KR102022131B1 - 성막 장치 및 막 형성 유리 필름의 제조 방법 - Google Patents

성막 장치 및 막 형성 유리 필름의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102022131B1
KR102022131B1 KR1020147010381A KR20147010381A KR102022131B1 KR 102022131 B1 KR102022131 B1 KR 102022131B1 KR 1020147010381 A KR1020147010381 A KR 1020147010381A KR 20147010381 A KR20147010381 A KR 20147010381A KR 102022131 B1 KR102022131 B1 KR 102022131B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
glass
glass film
normal body
heater
Prior art date
Application number
KR1020147010381A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140105713A (ko
Inventor
다카요시 사이토
Original Assignee
니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 filed Critical 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
Publication of KR20140105713A publication Critical patent/KR20140105713A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102022131B1 publication Critical patent/KR102022131B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/06—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals
    • C03C17/09—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with metals by deposition from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036—Reactive sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
    • C23C16/545—Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/25—Metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
    • C03C2217/948—Layers comprising indium tin oxide [ITO]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/152—Deposition methods from the vapour phase by cvd
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

유리 필름 상에 바람직하게 성막할 수 있는 장치를 제공한다. 성막 장치 (1) 는, 가열 롤 (20) 과 막 형성부 (30) 를 구비하고 있다. 가열 롤 (20) 의 표면 상에는, 유리 필름 (10) 이 공급된다. 가열 롤 (20) 은, 유리 필름 (10) 을 가열한다. 막 형성부 (30) 는, 유리 필름 (10) 상에 막을 형성한다. 가열 롤 (20) 은, 통상체 (21) 와 히터 (22) 를 갖는다. 통상체 (21) 는, 유리 또는 세라믹스로 이루어진다. 통상체 (21) 는 회전 가능하게 형성되어 있다. 히터 (22) 는, 통상체 (21) 의 내부에 배치되어 있다. 히터 (22) 는, 통상체 (21) 를 가열한다.

Description

성막 장치 및 막 형성 유리 필름의 제조 방법{FILM FORMING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR GLASS WITH FILM}
본 발명은 성막 장치 및 그것을 사용한 막 형성 유리 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 가요성을 갖는 유리 필름 상에 성막하고자 하는 요망이 있다. 예를 들어, 특허문헌 1 에는 기판 롤로부터 공급되는 유리 시트를, 300 ℃ 이상으로 가열된 캔을 사용하여 가열하고, 캔 상에 있어서, 가열된 유리 시트의 표면 상에, 스퍼터링법에 의해 ITO (인듐주석 산화물) 막을 형성하는 방법이 기재되어 있다.
일본 공개특허공보 2007-119322호
그러나, 특허문헌 1 에 기재된 방법에서는, 캔의 재질로서 금속이 사용되고 있다. 유리 시트와 접촉하는, 고온으로 가열된 금속제 캔의 표면이 산화되어 변질ㆍ열화되는 것을 억제하기 위해, 불활성 가스 분위기 중에 캔을 배치하여 성막을 실시할 필요가 있다. 이 때문에, 성막 장치가 커짐과 함께 성막 비용이 상승한다. 특히, 이 성막 장치를, 스퍼터링보다 고온을 필요로 하는 열 CVD 장치에 응용한 경우에는, 금속제 캔의 표면 산화가 더욱 발생하기 쉬워진다.
본 발명은 유리 필름 상에 바람직하게 성막할 수 있는 장치를 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.
본 발명에 관련된 성막 장치는, 가열 롤과 막 형성부를 구비하고 있다. 가열 롤의 표면 상에는, 유리 필름이 공급된다. 가열 롤은, 유리 필름을 가열한다. 막 형성부는, 유리 필름 상에 막을 형성한다. 가열 롤은, 통상체와 히터를 갖는다. 통상체는, 유리 또는 세라믹스로 이루어진다. 통상체는 회전 가능하게 형성되어 있다. 히터는, 통상체의 내부에 배치되어 있다. 히터는 통상체를 가열한다.
통상체는 석영 유리, 결정화 유리, 알루미나, 실리카, 질화규소 및 탄화규소로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종으로 이루어지는 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 성막 장치는, 통상체와 유리 필름 사이에 유리 필름측의 표층의 경도가 유리 필름의 경도보다 낮은 시트를 공급하는 공급부를 추가로 구비하는 것이 바람직하다.
시트는, 금속으로 이루어지는 것이 바람직하다.
시트의 열팽창 계수는, 유리 필름의 열팽창 계수의 1 배 ∼ 10 배인 것이 바람직하다.
히터는, 통상체의 유리 필름과 접하는 부분을 가열하도록 배치되어 있어도 된다.
히터는, 통상체를 향하여 열선을 조사하는 것인 것이 바람직하다. 그 경우, 본 발명에 관련된 성막 장치는, 통상체의 내주면 상에 배치되어 있고, 히터로부터 조사되는 열선을 흡수하는 흡수층을 추가로 구비하는 것이 바람직하다.
막 형성부는, 유리 필름 상에 있어서 열 반응하고, 막을 구성하는 반응 가스를 공급하는 반응 가스 공급부, 또는 스퍼터 입자를 유리 필름 상에 퇴적시키는 스퍼터부에 의해 구성되어 있어도 된다.
본 발명에 관련된 막 형성 유리 필름의 제조 방법에서는, 본 발명에 관련된 성막 장치를 사용하여 유리 필름 상에 막을 형성한다.
열 CVD 법 또는 스퍼터링법에 의해 막을 형성해도 된다.
본 발명에 의하면, 유리 필름 상에 바람직하게 성막할 수 있는 장치를 제공할 수 있다.
도 1 은 본 발명의 일 실시형태에 있어서의 성막 장치의 모식적 측면도이다.
도 2 는 도 1 의 II 부분을 확대한 모식적 측면도이다.
도 3 은 본 발명의 일 실시형태에 있어서 제조된 막 형성 유리 필름의 모식적 측면도이다.
이하, 본 발명을 실시한 바람직한 형태의 일례에 대하여 설명한다. 단, 하기의 실시형태는 단순한 예시이다. 본 발명은 하기의 실시형태에 전혀 한정되지 않는다.
실시형태 등에 있어서 참조하는 도면은 모식적으로 기재된 것으로, 도면에 묘화된 물체의 치수 비율 등은, 현실의 물체의 치수 비율 등과는 상이한 경우가 있다. 도면 상호 간에 있어서도 물체의 치수 비율 등이 상이한 경우가 있다. 구체적인 물체의 치수 비율 등은, 이하의 설명을 참작하여 판단되어야 할 것이다.
도 1 은 본 실시형태에 있어서의 성막 장치 (1) 의 모식적 측면도이다. 성막 장치 (1) 는, 가요성을 갖는 유리 필름 (10) 의 표면 (10a) 상에 막 (11) (도 3 을 참조) 을 형성하고, 유리 필름 (10) 및 막 (11) 을 구비하는 막 형성 유리 필름 (12) 을 제조하기 위한 장치이다.
유리 필름 (10) 의 두께는, 유리 필름 (10) 이 가요성을 갖는 정도이면 특별히 한정되지 않는다. 유리 필름 (10) 의 두께는, 예를 들어 300 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 100 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 50 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.
유리 필름 (10) 을 구성하는 유리의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 유리 필름 (10) 은, 예를 들어 규산염계 유리, 붕산염계 유리, 인산염계 유리 등이어도 된다. 또한, 본 발명에 있어서, 유리 필름에는 결정화 유리로 이루어지는 결정화 유리 필름이 포함되는 것으로 한다.
막 (11) 의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 막 (11) 은 산화주석, 산화인듐, 산화규소, 산화티탄, 산화니오브, 산화탄탈, 산화란탄 등의 산화물, 질화규소, 질화티탄 등의 질화물, 또는 규소, 은, 구리, 알루미늄 등의 금속 등으로 이루어지는 것이어도 된다.
성막 장치 (1) 는, 가열 롤 (20) 을 구비하고 있다. 가열 롤 (20) 은, 통상체 (21) 와 히터 (22) 를 갖는다. 통상체 (21) 는, 통상체 (21) 의 내부에 회전 불가능하게 배치된 심체 (23) 에 의해, 중심축 (C1) 을 중심으로 하여 회전 가능하게 지지되어 있다. 통상체 (21) 는, 회전 롤 (25a, 25b) 의 회전에 수반하여 중심축 (C1) 을 중심으로 하여 회전한다.
통상체 (21) 는, 유리 또는 세라믹스로 이루어진다. 통상체 (21) 의 구성 재료로서 바람직하게 사용되는 유리의 구체예로는, 예를 들어 석영 유리, 결정화 유리 등을 들 수 있다. 통상체 (21) 의 구성 재료로서 바람직하게 사용되는 세라믹스의 구체예로는, 예를 들어 알루미나, 실리카, 질화규소, 탄화규소 등을 들 수 있다.
통상체 (21) 의 외경은 특별히 한정되지 않는다. 통상체 (21) 의 외경은, 예를 들어 100 ㎜ ∼ 2000 ㎜ 정도로 할 수 있다. 통상체 (21) 의 두께는, 예를 들어 3 ㎜ ∼ 20 ㎜ 정도인 것이 바람직하다. 통상체 (21) 의 두께가 지나치게 작으면, 통상체 (21) 의 강도가 낮아지는 경우가 있다. 통상체 (21) 의 두께가 지나치게 크면, 통상체 (21) 의 열용량이 커진다. 이 때문에, 통상체 (21) 의 가열 또는 온도 유지를 위해 큰 에너지를 주지 않으면 안 되고, 또 유리 필름의 온도 조정이 어려워지는 경우가 있다.
히터 (22) 는, 통상체 (21) 의 내부에 배치되어 있다. 구체적으로는, 히터 (22) 는, 심체 (23) 에 형성된 절결부 내에 통상체 (21) 의 내주면 (21a) 과 대향하도록 배치되어 있다. 보다 구체적으로는, 히터 (22) 는, 통상체 (21) 의 유리 필름 (10) 과 접하는 부분에 대향하여 배치되어 있어, 통상체 (21) 의 유리 필름 (10) 과 접하는 부분을 가열한다.
히터 (22) 는, 통상체 (21) 를 유리 필름 (10) 의 표면 (10a) 상에 막 (11) 을 형성할 수 있는 온도로까지 가열할 수 있는 것인 한 특별히 한정되지 않는다. 히터 (22) 는, 예를 들어 통상체 (21) 를 향하여 열선을 조사하는 적외선 히터나 근적외선 히터에 의해 구성되어 있어도 된다. 그 경우, 도 2 에 나타나는 바와 같이, 히터 (22) 로부터 조사되는 열선을 흡수하는 흡수층 (24) 을 통상체 (21) 의 내주면 (21a) 상에 배치해 두는 것이 바람직하다. 그렇게 함으로써, 통상체 (21) 의 가열 효율을 높일 수 있다.
또한, 흡수층 (24) 은, 예를 들어 안료로서 그라파이트, 또는 철, 망간 등을 함유하는 흑체 도료에 의해 구성할 수 있다.
통상체 (21) 의 상방에는, 통상체 (21) 를 개재하여 히터 (22) 와 대향하도록 막 형성부 (30) 가 배치되어 있다. 이 막 형성부 (30) 는, 유리 필름 (10) 의 표면 (10a) 상에 막 (11) 을 형성하기 위한 것이다.
막 형성부 (30) 는, 성막 방법에 따라 적절히 구성할 수 있다. 예를 들어, 유리 필름 (10) 의 표면 (10a) 상에 열 CVD (Chemical Vapor Deposition) 법에 의해 막 (11) 을 형성하는 경우에는, 막 형성부 (30) 를, 유리 필름 (10) 상에 있어서 열 반응하고, 막 (11) 을 구성하는 반응 가스를 공급하는 반응 가스 공급부에 의해 구성할 수 있다. 예를 들어, 유리 필름 (10) 의 표면 (10a) 상에 스퍼터링법에 의해 막 (11) 을 형성하는 경우에는, 막 형성부 (30) 를, 스퍼터 입자를 유리 필름 (10) 상에 퇴적시키는 스퍼터부에 의해 구성할 수 있다.
성막 장치 (1) 에는, 유리 필름 공급롤 (40) 과, 권취롤 (41) 이 형성되어 있다. 유리 필름 공급롤 (40) 은, 통상체 (21) 의 외주면 (21b) 상에 미성막 유리 필름 (10) 을 공급한다. 권취롤 (41) 은 유리 필름 (10) 과, 유리 필름 (10) 의 표면 (10a) 상에 형성된 막 (11) 을 구비하는 막 형성 유리 필름 (12) 을 감는다.
또, 성막 장치 (1) 에는 시트 공급롤 (42) 과, 시트 권취롤 (43) 이 추가로 형성되어 있다. 시트 공급롤 (42) 은, 통상체 (21) 의 외주면 (21b) 과 유리 필름 (10) 사이에 완충 필름 (44) 을 공급한다. 시트 권취롤 (43) 은, 통상체 (21) 의 외주면 (21b) 과 유리 필름 (10) 사이로부터 배출된 완충 필름 (44) 을 감는다.
완충 필름 (44) 은, 유리 필름 (10) 측의 표층의 경도가 유리 필름 (10) 의 경도보다 낮은 시트에 의해 구성되어 있다. 완충 필름 (44) 은, 예를 들어 알루미늄, 철, 구리 등 중 적어도 1 종의 금속에 의해 구성할 수 있다. 즉, 완충 필름 (44) 은, 금속 필름에 의해 구성할 수 있다.
이와 같이, 성막 장치 (1) 에서는, 유리 또는 세라믹스로 이루어지는 고경도의 통상체 (21) 와 유리 필름 (10) 사이에 완충 필름 (44) 이 공급된다. 이 때문에, 통상체 (21) 와 유리 필름 (10) 이 접촉함으로써 유리 필름 (10) 의 표면에 흠집이 생기는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.
또, 완충 필름 (44) 이 히터 (22) 로부터의 열선을 반사 또는 흡수시키는 것인 경우에는, 통상체 (21) 의 가열 효율을 보다 높일 수 있다.
완충 필름 (44) 의 두께는, 예를 들어 10 ㎛ ∼ 100 ㎛ 정도인 것이 바람직하다. 완충 필름 (44) 의 열팽창 계수는, 유리 필름의 열팽창 계수의 1 ∼ 10 배 정도인 것이 바람직하다.
다음으로, 성막 장치 (1) 를 사용하여 막 형성 유리 필름 (12) 을 제조하는 방법에 대하여 설명한다.
유리 필름 공급롤 (40) 로부터 통상체 (21) 의 외주면 (21b) 상에 유리 필름 (10) 이 공급된다. 유리 필름 (10) 과 통상체 (21) 의 외주면 (21b) 사이에는, 시트 공급롤 (42) 로부터 완충 필름 (44) 이 공급된다. 이로써, 통상체 (21) 와 유리 필름 (10) 의 접촉이 규제되고 있다.
유리 필름 (10) 및 완충 필름 (44) 의 공급에 수반하여, 통상체 (21) 는, 회전 롤 (25a, 25b) 에 의해 회전 구동된다. 이로써, 유리 필름 (10) 과 완충 필름 (44) 사이의 마찰, 완충 필름 (44) 과 통상체 (21) 사이의 마찰이 억제되고 있다.
통상체 (21) 의 외주면 (21b) 상에 공급된 유리 필름 (10) 은, 가열 롤 (20) 에 의해 가열된다. 구체적으로는, 히터 (22) 에 의해 통상체 (21) 가 가열되고, 그 가열된 통상체 (21) 에 의해 유리 필름 (10) 이, 성막에 바람직한 온도로까지 가열된다.
가열된 유리 필름 (10) 의 표면 (10a) 상에, 막 형성부 (30) 에 의해 스퍼터링법이나 열 CVD 법 등에 의해 막 (11) 이 형성되고, 막 형성 유리 필름 (12) 이 제작된다. 제작된 막 형성 유리 필름 (12) 은, 권취롤 (41) 에 의해 감긴다. 한편, 완충 필름 (44) 은, 권취롤 (43) 에 의해 감긴다. 또한, 막 형성 유리 필름 (12) 의 권취시에, 막 형성 유리 필름 (12) 과 함께 완충 필름 (44) 을 감도록 해도 된다. 또, 막 형성 유리 필름 (12) 과 함께, 완충 필름 (44) 과는 상이한, 예를 들어 종이나 수지 등으로 이루어지는 필름을 감도록 해도 된다. 그와 같이 함으로써, 막 형성 유리 필름 (12) 끼리가 접촉하는 것에서 기인하는 막 형성 유리 필름 (12) 의 손상을 억제할 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 본 실시형태에서는, 가열 롤 (20) 의 유리 필름 (10) 과 접촉하는 외주면이, 유리 또는 세라믹스로 이루어지는 통상체 (21) 에 의해 구성되어 있다. 이 때문에, 성막 분위기에 산소가 존재하고 있는 경우라 하더라도, 유리 필름 (10) 과 접촉하는 가열 롤 (20) 의 표면이 산화되지 않는다. 따라서, 유리 필름 (10) 의 가열 롤 (20) 측의 표면 형상의 변화를 억제할 수 있다. 또, 가열 롤 (20) 의 표면의 산화를 억제하는 수단을 별도로 형성할 필요가 없기 때문에, 성막 장치 (1) 의 구성을 간략화할 수 있어, 막 형성 유리 필름 (12) 의 제조 비용을 낮출 수 있다.
예를 들어, 캔을 사용한 경우에는, 캔을 성막에 적합한 온도로까지 승온시킬 때까지 장시간을 필요로 한다. 또, 열용량이 큰 캔을 고온으로 유지하기 위해서는, 다대한 에너지를 필요로 한다. 그에 반해, 본 실시형태에서는, 열용량이 작은 통상체 (21) 를 가열하면 충분하기 때문에, 가열 롤을 성막에 적합한 온도로까지 승온시키는 데에 필요로 하는 시간이 짧다. 또, 통상체 (21) 의 유리 필름 (10) 과 접하고 있는 부분만을 성막에 적합한 온도로 유지하면 되기 때문에, 에너지 효율적으로도 유리하다.
1 : 성막 장치
10 : 유리 필름
10a : 표면
11 : 막
12 : 막 형성 유리 필름
20 : 가열 롤
21 : 통상체
21a : 내주면
21b : 외주면
22 : 히터
23 : 심체
24 : 흡수층
25a, 25b : 회전 롤
30 : 막 형성부
40 : 유리 필름 공급롤
41 : 권취롤
42 : 시트 공급롤
43 : 시트 권취롤
44 : 완충 필름

Claims (11)

  1. 표면 상에 유리 필름이 공급되고, 상기 유리 필름을 가열하는 가열 롤과,
    상기 유리 필름 상에 막을 형성하는 막 형성부를 구비하고,
    상기 가열 롤은,
    유리 또는 세라믹스로 이루어지고, 회전 가능하게 형성된 통상체와,
    상기 통상체의 내부에 배치되어 있고, 상기 통상체를 가열하는 히터와,
    상기 통상체의 내부에 회전 불가능하게 배치된 심체를 갖고,
    상기 심체는 절결부를 갖고, 상기 히터는 상기 절결부 내에 상기 통상체의 내주면과 대향하도록 배치되는 성막 장치를 사용하여 유리 필름 상에 막을 형성하는, 막 형성 유리 필름의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 통상체는 석영 유리, 결정화 유리, 알루미나, 실리카, 질화규소 및 탄화규소로 이루어지는 군에서 선택된 적어도 1 종으로 이루어지는, 막 형성 유리 필름의 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 히터는, 상기 통상체를 향하여 열선을 조사하는, 막 형성 유리 필름의 제조 방법.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 통상체의 내주면 상에 배치되어 있고, 상기 히터로부터 조사되는 열선을 흡수하는 흡수층을 추가로 구비하는, 막 형성 유리 필름의 제조 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 막 형성부는, 상기 유리 필름 상에 있어서 열 반응하고, 막을 구성하는 반응 가스를 공급하는 반응 가스 공급부, 또는 스퍼터 입자를 상기 유리 필름 상에 퇴적시키는 스퍼터부에 의해 구성되어 있는, 막 형성 유리 필름의 제조 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 히터는, 상기 통상체의 상기 유리 필름과 접하는 부분을 가열하는, 막 형성 유리 필름의 제조 방법.
  7. 표면 상에 유리 필름이 공급되고, 상기 유리 필름을 가열하는 가열 롤과,
    상기 유리 필름 상에 막을 형성하는 막 형성부를 구비하고,
    상기 가열 롤은,
    유리 또는 세라믹스로 이루어지고, 회전 가능하게 형성된 통상체와,
    상기 통상체의 내부에 배치되어 있고, 상기 통상체를 가열하는 히터와,
    상기 통상체와 상기 유리 필름 사이에 상기 유리 필름측의 표층의 경도가 상기 유리 필름의 경도보다 낮은 시트를 공급하는 공급부를 갖는, 성막 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 시트는, 금속으로 이루어지는, 성막 장치.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    상기 시트의 열팽창 계수는, 상기 유리 필름의 열팽창 계수의 1 배 ∼ 10 배인, 성막 장치.
  10. 제 7 항에 기재된 성막 장치를 사용하여 유리 필름 상에 막을 형성하는, 막 형성 유리 필름의 제조 방법.
  11. 제 1 항 내지 제 6 항 및 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    열 CVD 법 또는 스퍼터링법에 의해 상기 막을 형성하는, 막 형성 유리 필름의 제조 방법.
KR1020147010381A 2011-12-16 2012-12-05 성막 장치 및 막 형성 유리 필름의 제조 방법 KR102022131B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011275510A JP5987312B2 (ja) 2011-12-16 2011-12-16 成膜装置及び膜付ガラスフィルムの製造方法
JPJP-P-2011-275510 2011-12-16
PCT/JP2012/081460 WO2013088998A1 (ja) 2011-12-16 2012-12-05 成膜装置及び膜付ガラスフィルムの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140105713A KR20140105713A (ko) 2014-09-02
KR102022131B1 true KR102022131B1 (ko) 2019-09-17

Family

ID=48612452

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020147010381A KR102022131B1 (ko) 2011-12-16 2012-12-05 성막 장치 및 막 형성 유리 필름의 제조 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9463998B2 (ko)
EP (1) EP2792767B1 (ko)
JP (1) JP5987312B2 (ko)
KR (1) KR102022131B1 (ko)
CN (1) CN103857824B (ko)
TW (1) TWI554482B (ko)
WO (1) WO2013088998A1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6252402B2 (ja) * 2014-08-18 2017-12-27 住友金属鉱山株式会社 加熱ロールおよびそれを備えた成膜装置
JP6662192B2 (ja) * 2015-12-25 2020-03-11 日本電気硝子株式会社 ガラスリボン成膜装置及びガラスリボン成膜方法
JP6546872B2 (ja) * 2016-04-07 2019-07-17 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 半導体装置の製造方法、基板処理装置、およびプログラム
JP6900767B2 (ja) * 2017-04-28 2021-07-07 日本電気硝子株式会社 ガラスロールの製造方法
JP7262703B2 (ja) 2019-06-11 2023-04-24 日本電気硝子株式会社 ガラスロールの製造方法
JP7305467B2 (ja) * 2019-07-04 2023-07-10 旭化成株式会社 ロール状長尺ガラスクロス、プリプレグ、及びプリント配線板

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002082559A (ja) 2000-06-22 2002-03-22 Ricoh Co Ltd 加熱ローラ及び加熱ローラの製造方法及び加熱装置及び定着装置及び画像形成装置
JP2007119322A (ja) * 2005-10-31 2007-05-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガラスロールおよびこれを用いた機能性膜付きガラス基板の製造方法

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59177364A (ja) 1983-03-24 1984-10-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 有機物蒸発方法とその装置
JPS63277750A (ja) * 1987-05-11 1988-11-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜形成方法
JPH01222050A (ja) 1988-02-29 1989-09-05 Hitachi Ltd 真空蒸着装置、磁気記緑媒体の製造方法および磁気記録媒体
JPH01240659A (ja) * 1988-03-18 1989-09-26 Hitachi Maxell Ltd 金属薄膜製造装置
ATE219725T1 (de) * 1997-10-24 2002-07-15 Agfa Gevaert Verbundscheibe mit einem dünnen borosilikatglassubstrat als eine bildende schicht
US6287674B1 (en) * 1997-10-24 2001-09-11 Agfa-Gevaert Laminate comprising a thin borosilicate glass substrate as a constituting layer
US20020142621A1 (en) * 1998-01-16 2002-10-03 Yuchung Wang Vapor phase deposition of uniform and ultrathin silances
EP0945254B1 (en) * 1998-03-17 2004-12-22 Chi Mei Optoelectronics Corporation Material comprising an anti-reflective coating on a flexible glass substrate
JP4326635B2 (ja) * 1999-09-29 2009-09-09 三菱樹脂株式会社 ガラスフィルムの取扱い方法及びガラス積層体
JP4933002B2 (ja) * 2001-07-26 2012-05-16 キヤノン株式会社 加熱定着装置および加熱用金属製スリーブ
JP2003161817A (ja) * 2001-08-07 2003-06-06 Konica Corp ハーフミラー膜形成方法およびハーフミラー膜を有する光学部品
US6903512B2 (en) 2001-08-07 2005-06-07 Konica Corporation Half mirror film producing method and optical element comprising a half mirror film
JP2004333616A (ja) * 2003-05-01 2004-11-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性樹脂転写装置および方法
US7387816B2 (en) * 2003-12-15 2008-06-17 Guardian Industries Corp. Scratch resistant coated glass article including layer(s) resistant to fluoride-based etchant(s), and method of making article using combustion CVD
WO2005109486A1 (en) * 2004-05-12 2005-11-17 Viatron Technologies Inc. System for heat treatment of semiconductor device
JP2006150707A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Seiko Epson Corp 透明基板、電気光学装置、画像形成装置及び電気光学装置の製造方法
JP4573673B2 (ja) * 2005-02-28 2010-11-04 富士フイルム株式会社 水蒸気バリアフィルム
US7362995B2 (en) * 2005-03-15 2008-04-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Fixing device
TW200633852A (en) * 2005-03-23 2006-10-01 Fuji Photo Film Co Ltd Apparatus for and method of manufacturing photosensitive laminated body
JP2006264020A (ja) * 2005-03-23 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 積層基板の製造方法及び装置
JP4640800B2 (ja) * 2005-06-22 2011-03-02 東京エレクトロン株式会社 被処理体の処理方法、処理装置、薄膜形成方法、薄膜形成装置及びプログラム
JP2007025237A (ja) * 2005-07-15 2007-02-01 Ricoh Co Ltd 定着装置及び画像形成装置
US20070125304A1 (en) * 2005-12-01 2007-06-07 Cardinal Cg Company Transport rollers
WO2007108445A1 (ja) 2006-03-20 2007-09-27 The Furukawa Electric Co., Ltd. 連続薄膜の形成方法及び薄膜付き線状ガラス基板
JP2008257946A (ja) * 2007-04-03 2008-10-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 加熱ユニットおよび加熱装置
RU2434079C2 (ru) 2007-05-14 2011-11-20 Улвак, Инк. Устройство пленочного конвейера и способ вакуумного осаждения с рулонной подачей и приемкой
KR101329633B1 (ko) * 2007-12-19 2013-11-14 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 글래스 기판의 제조 방법
US20110064958A1 (en) 2008-06-09 2011-03-17 Konica Minolta Holdings, Inc. Weather-resistance resin base material and optical element
JP5435267B2 (ja) * 2008-10-01 2014-03-05 日本電気硝子株式会社 ガラスロール、ガラスロールの製造装置、及びガラスロールの製造方法
TW201027769A (en) * 2008-10-28 2010-07-16 Solopower Inc Improved drum design for web processing
JP5510880B2 (ja) 2009-03-26 2014-06-04 日本電気硝子株式会社 ガラスフィルム積層体、該積層体のガラスロール、及びガラスロールの製造方法
CN102471128B (zh) 2009-08-07 2014-05-07 旭硝子株式会社 超薄板玻璃基板的制造方法
US20110030794A1 (en) 2009-08-10 2011-02-10 Edward Teng Apparatus And Method For Depositing A CIGS Layer
CN201999988U (zh) 2010-09-30 2011-10-05 亚树科技股份有限公司 可拆卸式进出气结构
TWI631019B (zh) * 2013-04-19 2018-08-01 美商康寧公司 形成積層玻璃結構之方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002082559A (ja) 2000-06-22 2002-03-22 Ricoh Co Ltd 加熱ローラ及び加熱ローラの製造方法及び加熱装置及び定着装置及び画像形成装置
JP2007119322A (ja) * 2005-10-31 2007-05-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd ガラスロールおよびこれを用いた機能性膜付きガラス基板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN103857824A (zh) 2014-06-11
TW201341331A (zh) 2013-10-16
KR20140105713A (ko) 2014-09-02
CN103857824B (zh) 2015-11-25
EP2792767A1 (en) 2014-10-22
JP5987312B2 (ja) 2016-09-07
US9463998B2 (en) 2016-10-11
WO2013088998A1 (ja) 2013-06-20
EP2792767B1 (en) 2016-05-18
TWI554482B (zh) 2016-10-21
US20140377461A1 (en) 2014-12-25
JP2013124413A (ja) 2013-06-24
EP2792767A4 (en) 2015-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102022131B1 (ko) 성막 장치 및 막 형성 유리 필름의 제조 방법
CN103402940B (zh) 用于获得提供有涂层的基材的方法
CN102898037B (zh) 沉积薄层的方法和获得的产品
JP6022935B2 (ja) 薄膜層堆積方法及び得られる製品
JP5964883B2 (ja) 薄膜層堆積方法及び得られる製品
KR20130041268A (ko) 코팅이 구비된 기판을 포함하는 재료의 생산 방법
KR20070085962A (ko) 글레이징 패널
JP2014524405A (ja) 熱処理が可能な低放射ガラス及びその製造方法
Wang et al. An ultrathin, nanogradient, and substrate‐independent WOx‐based film as a high performance flexible solar absorber
WO2006054730A1 (ja) 薄膜付きガラス板の製造方法
TW201425015A (zh) 紅外線反射性多層結構及其製法
KR20220107150A (ko) 광학막, 스퍼터링 타깃 및 광학막의 성막 방법
JP6422866B2 (ja) Ｍｏｃｖｄ反応炉の面状ヒータ用加熱エレメント
WO2016186130A1 (ja) 調光フィルムおよびその製造方法、ならびに調光素子
CN108603689B (zh) 太阳能集热管及其制造方法
JP4580636B2 (ja) 成膜装置および成膜方法
US9551507B2 (en) Process for producing an element for absorbing solar radiation for a thermal concentrating solar power plant
CN109790067A (zh) 用低辐射率涂层涂覆的基材
US20170022088A1 (en) Forming mandrel with diffusion layer for glass forming
JP5697309B2 (ja) 局在プラズモン共鳴センサの製造方法
CN109416201B (zh) 太阳能选择性涂层
CN108603693B (zh) 太阳能集热管
CN108603692B (zh) 太阳能集热管
Kumar et al. W/SS thin film as high temperature infrared reflector for solar thermal applications: intrinsic properties and impact of residual oxygen
WO2020158799A1 (ja) 調光フィルムおよびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant