ１５０との間の適宜の位置には、独自の回転駆動部を備えていないフリーローラであるガイドローラ１４２が配置される。ガイドローラ１４２は、第１搬送機構１３０のガイドローラ１３２と協働して基材１６０及びマスク１７０を挟持する。

巻取ローラ１４４は、成膜部１１０より基材１６０の搬送方向の下流側に設けられる。巻取ローラ１４４は、巻出ローラ１４１から巻き出されたテープ状のマスク１７０を回収することができる。主ローラ１５０と巻取ローラ１４４との間の適宜の位置には、独自の回転駆動部を備えていないフリーローラであるガイドローラ１４３が配置される。

（基材）

基材１６０は、例えば、所定幅に裁断された長尺のフィルムである。基材１６０は、成膜源１１１に対向する成膜面１６０ｓと成膜面１６０ｓとは反対側の裏面１６０ｒとを有する。基材１６０の長尺方向は、主ローラ１５０の巻き付け方向Ｒ１、または、基材１６０及びマスク１７０の搬送方向に対応している。

基材１６０は、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、またはステンレス鋼等の金属で構成される。または、基材１６０は、ＯＰＰ（延伸ポリプロピレン）フィルム、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイト）フィルム、ＰＩ（ポリイミド）フィルム等の樹脂フィルムであってもよい。あるいは、基材１６０は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）付き樹脂フィルム等であってもよい。

基材１６０の幅は、特に限定されず、例えば、数ｍｍ以上数ｍ以下である。基材１６０の厚さは、特に限定されず、例えば、数μｍから数１０μｍである。成膜時の基材１６０の張力は、数Ｎ／ｍ以上数１０００Ｎ／ｍ以下に設定される。また、基材１６０の幅や長さについても特に制限はなく、用途に応じて適宜決定可能である。

（マスク）

マスク１７０は、例えば、所定幅に裁断された長尺のフィルムである。マスク１７０は、主ローラ１５０上において基材１６０の成膜面１６０ｓを基材１６０の長尺方向において被覆する。

マスク１７０は、例えば、銅、アルミニウム、ニッケル、またはステンレス鋼等の金属で構成される。または、マスク１７０は、ＯＰＰ（延伸ポリプロピレン）フィルム、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイト）フィルム、ＰＩ（ポリイミド）フィルム等の樹脂フィルムであってもよい。あるいは、マスク１７０は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）付き樹脂フィルム等であってもよい。マスク１７０は、基材１６０と熱伝導率が同一の材料からなることが好ましく、基材１６０と同一の材料からなることがより好ましい。

マスク１７０の幅は、特に限定されず、例えば、数ｍｍ以上基材１６０の幅未満である。マスク１７０の厚さは、特に限定されず、例えば、数μｍから数１０μｍである。成膜時のマスク１７０の張力は、数Ｎ／ｍ以上数１０００Ｎ／ｍ以下に設定される。マスク１７０の厚さは、成膜工程後の基材１６０への熱の伝わり方を鑑み、可能な限り薄いほうが好ましい。

マスク１７０の幅、長さは、特に制限はなく、用途に応じて適宜決定可能である。マスク１７０は、基材１６０よりも厚くてもよく、同一でもよく、薄くてもよい。マスク１７０の幅は、基材１６０の幅方向における両端の非成膜領域の大きさに応じて決定される。

成膜装置１００の構成は、図１、２に示す構成に限定されるものではなく、例えば、成膜部１１０、搬送部１２０、巻出ローラ１３１、１４１、主ローラ１５０、巻取ローラ１３５、１４４、ガイドローラ１３２、１３４、１４２、１４３の数や大きさ、配置等は適宜変更されてもよい。

特に、巻出ローラ１４１、ガイドローラ１４２、１４４、及び巻取ローラ１４４は、マスク１７０を共通に支持するように構成されたが、これに限られず、これらのうち少なくとも１つが各テープ状マスク１７０について個々に設置されてもよい。

図３（ａ）は、主ローラと、主ローラに巻き付かれた基材及びマスクを示す模式的断面図である。図３（ｂ）は、主ローラと、主ローラに巻き付かれた基材及びマスクを示す模式的平面図である。図３（ｂ）では、主ローラ１５０、基材１６０、及びマスク１７０を下方から上方に向けて見た様子が示されている。

基材１６０の長尺方向Ｌ１と直交する基材１６０の幅方向Ｄ１において、マスク１７０の幅１７０ｗは、基材１６０の幅１６０ｗよりも短い。基材１６０は、幅方向Ｄ１における基材１６０の両端１６０ｅの間において、マスク１７０によって被覆される。例えば、マスク１７０は、基材１６０の中心線１６０ｃに重なるように基材１６０に配置される。

例えば、基材１６０は、両端１６０ｅの間の中央においてマスク１７０によって被覆される。また、基材１６０は、マスク１７０の両側においては、マスク１７０以外の別のマスクによって被覆されない。例えば、基材１６０の両端１６０ｅは、マスク１７０及びマスク１７０以外の別のマスクによって拘束されない。

基材１６０及びマスク１７０が主ローラ１５０によって巻き付かれる巻付角度θは、０°より大きく１８０°未満に設定される。この巻付角度θの範囲において、基材１６０の裏面が主ローラ１５０によって支持される。また、成膜装置１００においては、主ローラ１５０に支持されている基材１６０の裏面とは反対側の成膜面１６０ｓと、この成膜面１６０ｓを被覆するマスク１７０とが真空容器１０１で露出している。

例えば、主ローラ１５０によって支持された、基材１６０及びマスク１７０は、巻付角度θの範囲において主ローラ１５０以外の別のローラ（例えば、ニップルローラ、ガイドローラ等）によって押圧されることなく、真空容器１０１で露出している。

このような成膜装置１００を用いて、本実施形態では、基材１６０とマスク１７０とが主ローラ１５０に巻き付けられながら、基材１６０とマスク１７０とが巻付方向Ｒ１に搬送される。ここで、基材１６０は、幅方向Ｄ１における基材１６０の両端１６０ｅの間においてマスク１７０によって被覆される。マスク１７０の両側においては、基材１６０がマスク１７０以外の別のマスクによって被覆されないで成膜面１６０ｓに膜が形成される。

成膜が終了した基材１６０においては、例えば、中心線１６０ｃを中心に２分割され、例えば、膜付き基材１６０がＬｉ電池等の電気部品に適用される。従って、マスク１７０を基材１６０の中央部に配置しても用途上問題はない。

なお、基材１６０がマスク１７０によって被覆される位置は、基材１６０の中心線１６０ｃに限らず、膜が形成された基材１６０の用途によって適宜変更されてもよい。例えば、中心線１６０ｃから基材１６０の幅１６０ｗの長さに対して±５０％未満の範囲において、基材１６０がマスク１７０によって被覆されてもよい。この場合においても、マスク１７０の両側において、基材１６０は、マスク１７０及びマスク１７０以外の別のマスクによって被覆されてない構成が維持される。

（作用）

図４（ａ）は、比較例に係るマスクを用いた場合の作用を説明する模式図である。図４（ｂ）は、本実施形態に係るマスクを用いた場合の作用を説明する模式図である。

まず、比較例に係るマスク１７５、１７６を用いた場合の作用について説明する。

図４（ａ）に示される比較例では、基材１６０の両端１６０ｅが一対の長尺のマスク１７５、１７６によって被覆されながら、基材１６０が主ローラ１５０によって巻き付け方向に搬送される。

このとき、基材１６０の成膜面１６０ｓにＬｉなどの金属が蒸着すると、蒸発粒子が基材１６０上で固化することから、蒸着膜から熱が基材１６０に入熱し、基材１６０が主ローラ１５０上で膨張する現象が起きる。

ここで、基材１６０の両端１６０ｅが一対のマスク１７５、１７６によって押し付けられていると、主ローラ１５０上で膨張する基材１６０の伸び分がマスク１７５、１７６下で潜り抜けにくくなり、該伸び分が両端１６０ｅでマスク１７５、１７６によって拘束されてしまう。これにより、基材１６０の両端１６０ｅ付近には、皺１６１が発生する可能性がある。あるいは、基材両端のマスク１７５、１７６の押し付けによって、基材１６０の中央部において若干の浮き上がりが起きる可能性がある。

このような状態で、基材１６０に蒸着を続けると、基材１６０を巻取り中に基材１６０が破断したり、基材１６０に形成した膜に、皺１６１の影響によってダメージが与えられたりする可能性がある。

これに対し、図４（ｂ）に示す本実施形態では、基材１６０の両端１６０ｅがマスクによって拘束されることなく、マスク１７０は、基材１６０の中心線１６０ｃと重複するように配置される。

これにより、主ローラ１５０上で膨張する基材１６０の伸び分は、例えば、図中の矢印方向で示すような中心線１６０ｃから両端１６０ｅに向かう方向に逃げ易くなる。従って、該伸び分は、基材１６０の両端１６０ｅで拘束されないことになる。これにより、比較例で示されたような皺１６１は、基材１６０に発生しにくく、基材１６０の中央部における浮き上がりが確実に抑制される。

この結果、基材１６０に蒸着を続けても、基材１６０を巻取り中に基材１６０は破断しにくくなる。さらに、基材１６０に形成した膜に、ダメージが与えられることがない。

また、本実施形態では、成膜ローラとしての主ローラ１５０がニップルローラ、ガイドローラ等の別のローラによって押し付けられない。これにより、別のローラの基材への押し付けによる基材での皺発生が抑制される。さらに、基材１６０に形成した膜は、別のローラによる物理的なダメージも受けない。また、別のローラに付着した膜が成膜部１１０内で剥離することにより、基材１６０に形成した膜に膜片等の異物が混入する現象も起きない。

また、基材１６０とマスク１７０とを同材料とした場合には、それぞれの熱膨張係数が同じになることから、蒸着膜から熱を受けたとき、それぞれが同じ伸び量で膨張する。従って、皺発生がより確実に抑制される。

（変形例）

図５は、マスクの変形例を示す模式的平面図である。

マスク１７０においては、一体的な帯状のマスクに限らず、例えば、マスク内にパターンが設けられてもよい。例えば、図５に例示されるマスク１７０には、長尺の方向に複数の開口１７１が列状になって配置されている。このようなパターニングされたマスク１７０も本実施形態に含まれる。

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく種々変更を加え得ることは勿論である。各実施形態は、独立の形態とは限らず、技術的に可能な限り複合することができる。

１００…成膜装置
１０１…真空容器
１０２…仕切板
１０２ａ…開口部
１１０…成膜部
１１１…成膜源
１１２…防着板
１１２ａ…開口部
１２０…搬送部
１３０…搬送機構
１３１、１４１…巻出ローラ
１３２、１３４、１４２、１４３…ガイドローラ
１３５、１４４…巻取ローラ
１４０…搬送機構
１５０ｓ…支持面
１５０…主ローラ
１６０…基材
１６０ｃ…中心線
１６０ｒ…裏面
１６０ｅ…両端
１６０ｗ…幅
１６０ｓ…成膜面
１６１…皺
１７０…マスク
１７０ｗ…幅
１７１…開口
１９０…真空ポンプ
１９１…排気ライン

Claims (4)

1. 成膜面と前記成膜面とは反対側の裏面とを有する長尺の基材と、前記基材の前記成膜面を前記基材の長尺方向において被覆する長尺のマスクとを巻き付けながら、前記基材と前記マスクとを巻き付け方向に搬送するローラと、
   前記基材及び前記マスクを介して前記ローラに対向する成膜源と
   を具備し、
   前記長尺方向と直交する前記基材の幅方向において、前記マスクの幅は、前記基材の幅よりも短く、
   前記基材は、前記幅方向における前記基材の両端間において前記マスクによって被覆され、前記マスクの両側においては前記基材が前記マスク以外のマスクによって被覆されない
   成膜装置。
2. 請求項１に記載された成膜装置であって、
   前記マスクは、前記基材の中心線に重なるように前記基材に配置される
   成膜装置。
3. 請求項１または２に記載された成膜装置であって、
   前記ローラ及び前記成膜源を収容する真空容器をさらに具備し、
   前記ローラに支持されている前記基材の前記裏面の全域とは反対側の前記成膜面と前記成膜面を被覆する前記マスクとが前記真空容器で露出されている
   成膜装置。
4. 成膜面と前記成膜面とは反対側の裏面とを有する長尺の基材と、前記基材の長尺方向と直交する前記基材の幅方向において、前記基材の幅よりも幅が短いマスクであって前記基材の前記成膜面を前記長尺方向において被覆する長尺の前記マスクとをローラに巻き付けながら、前記基材と前記マスクとを巻き付け方向に搬送し、
   前記基材を前記幅方向における前記基材の両端間において前記マスクによって被覆し、前記マスクの両側においては前記基材を前記マスク以外の別マスクによって被覆しないで前記成膜面に膜を形成する
   成膜方法。

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