JP2004263227A - 薄膜の形成方法及び形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】プルームを無駄なく効果的に使用することで、プルームの収率を向上させることができ、しかも、積層構造の酸化物超電導体薄膜を得る場合においても、成膜工程を短縮することができ、製造コストの低減を図ることができる薄膜の形成方法及び形成装置を提供する。
【解決手段】本発明の薄膜の形成方法は、レーザ光8a〜8cをターゲット7の表面に照射して、このターゲット7の構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させてプルーム55を生じさせ、このプルーム55内に薄膜積層体34を複数回通過させて、この通過毎に薄膜積層体34上にプルーム55に含まれる構成粒子を堆積させ、この薄膜積層体34上に積層構造の酸化物超電導体薄膜を成膜することを特徴とする。
【選択図】 図3
【解決手段】本発明の薄膜の形成方法は、レーザ光8a〜8cをターゲット7の表面に照射して、このターゲット7の構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させてプルーム55を生じさせ、このプルーム55内に薄膜積層体34を複数回通過させて、この通過毎に薄膜積層体34上にプルーム55に含まれる構成粒子を堆積させ、この薄膜積層体34上に積層構造の酸化物超電導体薄膜を成膜することを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜の形成方法及び形成装置に関し、更に詳しくは、レーザ光をターゲットに照射して、このターゲットの構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させ、この構成粒子を基材上に堆積させることにより、酸化物超電導体薄膜等の薄膜を形成する際に好適に用いられ、特に、帯状の基材を用いた長尺の線材の生産性の効率化及び特性改善を図ることが可能な薄膜の形成方法及び形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
酸化物超電導体を導電体として使用するためには、テープ状などの長尺の基材上に、結晶配向性の良好な酸化物超電導体の薄膜を形成する必要があるが、一般には、金属テープ自体が多結晶体でその結晶構造も酸化物超電導体と大きく異なるために、金属テープ上に直接、結晶配向性の良好な酸化物超電導体の薄膜を形成させることは難しい。そこで、ハステロイテープなどの金属テープからなる基材の上に、結晶配向性に優れたイットリウム安定化ジルコニア(YSZ)などの多結晶中間薄膜を形成し、この多結晶中間薄膜上に、臨界温度が約90Kで、液体窒素(77K)での磁場特性がBi系の酸化物超電導体より優れ、安定性にも優れたY1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体の薄膜を成膜する試みが行なわれており、この酸化物超電導体の薄膜を成膜するには、レーザ蒸着法による薄膜の形成方法が採用されている。
【0003】
ところで、従来のレーザ蒸着法による薄膜の形成方法では、レーザ光をターゲットの表面上の同一経路に沿って往復移動させることにより走査するため、長時間成膜を行うと、レーザ光に偏心が生じることとなり、その結果、ターゲットから叩き出された構成粒子の飛行する方向が偏ってしまい、構成粒子を多結晶中間薄膜上に均一に堆積させることができず、得られる薄膜の厚みや膜質や結晶配向性にバラツキが生じてしまい、臨界電流密度等の超電導特性が低下してしまう等の問題があった。そこで、本発明者等は、構成粒子を多結晶中間薄膜上に均一に堆積させることができるレーザ蒸着法による薄膜の形成方法として、レーザ光の走査を行う毎にターゲットを所定角度ずつ回転させる方法(例えば、特許文献1参照)、ターゲットをその中心軸を中心に回転させる回転運動と、ターゲットをその中心軸と交差する面に沿って移動させる並進運動を併用させる方法(例えば、特許文献2参照)等を提案している。
【0004】
【特許文献1】
特開2000−319096号公報
【特許文献2】
特開2000−319097号公報
【0005】
図5は、従来のレーザ蒸着法により酸化物超電導体の薄膜を形成するためのレーザ蒸着装置(薄膜の形成装置)の一例を示す図であり、レーザ光の走査を行う毎にターゲットを所定角度ずつ回転させる薄膜の形成方法を適用した例である。
このレーザ蒸着装置1は、基材の上に多結晶中間薄膜が形成されたテープ状の薄膜積層体2を収容する処理容器3と、この処理容器3内かつ薄膜積層体2の斜め上方に配置されターゲット支持部4に同軸的に設けられたホルダ回転用シャフト(回転軸)5を中心として回転するターゲットホルダ6と、このターゲットホルダ6に保持されるターゲット7にエキシマレーザ等のレーザ光8を照射するレーザ光発光装置(レーザ光発光手段)9とにより構成されている。
【0006】
この処理容器3には、排気孔11を介して真空排気装置12が接続され、この真空排気装置12により処理容器3内を所定の圧力に減圧するようになっている。また、この処理容器3の側壁には、レーザ光8を取り込むための透明窓13が設けられ、この処理容器3内の底部には薄膜積層体2を載置するための基台14が設けられている。この基台14の内部には薄膜積層体2を加熱するためのヒータ14aが内蔵され、上面に支持される薄膜積層体2を所定の温度に保持するようになっている。この基台14の一方側には薄膜積層体2を送り出すための送出装置15が設けられ、他方側には薄膜積層体2を巻き取るための巻取装置16が設けられている。
【0007】
レーザ光発光装置9は、エキシマレーザ等のレーザ光8を発光するレーザ発光部21と、第1のミラー22と、集光レンズ23と、第2のミラー24とにより構成され、レーザ発光部21から発光したレーザ光8を透明窓13を介してターゲット7に集光照射するようになっている。
ターゲット7は、薄膜積層体2上に配置されるもので、図6及び図7に示すように、その表面にレーザ光8が所定の角度で照射された場合に、このレーザ光8によって叩き出されるターゲット7の構成粒子により薄膜積層体2に向かう放射状のプルーム25が形成され、このプルーム25により、薄膜積層体2上に酸化物超電導体薄膜が形成されるようになっている。
このターゲット7の組成は、成膜しようとする酸化物超電導体の組成と同等か近似する組成のものであって、例えば、Y1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体材料を焼成してなる酸化物超電導体焼結体が用いられる。
また、ターゲット7の形状としては、薄膜積層体2の形状により様々な形状のものがあり、例えば、円形状、矩形状等である。
【0008】
このレーザ蒸着装置1を用いて薄膜積層体2上に、例えば、Y1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体の薄膜を成膜するには、ターゲット7としてY1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体焼結体を用い、ターゲット7が取り付けられたターゲットホルダ6を処理容器3内の所定位置に配置するとともに、薄膜積層体2をこの多結晶中間薄膜を上にして基台14上に配置し、この処理容器3内を真空排気装置12により所定の圧力に減圧し、その後、この薄膜積層体2を基台14に内蔵されたヒータ14aにより加熱し所定の温度に保持する。次いで、ターゲットホルダ6をホルダ回転用シャフト5を中心として回転させつつ、ターゲット支持部4に取り付けられたターゲット7にエキシマレーザ等のレーザ光8をその表面上で移動させることで走査する。
【0009】
ターゲット7では、その表面にレーザ光8が所定の角度で照射されると、このレーザ光8によって叩き出されるターゲット7の構成粒子は、薄膜積層体2に向かう放射状のプルーム25となり、このプルーム25により、薄膜積層体2の多結晶中間薄膜上にY1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体薄膜が堆積される。
この多結晶中間薄膜は、その結晶粒が予めc軸配向し、a軸とb軸でも配向するようにイオンビームアシスト法により成膜されているので、Y1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体の薄膜の結晶のc軸とa軸とb軸も多結晶中間薄膜の結晶に整合するようにエピタキシャル成長して結晶化する。これにより、結晶配向性を制御したY1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体薄膜が得られる。
このレーザ蒸着装置1を用いて薄膜の堆積を繰り返し行うことにより、所望の臨界電流Ic(A)を有する積層構造の酸化物超電導体薄膜が得られる。この場合、膜厚の増加に伴い最上層の温度が低下するために、成膜毎にヒータ14aの温度を数℃ずつ上げることで最上層の温度を常に一定に保持するようになっている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来のレーザ蒸着装置1においては、薄膜積層体2に向かう放射状のプルーム25内に、テープ状の薄膜積層体2を走行させる構成であるから、プルーム25の中心部が成膜に利用されるだけで、大部分が無駄になってしまうという問題点があった。
例えば、プルーム25の収率は、薄膜積層体2の幅にもよるが、概ね5%程度と非常に低く、生産性が低下し、製造コストが高くなる要因になっていた。
また、積層構造の酸化物超電導体薄膜を得るには、レーザ蒸着装置1を用いて複数回、成膜を行わなければならず、成膜工程に長時間を有し非効率である上に、製造コストが高くなるという問題点があった。
【0011】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、プルームを無駄なく効果的に使用することで、プルームの収率を向上させることができ、しかも、積層構造の酸化物超電導体薄膜を得る場合においても、成膜工程を短縮することができ、製造コストの低減を図ることができる薄膜の形成方法及び形成装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は次の様な薄膜の形成方法及び形成装置を採用した。
すなわち、請求項1記載の薄膜の形成方法は、レーザ光をターゲットの表面に照射して、このターゲットの構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させ、この構成粒子を帯状の基材上に堆積させることにより薄膜を形成する薄膜の形成方法であって、前記帯状の基材を前記構成粒子の堆積領域内を複数回通過させて、この通過毎に前記帯状の基材上に前記構成粒子を堆積させ、前記帯状の基材上に複数層からなる薄膜を成膜することを特徴とする。
【0013】
請求項2記載の薄膜の形成方法は、請求項1記載の薄膜の形成方法において、前記帯状の基材が前記堆積領域内を通過する毎に、この帯状の基材の温度を変化させることを特徴とする。
【0014】
請求項3記載の薄膜の形成方法は、請求項1または2記載の薄膜の形成方法において、前記ターゲットは、酸化物超電導体材料であり、前記薄膜は酸化物超電導体薄膜であることを特徴とする。
【0015】
請求項4記載の薄膜の形成装置は、帯状の基材を収容する処理容器と、該処理容器内かつ前記帯状の基材の上方に配置されるターゲットホルダと、該ターゲットホルダに保持されるターゲットにレーザ光を照射するレーザ光発光手段とを備え、前記レーザ光を前記ターゲットの表面に照射し、該ターゲットから叩き出され若しくは蒸発される構成粒子を前記帯状の基材上に堆積させる薄膜の形成装置であって、前記処理容器内に、前記帯状の基材を巻回して搬送する搬送手段を設け、該搬送手段は、前記帯状の基材を巻回する巻回部材を複数個同軸的に配列してなる巻回部材群を少なくとも一対、対向配置してなり、これら一対の巻回部材群に巻回された前記帯状の基材は、これらの巻回部材群を周回することにより、前記構成粒子の堆積領域内にて複数列とされることを特徴とする。
【0016】
請求項5記載の薄膜の形成装置は、請求項4記載の薄膜の形成装置において、前記処理容器内に、複数列の前記帯状の基材を加熱する加熱手段を設け、該加熱手段に、放散される熱量を複数列の前記帯状の基材の配列方向に沿って変化させる熱量変化手段を設けてなることを特徴とする。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明の薄膜の形成方法及び形成装置の一実施形態について図面に基づき説明する。本実施形態では、酸化物超電導体薄膜を例に取り説明することとするが、この酸化物超電導体薄膜は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【0018】
図1は、本実施形態の酸化物超電導体の薄膜の形成方法により得られた積層構造の酸化物超電導体薄膜を示す断面図であり、この積層構造の酸化物超電導体薄膜31は、金属テープ状(帯状)の基材32上にイオンビームアシストスパッタリング法等によりYSZの多結晶中間薄膜33が形成されてなる薄膜積層体34上に形成されている。
【0019】
この積層構造の酸化物超電導体薄膜31は、Y1Ba2Cu3Ox、Y2Ba4Cu8Ox、Y3Ba3Cu6Ox等のYBCO系酸化物超電導体、(Bi,Pb)2Ca2Sr2Cu3Ox、(Bi,Pb)2Ca2Sr3Cu4Ox等のBiCaSrCuO系酸化物超電導体、Tl2Ba2Ca2Cu3Ox、Tl1Ba2Ca2Cu3Ox、Tl1Ba2Ca3Cu4Ox等のTl系酸化物超電導体等、臨界温度(Tc)が90Kあるいはそれ以上の酸化物超電導体薄膜を複数層、例えば1〜10層(図1では、6層)積層してなる積層構造の薄膜である。
この薄膜31の各層の厚みは0.1〜0.5μm程度、この薄膜31の全体の厚みは1〜3μm程度が好ましく、しかも各層の面内均一性が極めて優れたものとなっている。
この酸化物超電導体薄膜31では、この薄膜31の各層の結晶のc軸とa軸とb軸は、多結晶中間薄膜33の結晶に整合するようにエピタキシャル成長して結晶化しており、結晶配向性が優れたものとなっている。
【0020】
基材32は、ステンレス鋼、銅、ハステロイ等のニッケル合金等、各種金属材料から適宜選択される長尺の金属テープが好適に用いられる。
この基材32の厚みは、0.01〜0.2mmが好ましく、さらに好ましくは0.05〜0.1mmである。その理由は、基材32の厚みが0.2mmを越えると、酸化物超電導体薄膜31の膜厚に比べて厚くなり、酸化物超電導体薄膜31と薄膜積層体34を含む全断面積あたりの臨界電流密度が低下してしまうからであり、一方、基材32の厚みが0.01mm未満では、基材32の強度が著しく低下し、酸化物超電導体薄膜31の補強効果が失われてしまうからである。
(作成者注:理由付けは0.01〜0.2mmについて行いました。)
【0021】
多結晶中間薄膜33は、イットリウム安定化ジルコニア(YSZ)、酸化マグネシウム(MgO)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3)等からなるもので、立方晶系の結晶構造を有する結晶の集合した微細な結晶粒が多数相互に結晶粒界を介して接合一体化されてなるものである。各結晶粒の結晶軸のc軸は基材32の上面(成膜面)に対してほぼ垂直に向けられ、各結晶粒の結晶軸のa軸同士およびb軸同士は、互いに同一方向に向けられて面内配向されている。
【0022】
この多結晶中間薄膜33の厚みは、0.5〜1μmが好ましい。その理由は、多結晶中間薄膜33の厚みが1μmを超えると、効果の増大が期待できず、経済的にも不利となるからであり、一方、多結晶中間薄膜33の厚みが0.5μm未満では、薄すぎて酸化物超電導体薄膜31を十分支持できない虞があるからである。
【0023】
図2は、上記の酸化物超電導体薄膜31を成膜するためのレーザ蒸着装置(薄膜の形成装置)を示す断面図、図3は同レーザ蒸着装置の搬送装置を示す斜視図、図4は図3のA−A線に沿う断面図であり、同レーザ蒸着装置の基板ホルダの構造を示す図である。
このレーザ蒸着装置41が、図5に示す従来のレーザ蒸着装置1と異なる点は、処理容器3内に、金属テープ状の基材32の表面に多結晶中間薄膜33が形成された薄膜積層体34を巻回し複数列とした状態で搬送する搬送装置(搬送手段)42を設け、この搬送装置42内に巻回により複数列とされた薄膜積層体34を支持する箱状の基板ホルダ(基台)43を設け、この基板ホルダ43内に複数列とした薄膜積層体34を加熱するための螺旋状のヒータ(加熱手段)44を設けた点である。
【0024】
搬送装置42は、薄膜積層体34を巻回するリール(巻回部材)51a〜51gを複数個(図3では7個)同軸的に配列したリール群(巻回部材群)51と、同様の構造のリール(巻回部材)52a〜52gを複数個(図3では7個)同軸的に配列したリール群(巻回部材群)52とが、各側面が互いに対向するように配置され、リール群51の外側には薄膜積層体34を送り出すための送出装置15が設けられ、リール群52の外側には薄膜積層体34を巻き取るための巻取装置16が設けられ、これらリール群51、52、送出装置15及び巻取装置16を駆動装置(図示せず)により互いに同期して駆動させることにより、送出装置15から所定の速度で送り出された薄膜積層体34がリール群51、52を周回し、巻取装置16に巻き取られるようになっている。
【0025】
基板ホルダ43の薄膜積層体34側の壁部43aは、その厚み(t)が、巻回により複数列とされた薄膜積層体34の配列方向に沿って、しかもその高温(H)側から低温(L)側に向かって厚みが漸次増加するように構成され、この壁部43aにより、ヒータ44より放散される熱を複数列とされた薄膜積層体34の配列方向に沿って変化させる熱量変化手段としての機能を有する。
この薄膜積層体34の壁部43aと反対側には、ターゲット7が配置され、このターゲット7には、レーザ発光部21を構成するエキシマレーザ53a(53b、53c)によりレーザ光8a(8b、8c)が照射されるようになっている。
【0026】
このターゲット7は、臨界温度(Tc)が90Kあるいはそれ以上の酸化物超電導体薄膜31を形成するために用いられるもので、この酸化物超電導体薄膜31と同等または近似した組成、あるいは、成膜中に逃避しやすい成分を多く含有させた複合酸化物の焼結体、あるいは酸化物超電導体などの板体等である。
この酸化物超電導体としては、Y1Ba2Cu3Ox、Y2Ba4Cu8Ox、Y3Ba3Cu6Ox等のYBCO系酸化物超電導体、(Bi,Pb)2Ca2Sr2Cu3Ox、(Bi,Pb)2Ca2Sr3Cu4Ox等のBiCaSrCuO系酸化物超電導体、Tl2Ba2Ca2Cu3Ox、Tl1Ba2Ca2Cu3Ox、Tl1Ba2Ca3Cu4Ox等のTl系酸化物超電導体等が好ましい。このターゲット7の形状としては、円板状のものが用いられる。
【0027】
このレーザ蒸着装置41では、エキシマレーザ53a(53b、53c)を動かさずに、ターゲットホルダ6をホルダ回転用シャフト5を中心として回転させつつ横移動(往復運動)させ、このエキシマレーザ53a(53b、53c)により出射されるレーザ光8a(8b、8c)をターゲット7に照射してレーザ蒸着する。
この場合、薄膜積層体34は、送出装置15から所定の速度で送り出され、リール群51、52に、リール51a、52a、51b、52b、…、51g、52gの順に巻回されて複数列とされ、巻取装置16に巻き取られるようになっているので、レーザ光8a(8b、8c)によりターゲット7から叩き出され若しくは蒸発される構成粒子はプルーム55となって、複数列とされた薄膜積層体34上の堆積領域を覆うこととなる。
【0028】
このように、このレーザ蒸着装置41を用いることで、プルーム55全体を有効利用することが可能になり、従来の様に、中心部が利用されるだけで、大部分が無駄になってしまうという問題点が解消されることとなる。
したがって、薄膜積層体34の蒸着領域では、プルーム55が薄膜積層体34の複数列全体を覆うことで、その収率が70%以上と大幅に向上することになる。したがって、生産性が向上し、製造コストの低減が可能になる。
これにより、プルーム55を無駄なく効果的に使用することで、プルーム55の収率を向上させることができ、成膜工程における生産性を向上させることができ、その結果、製造コストの低減を図ることができる。
【0029】
また、基板ホルダ43の薄膜積層体34側の壁部43aの厚み(t)を、薄膜積層体34の配列方向に沿って、しかもその高温(H)側から低温(L)側に向かって厚みが漸次増加するように構成したので、ヒータ44より放散される熱を薄膜積層体34の配列方向に沿って変化させることができ、したがって、成膜毎の温度変更をスムーズに行うことができる。
例えば、リールの間隔に対応して数℃ずつ温度が低下するように、高温(H)側から低温(L)側に向かって厚みを増加するようにすることで、各層の厚みが略一定となるような積層構造の酸化物超電導体薄膜31を成膜することができる。
【0030】
次に、このレーザ蒸着装置41を用いて薄膜積層体34の上にY1Ba2Cu3Oxの積層体からなる積層構造の酸化物超電導体薄膜31を形成する方法について、図1〜図4に基づき説明する。
ハステロイからなる基材32上にYSZからなる多結晶中間薄膜33が形成された薄膜積層体34を、多結晶中間薄膜33側がターゲット7側になるようにリール51a、52a、51b、52b、…、51g、52gに巻回する。また、ターゲットホルダ6のターゲット支持部4に、酸化物超電導体のターゲット7としてY1Ba2Cu3Oxからなる円板状のターゲットを固定具を用いて固定する。
【0031】
次いで、処理容器3内を真空排気装置12により所定の圧力に減圧する。ここで必要に応じて処理容器3内に酸素ガスを導入して処理容器3内を酸素雰囲気としても良い。
次いで、ターゲットホルダ6をホルダ回転用シャフト5を中心として回転させると共に、送出装置15、リール群51、52及び巻取装置16を同時に駆動し、薄膜積層体34を送出装置15から巻取装置16に向けて所定の速度にて移動させる。同時に、基板ホルダ43内のヒータ44を作動させてリール群51、52上の薄膜積層体34を加熱し、所望の温度に保持する。
【0032】
次いで、レーザ光発光装置9によりレーザ光8をターゲット7に照射する。この場合、レーザ光8によりターゲット7から叩き出され若しくは蒸発される構成粒子は、その放射方向の断面積が拡大したプルーム55となり、薄膜積層体34上の堆積領域を覆う。
ここでは、基板ホルダ43の壁部43aが高温(H)側から低温(L)側に向かって厚みが漸次増加するように構成されているので、薄膜積層体34がリール群51、52をリール51a、52a側からリール51g、52g側に向かって周回する間に、その上に酸化物超電導体からなる薄膜が順次成膜される。
これにより、薄膜積層体34上には、各層の厚みが略一定となるような積層構造の酸化物超電導体薄膜31が成膜される。
【0033】
このレーザ光8の照射エネルギーは200〜400mJの範囲であることが必要である。レーザ光8の照射エネルギーが200mJ未満であると、ターゲット7に与える熱エネルギーが小さすぎてターゲット7の構成粒子を十分に叩き出し若しくは蒸発させることができず、酸化物超電導体薄膜31の成膜速度が低下してしまい効率的でないからであり、また、レーザ光8の出力が400mJを越えると、ターゲット7に与えるエネルギーが大きすぎてターゲット7に割れが生じる虞があるからである。
【0034】
さらに、レーザ光8の照射周波数は10〜200Hzの範囲であることが必要である。レーザ光8の照射周波数が10Hz未満であると、照射出力を400mJとしても、ターゲット7に与えるエネルギーが小さすぎて、ターゲット7の構成粒子を十分に叩き出すことができず、酸化物超電導体薄膜31の成膜速度が低下してしまい効率的でないからであり、また、レーザ光8の照射周波数が200Hzを越えると、照射出力を200mJとしても、ターゲット7に与えるエネルギーが大きすぎてターゲット7に割れが生じる虞があるからである。
【0035】
このように、薄膜積層体34がリール群51、52をリール51a、52a側からリール51g、52g側に向かって周回する間に、プルーム55内を複数回通過することになる。プルーム55内を通過する毎に、酸化物超電導体からなる薄膜が順次成膜されるので、その結果、薄膜積層体34上に各層の厚みが略一定となるような積層構造の酸化物超電導体薄膜31が成膜される。
【0036】
このY1Ba2Cu3Oxからなる酸化物超電導体薄膜31では、プルーム55の収率が70%であった。一方、従来の方法における酸化物超電導体薄膜のプルームの収率は5%程度であるから、従来の方法に比べて、大幅に改善されていることが明らかとなった。
また、この酸化物超電導体薄膜31において、その臨界電流Ic(A)がほぼ誤差の範囲内となるような総線材作製長を調べたところ、約1km以上にも及んでいることが分かった。一方、上記と同様にして従来の単一ラインによる酸化物超電導体薄膜の総線材作製長を調べたところ高々100mであった。
【0037】
以上により、本実施形態の薄膜の形成方法により得られた酸化物超電導体薄膜31の総線材作製長は、従来の形成方法により得られた薄膜と比べて1桁以上も長くなっており、また、臨界電流Ic(A)も十分に安定したものであることが分かった。
【0038】
以上説明したように、本実施形態の薄膜の形成方法によれば、薄膜積層体34をプルーム55内を複数回通過させて、このプルーム55内を通過する毎に酸化物超電導体からなる薄膜を順次成膜することにより、薄膜積層体34上に積層構造の酸化物超電導体薄膜31を成膜するので、プルーム55全体を有効利用することができ、プルーム55の収率を大幅に向上させることができる。その結果、成膜工程における生産性を向上させることができ、製造コストの低減を図ることができる。
【0039】
また、薄膜積層体34をプルーム55内を複数回通過るので、総線材作製長を飛躍的に延伸させることができる。
また、プルーム55の断面積の大きさを変更することにより酸化物超電導体薄膜31の各層の成膜条件を変更した場合においても、積層構造全体の成膜レートは何等変わることがない。
【0040】
本実施形態のレーザ蒸着装置41によれば、処理容器3内に薄膜積層体34を巻回し複数列とした状態で搬送する搬送装置42を設け、基板ホルダ43内に複数列とした薄膜積層体34を加熱するための螺旋状のヒータ44を設け、基板ホルダ43の薄膜積層体34側の壁部43aの厚み(t)を、高温(H)側から低温(L)側に向かって漸次増加することとしたので、薄膜積層体34上に、各層の厚みが略一定となるような積層構造の酸化物超電導体薄膜31を効率良くしかも容易に成膜することができる。
【0041】
また、基板ホルダ43の薄膜積層体34側の壁部43aの厚み(t)を変化させるのみで、酸化物超電導体薄膜31の各層の成膜温度を調節することができるので、成膜毎に温度変更を行う必要がない。したがって、簡単な構成で成膜工程を大幅に短縮することができ、製造コストを大幅に低減することができる。
【0042】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の薄膜の形成方法によれば、帯状の基材を構成粒子の堆積領域内を複数回通過させて、この通過毎に前記帯状の基材上に前記構成粒子を堆積させ、前記帯状の基材上に複数層からなる薄膜を成膜するので、プルーム全体を無駄なく効果的に利用することができ、プルームの収率を大幅に向上させることができる。その結果、成膜工程における生産性を向上させることができ、製造コストの低減を図ることができる。
【0043】
本発明の薄膜の形成装置によれば、処理容器内に、帯状の基材を巻回して搬送する搬送手段を設け、該搬送手段を、前記帯状の基材を巻回する巻回部材を複数個同軸的に配列してなる巻回部材群を少なくとも一対、対向配置したものとし、前記帯状の基材を、これらの巻回部材群を周回することにより、構成粒子の堆積領域内にて複数列とする構成としたので、帯状の基材上に、各層の厚みが略一定となるような複数層からなる薄膜を効率良くしかも容易に成膜することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の酸化物超電導体薄膜を示す断面図である。
【図2】本発明の一実施形態のレーザ蒸着装置を示す断面図である。
【図3】本発明の一実施形態のレーザ蒸着装置の搬送装置を示す斜視図である。
【図4】図3のA−A線に沿う断面図である。
【図5】従来のレーザ蒸着装置を示す断面図である。
【図6】従来のレーザ蒸着装置の要部を示す斜視図である。
【図7】従来のレーザ蒸着装置のプルームの形状を示す側面図である。
【符号の説明】
3…処理容器、5…ホルダ回転用シャフト(回転軸)、7…ターゲット、8…レーザ光、31…酸化物超電導体薄膜、32…基材、33…多結晶中間薄膜、34…薄膜積層体、41…レーザ蒸着装置(薄膜の形成装置)、42…搬送装置(搬送手段)、43…基板ホルダ(基台)、43a…壁部、44…ヒータ(加熱手段)、51、52…リール群(巻回部材群)、51a〜51g、52a〜52g…リール(巻回部材)、55…プルーム。
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄膜の形成方法及び形成装置に関し、更に詳しくは、レーザ光をターゲットに照射して、このターゲットの構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させ、この構成粒子を基材上に堆積させることにより、酸化物超電導体薄膜等の薄膜を形成する際に好適に用いられ、特に、帯状の基材を用いた長尺の線材の生産性の効率化及び特性改善を図ることが可能な薄膜の形成方法及び形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
酸化物超電導体を導電体として使用するためには、テープ状などの長尺の基材上に、結晶配向性の良好な酸化物超電導体の薄膜を形成する必要があるが、一般には、金属テープ自体が多結晶体でその結晶構造も酸化物超電導体と大きく異なるために、金属テープ上に直接、結晶配向性の良好な酸化物超電導体の薄膜を形成させることは難しい。そこで、ハステロイテープなどの金属テープからなる基材の上に、結晶配向性に優れたイットリウム安定化ジルコニア(YSZ)などの多結晶中間薄膜を形成し、この多結晶中間薄膜上に、臨界温度が約90Kで、液体窒素(77K)での磁場特性がBi系の酸化物超電導体より優れ、安定性にも優れたY1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体の薄膜を成膜する試みが行なわれており、この酸化物超電導体の薄膜を成膜するには、レーザ蒸着法による薄膜の形成方法が採用されている。
【0003】
ところで、従来のレーザ蒸着法による薄膜の形成方法では、レーザ光をターゲットの表面上の同一経路に沿って往復移動させることにより走査するため、長時間成膜を行うと、レーザ光に偏心が生じることとなり、その結果、ターゲットから叩き出された構成粒子の飛行する方向が偏ってしまい、構成粒子を多結晶中間薄膜上に均一に堆積させることができず、得られる薄膜の厚みや膜質や結晶配向性にバラツキが生じてしまい、臨界電流密度等の超電導特性が低下してしまう等の問題があった。そこで、本発明者等は、構成粒子を多結晶中間薄膜上に均一に堆積させることができるレーザ蒸着法による薄膜の形成方法として、レーザ光の走査を行う毎にターゲットを所定角度ずつ回転させる方法(例えば、特許文献1参照)、ターゲットをその中心軸を中心に回転させる回転運動と、ターゲットをその中心軸と交差する面に沿って移動させる並進運動を併用させる方法(例えば、特許文献2参照)等を提案している。
【0004】
【特許文献1】
特開2000−319096号公報
【特許文献2】
特開2000−319097号公報
【0005】
図5は、従来のレーザ蒸着法により酸化物超電導体の薄膜を形成するためのレーザ蒸着装置(薄膜の形成装置)の一例を示す図であり、レーザ光の走査を行う毎にターゲットを所定角度ずつ回転させる薄膜の形成方法を適用した例である。
このレーザ蒸着装置1は、基材の上に多結晶中間薄膜が形成されたテープ状の薄膜積層体2を収容する処理容器3と、この処理容器3内かつ薄膜積層体2の斜め上方に配置されターゲット支持部4に同軸的に設けられたホルダ回転用シャフト(回転軸)5を中心として回転するターゲットホルダ6と、このターゲットホルダ6に保持されるターゲット7にエキシマレーザ等のレーザ光8を照射するレーザ光発光装置(レーザ光発光手段)9とにより構成されている。
【0006】
この処理容器3には、排気孔11を介して真空排気装置12が接続され、この真空排気装置12により処理容器3内を所定の圧力に減圧するようになっている。また、この処理容器3の側壁には、レーザ光8を取り込むための透明窓13が設けられ、この処理容器3内の底部には薄膜積層体2を載置するための基台14が設けられている。この基台14の内部には薄膜積層体2を加熱するためのヒータ14aが内蔵され、上面に支持される薄膜積層体2を所定の温度に保持するようになっている。この基台14の一方側には薄膜積層体2を送り出すための送出装置15が設けられ、他方側には薄膜積層体2を巻き取るための巻取装置16が設けられている。
【0007】
レーザ光発光装置9は、エキシマレーザ等のレーザ光8を発光するレーザ発光部21と、第1のミラー22と、集光レンズ23と、第2のミラー24とにより構成され、レーザ発光部21から発光したレーザ光8を透明窓13を介してターゲット7に集光照射するようになっている。
ターゲット7は、薄膜積層体2上に配置されるもので、図6及び図7に示すように、その表面にレーザ光8が所定の角度で照射された場合に、このレーザ光8によって叩き出されるターゲット7の構成粒子により薄膜積層体2に向かう放射状のプルーム25が形成され、このプルーム25により、薄膜積層体2上に酸化物超電導体薄膜が形成されるようになっている。
このターゲット7の組成は、成膜しようとする酸化物超電導体の組成と同等か近似する組成のものであって、例えば、Y1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体材料を焼成してなる酸化物超電導体焼結体が用いられる。
また、ターゲット7の形状としては、薄膜積層体2の形状により様々な形状のものがあり、例えば、円形状、矩形状等である。
【0008】
このレーザ蒸着装置1を用いて薄膜積層体2上に、例えば、Y1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体の薄膜を成膜するには、ターゲット7としてY1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体焼結体を用い、ターゲット7が取り付けられたターゲットホルダ6を処理容器3内の所定位置に配置するとともに、薄膜積層体2をこの多結晶中間薄膜を上にして基台14上に配置し、この処理容器3内を真空排気装置12により所定の圧力に減圧し、その後、この薄膜積層体2を基台14に内蔵されたヒータ14aにより加熱し所定の温度に保持する。次いで、ターゲットホルダ6をホルダ回転用シャフト5を中心として回転させつつ、ターゲット支持部4に取り付けられたターゲット7にエキシマレーザ等のレーザ光8をその表面上で移動させることで走査する。
【0009】
ターゲット7では、その表面にレーザ光8が所定の角度で照射されると、このレーザ光8によって叩き出されるターゲット7の構成粒子は、薄膜積層体2に向かう放射状のプルーム25となり、このプルーム25により、薄膜積層体2の多結晶中間薄膜上にY1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体薄膜が堆積される。
この多結晶中間薄膜は、その結晶粒が予めc軸配向し、a軸とb軸でも配向するようにイオンビームアシスト法により成膜されているので、Y1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体の薄膜の結晶のc軸とa軸とb軸も多結晶中間薄膜の結晶に整合するようにエピタキシャル成長して結晶化する。これにより、結晶配向性を制御したY1Ba2Cu3Ox系の酸化物超電導体薄膜が得られる。
このレーザ蒸着装置1を用いて薄膜の堆積を繰り返し行うことにより、所望の臨界電流Ic(A)を有する積層構造の酸化物超電導体薄膜が得られる。この場合、膜厚の増加に伴い最上層の温度が低下するために、成膜毎にヒータ14aの温度を数℃ずつ上げることで最上層の温度を常に一定に保持するようになっている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述した従来のレーザ蒸着装置1においては、薄膜積層体2に向かう放射状のプルーム25内に、テープ状の薄膜積層体2を走行させる構成であるから、プルーム25の中心部が成膜に利用されるだけで、大部分が無駄になってしまうという問題点があった。
例えば、プルーム25の収率は、薄膜積層体2の幅にもよるが、概ね5%程度と非常に低く、生産性が低下し、製造コストが高くなる要因になっていた。
また、積層構造の酸化物超電導体薄膜を得るには、レーザ蒸着装置1を用いて複数回、成膜を行わなければならず、成膜工程に長時間を有し非効率である上に、製造コストが高くなるという問題点があった。
【0011】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、プルームを無駄なく効果的に使用することで、プルームの収率を向上させることができ、しかも、積層構造の酸化物超電導体薄膜を得る場合においても、成膜工程を短縮することができ、製造コストの低減を図ることができる薄膜の形成方法及び形成装置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は次の様な薄膜の形成方法及び形成装置を採用した。
すなわち、請求項1記載の薄膜の形成方法は、レーザ光をターゲットの表面に照射して、このターゲットの構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させ、この構成粒子を帯状の基材上に堆積させることにより薄膜を形成する薄膜の形成方法であって、前記帯状の基材を前記構成粒子の堆積領域内を複数回通過させて、この通過毎に前記帯状の基材上に前記構成粒子を堆積させ、前記帯状の基材上に複数層からなる薄膜を成膜することを特徴とする。
【0013】
請求項2記載の薄膜の形成方法は、請求項1記載の薄膜の形成方法において、前記帯状の基材が前記堆積領域内を通過する毎に、この帯状の基材の温度を変化させることを特徴とする。
【0014】
請求項3記載の薄膜の形成方法は、請求項1または2記載の薄膜の形成方法において、前記ターゲットは、酸化物超電導体材料であり、前記薄膜は酸化物超電導体薄膜であることを特徴とする。
【0015】
請求項4記載の薄膜の形成装置は、帯状の基材を収容する処理容器と、該処理容器内かつ前記帯状の基材の上方に配置されるターゲットホルダと、該ターゲットホルダに保持されるターゲットにレーザ光を照射するレーザ光発光手段とを備え、前記レーザ光を前記ターゲットの表面に照射し、該ターゲットから叩き出され若しくは蒸発される構成粒子を前記帯状の基材上に堆積させる薄膜の形成装置であって、前記処理容器内に、前記帯状の基材を巻回して搬送する搬送手段を設け、該搬送手段は、前記帯状の基材を巻回する巻回部材を複数個同軸的に配列してなる巻回部材群を少なくとも一対、対向配置してなり、これら一対の巻回部材群に巻回された前記帯状の基材は、これらの巻回部材群を周回することにより、前記構成粒子の堆積領域内にて複数列とされることを特徴とする。
【0016】
請求項5記載の薄膜の形成装置は、請求項4記載の薄膜の形成装置において、前記処理容器内に、複数列の前記帯状の基材を加熱する加熱手段を設け、該加熱手段に、放散される熱量を複数列の前記帯状の基材の配列方向に沿って変化させる熱量変化手段を設けてなることを特徴とする。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明の薄膜の形成方法及び形成装置の一実施形態について図面に基づき説明する。本実施形態では、酸化物超電導体薄膜を例に取り説明することとするが、この酸化物超電導体薄膜は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【0018】
図1は、本実施形態の酸化物超電導体の薄膜の形成方法により得られた積層構造の酸化物超電導体薄膜を示す断面図であり、この積層構造の酸化物超電導体薄膜31は、金属テープ状(帯状)の基材32上にイオンビームアシストスパッタリング法等によりYSZの多結晶中間薄膜33が形成されてなる薄膜積層体34上に形成されている。
【0019】
この積層構造の酸化物超電導体薄膜31は、Y1Ba2Cu3Ox、Y2Ba4Cu8Ox、Y3Ba3Cu6Ox等のYBCO系酸化物超電導体、(Bi,Pb)2Ca2Sr2Cu3Ox、(Bi,Pb)2Ca2Sr3Cu4Ox等のBiCaSrCuO系酸化物超電導体、Tl2Ba2Ca2Cu3Ox、Tl1Ba2Ca2Cu3Ox、Tl1Ba2Ca3Cu4Ox等のTl系酸化物超電導体等、臨界温度(Tc)が90Kあるいはそれ以上の酸化物超電導体薄膜を複数層、例えば1〜10層(図1では、6層)積層してなる積層構造の薄膜である。
この薄膜31の各層の厚みは0.1〜0.5μm程度、この薄膜31の全体の厚みは1〜3μm程度が好ましく、しかも各層の面内均一性が極めて優れたものとなっている。
この酸化物超電導体薄膜31では、この薄膜31の各層の結晶のc軸とa軸とb軸は、多結晶中間薄膜33の結晶に整合するようにエピタキシャル成長して結晶化しており、結晶配向性が優れたものとなっている。
【0020】
基材32は、ステンレス鋼、銅、ハステロイ等のニッケル合金等、各種金属材料から適宜選択される長尺の金属テープが好適に用いられる。
この基材32の厚みは、0.01〜0.2mmが好ましく、さらに好ましくは0.05〜0.1mmである。その理由は、基材32の厚みが0.2mmを越えると、酸化物超電導体薄膜31の膜厚に比べて厚くなり、酸化物超電導体薄膜31と薄膜積層体34を含む全断面積あたりの臨界電流密度が低下してしまうからであり、一方、基材32の厚みが0.01mm未満では、基材32の強度が著しく低下し、酸化物超電導体薄膜31の補強効果が失われてしまうからである。
(作成者注:理由付けは0.01〜0.2mmについて行いました。)
【0021】
多結晶中間薄膜33は、イットリウム安定化ジルコニア(YSZ)、酸化マグネシウム(MgO)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO3)等からなるもので、立方晶系の結晶構造を有する結晶の集合した微細な結晶粒が多数相互に結晶粒界を介して接合一体化されてなるものである。各結晶粒の結晶軸のc軸は基材32の上面(成膜面)に対してほぼ垂直に向けられ、各結晶粒の結晶軸のa軸同士およびb軸同士は、互いに同一方向に向けられて面内配向されている。
【0022】
この多結晶中間薄膜33の厚みは、0.5〜1μmが好ましい。その理由は、多結晶中間薄膜33の厚みが1μmを超えると、効果の増大が期待できず、経済的にも不利となるからであり、一方、多結晶中間薄膜33の厚みが0.5μm未満では、薄すぎて酸化物超電導体薄膜31を十分支持できない虞があるからである。
【0023】
図2は、上記の酸化物超電導体薄膜31を成膜するためのレーザ蒸着装置(薄膜の形成装置)を示す断面図、図3は同レーザ蒸着装置の搬送装置を示す斜視図、図4は図3のA−A線に沿う断面図であり、同レーザ蒸着装置の基板ホルダの構造を示す図である。
このレーザ蒸着装置41が、図5に示す従来のレーザ蒸着装置1と異なる点は、処理容器3内に、金属テープ状の基材32の表面に多結晶中間薄膜33が形成された薄膜積層体34を巻回し複数列とした状態で搬送する搬送装置(搬送手段)42を設け、この搬送装置42内に巻回により複数列とされた薄膜積層体34を支持する箱状の基板ホルダ(基台)43を設け、この基板ホルダ43内に複数列とした薄膜積層体34を加熱するための螺旋状のヒータ(加熱手段)44を設けた点である。
【0024】
搬送装置42は、薄膜積層体34を巻回するリール(巻回部材)51a〜51gを複数個(図3では7個)同軸的に配列したリール群(巻回部材群)51と、同様の構造のリール(巻回部材)52a〜52gを複数個(図3では7個)同軸的に配列したリール群(巻回部材群)52とが、各側面が互いに対向するように配置され、リール群51の外側には薄膜積層体34を送り出すための送出装置15が設けられ、リール群52の外側には薄膜積層体34を巻き取るための巻取装置16が設けられ、これらリール群51、52、送出装置15及び巻取装置16を駆動装置(図示せず)により互いに同期して駆動させることにより、送出装置15から所定の速度で送り出された薄膜積層体34がリール群51、52を周回し、巻取装置16に巻き取られるようになっている。
【0025】
基板ホルダ43の薄膜積層体34側の壁部43aは、その厚み(t)が、巻回により複数列とされた薄膜積層体34の配列方向に沿って、しかもその高温(H)側から低温(L)側に向かって厚みが漸次増加するように構成され、この壁部43aにより、ヒータ44より放散される熱を複数列とされた薄膜積層体34の配列方向に沿って変化させる熱量変化手段としての機能を有する。
この薄膜積層体34の壁部43aと反対側には、ターゲット7が配置され、このターゲット7には、レーザ発光部21を構成するエキシマレーザ53a(53b、53c)によりレーザ光8a(8b、8c)が照射されるようになっている。
【0026】
このターゲット7は、臨界温度(Tc)が90Kあるいはそれ以上の酸化物超電導体薄膜31を形成するために用いられるもので、この酸化物超電導体薄膜31と同等または近似した組成、あるいは、成膜中に逃避しやすい成分を多く含有させた複合酸化物の焼結体、あるいは酸化物超電導体などの板体等である。
この酸化物超電導体としては、Y1Ba2Cu3Ox、Y2Ba4Cu8Ox、Y3Ba3Cu6Ox等のYBCO系酸化物超電導体、(Bi,Pb)2Ca2Sr2Cu3Ox、(Bi,Pb)2Ca2Sr3Cu4Ox等のBiCaSrCuO系酸化物超電導体、Tl2Ba2Ca2Cu3Ox、Tl1Ba2Ca2Cu3Ox、Tl1Ba2Ca3Cu4Ox等のTl系酸化物超電導体等が好ましい。このターゲット7の形状としては、円板状のものが用いられる。
【0027】
このレーザ蒸着装置41では、エキシマレーザ53a(53b、53c)を動かさずに、ターゲットホルダ6をホルダ回転用シャフト5を中心として回転させつつ横移動(往復運動)させ、このエキシマレーザ53a(53b、53c)により出射されるレーザ光8a(8b、8c)をターゲット7に照射してレーザ蒸着する。
この場合、薄膜積層体34は、送出装置15から所定の速度で送り出され、リール群51、52に、リール51a、52a、51b、52b、…、51g、52gの順に巻回されて複数列とされ、巻取装置16に巻き取られるようになっているので、レーザ光8a(8b、8c)によりターゲット7から叩き出され若しくは蒸発される構成粒子はプルーム55となって、複数列とされた薄膜積層体34上の堆積領域を覆うこととなる。
【0028】
このように、このレーザ蒸着装置41を用いることで、プルーム55全体を有効利用することが可能になり、従来の様に、中心部が利用されるだけで、大部分が無駄になってしまうという問題点が解消されることとなる。
したがって、薄膜積層体34の蒸着領域では、プルーム55が薄膜積層体34の複数列全体を覆うことで、その収率が70%以上と大幅に向上することになる。したがって、生産性が向上し、製造コストの低減が可能になる。
これにより、プルーム55を無駄なく効果的に使用することで、プルーム55の収率を向上させることができ、成膜工程における生産性を向上させることができ、その結果、製造コストの低減を図ることができる。
【0029】
また、基板ホルダ43の薄膜積層体34側の壁部43aの厚み(t)を、薄膜積層体34の配列方向に沿って、しかもその高温(H)側から低温(L)側に向かって厚みが漸次増加するように構成したので、ヒータ44より放散される熱を薄膜積層体34の配列方向に沿って変化させることができ、したがって、成膜毎の温度変更をスムーズに行うことができる。
例えば、リールの間隔に対応して数℃ずつ温度が低下するように、高温(H)側から低温(L)側に向かって厚みを増加するようにすることで、各層の厚みが略一定となるような積層構造の酸化物超電導体薄膜31を成膜することができる。
【0030】
次に、このレーザ蒸着装置41を用いて薄膜積層体34の上にY1Ba2Cu3Oxの積層体からなる積層構造の酸化物超電導体薄膜31を形成する方法について、図1〜図4に基づき説明する。
ハステロイからなる基材32上にYSZからなる多結晶中間薄膜33が形成された薄膜積層体34を、多結晶中間薄膜33側がターゲット7側になるようにリール51a、52a、51b、52b、…、51g、52gに巻回する。また、ターゲットホルダ6のターゲット支持部4に、酸化物超電導体のターゲット7としてY1Ba2Cu3Oxからなる円板状のターゲットを固定具を用いて固定する。
【0031】
次いで、処理容器3内を真空排気装置12により所定の圧力に減圧する。ここで必要に応じて処理容器3内に酸素ガスを導入して処理容器3内を酸素雰囲気としても良い。
次いで、ターゲットホルダ6をホルダ回転用シャフト5を中心として回転させると共に、送出装置15、リール群51、52及び巻取装置16を同時に駆動し、薄膜積層体34を送出装置15から巻取装置16に向けて所定の速度にて移動させる。同時に、基板ホルダ43内のヒータ44を作動させてリール群51、52上の薄膜積層体34を加熱し、所望の温度に保持する。
【0032】
次いで、レーザ光発光装置9によりレーザ光8をターゲット7に照射する。この場合、レーザ光8によりターゲット7から叩き出され若しくは蒸発される構成粒子は、その放射方向の断面積が拡大したプルーム55となり、薄膜積層体34上の堆積領域を覆う。
ここでは、基板ホルダ43の壁部43aが高温(H)側から低温(L)側に向かって厚みが漸次増加するように構成されているので、薄膜積層体34がリール群51、52をリール51a、52a側からリール51g、52g側に向かって周回する間に、その上に酸化物超電導体からなる薄膜が順次成膜される。
これにより、薄膜積層体34上には、各層の厚みが略一定となるような積層構造の酸化物超電導体薄膜31が成膜される。
【0033】
このレーザ光8の照射エネルギーは200〜400mJの範囲であることが必要である。レーザ光8の照射エネルギーが200mJ未満であると、ターゲット7に与える熱エネルギーが小さすぎてターゲット7の構成粒子を十分に叩き出し若しくは蒸発させることができず、酸化物超電導体薄膜31の成膜速度が低下してしまい効率的でないからであり、また、レーザ光8の出力が400mJを越えると、ターゲット7に与えるエネルギーが大きすぎてターゲット7に割れが生じる虞があるからである。
【0034】
さらに、レーザ光8の照射周波数は10〜200Hzの範囲であることが必要である。レーザ光8の照射周波数が10Hz未満であると、照射出力を400mJとしても、ターゲット7に与えるエネルギーが小さすぎて、ターゲット7の構成粒子を十分に叩き出すことができず、酸化物超電導体薄膜31の成膜速度が低下してしまい効率的でないからであり、また、レーザ光8の照射周波数が200Hzを越えると、照射出力を200mJとしても、ターゲット7に与えるエネルギーが大きすぎてターゲット7に割れが生じる虞があるからである。
【0035】
このように、薄膜積層体34がリール群51、52をリール51a、52a側からリール51g、52g側に向かって周回する間に、プルーム55内を複数回通過することになる。プルーム55内を通過する毎に、酸化物超電導体からなる薄膜が順次成膜されるので、その結果、薄膜積層体34上に各層の厚みが略一定となるような積層構造の酸化物超電導体薄膜31が成膜される。
【0036】
このY1Ba2Cu3Oxからなる酸化物超電導体薄膜31では、プルーム55の収率が70%であった。一方、従来の方法における酸化物超電導体薄膜のプルームの収率は5%程度であるから、従来の方法に比べて、大幅に改善されていることが明らかとなった。
また、この酸化物超電導体薄膜31において、その臨界電流Ic(A)がほぼ誤差の範囲内となるような総線材作製長を調べたところ、約1km以上にも及んでいることが分かった。一方、上記と同様にして従来の単一ラインによる酸化物超電導体薄膜の総線材作製長を調べたところ高々100mであった。
【0037】
以上により、本実施形態の薄膜の形成方法により得られた酸化物超電導体薄膜31の総線材作製長は、従来の形成方法により得られた薄膜と比べて1桁以上も長くなっており、また、臨界電流Ic(A)も十分に安定したものであることが分かった。
【0038】
以上説明したように、本実施形態の薄膜の形成方法によれば、薄膜積層体34をプルーム55内を複数回通過させて、このプルーム55内を通過する毎に酸化物超電導体からなる薄膜を順次成膜することにより、薄膜積層体34上に積層構造の酸化物超電導体薄膜31を成膜するので、プルーム55全体を有効利用することができ、プルーム55の収率を大幅に向上させることができる。その結果、成膜工程における生産性を向上させることができ、製造コストの低減を図ることができる。
【0039】
また、薄膜積層体34をプルーム55内を複数回通過るので、総線材作製長を飛躍的に延伸させることができる。
また、プルーム55の断面積の大きさを変更することにより酸化物超電導体薄膜31の各層の成膜条件を変更した場合においても、積層構造全体の成膜レートは何等変わることがない。
【0040】
本実施形態のレーザ蒸着装置41によれば、処理容器3内に薄膜積層体34を巻回し複数列とした状態で搬送する搬送装置42を設け、基板ホルダ43内に複数列とした薄膜積層体34を加熱するための螺旋状のヒータ44を設け、基板ホルダ43の薄膜積層体34側の壁部43aの厚み(t)を、高温(H)側から低温(L)側に向かって漸次増加することとしたので、薄膜積層体34上に、各層の厚みが略一定となるような積層構造の酸化物超電導体薄膜31を効率良くしかも容易に成膜することができる。
【0041】
また、基板ホルダ43の薄膜積層体34側の壁部43aの厚み(t)を変化させるのみで、酸化物超電導体薄膜31の各層の成膜温度を調節することができるので、成膜毎に温度変更を行う必要がない。したがって、簡単な構成で成膜工程を大幅に短縮することができ、製造コストを大幅に低減することができる。
【0042】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の薄膜の形成方法によれば、帯状の基材を構成粒子の堆積領域内を複数回通過させて、この通過毎に前記帯状の基材上に前記構成粒子を堆積させ、前記帯状の基材上に複数層からなる薄膜を成膜するので、プルーム全体を無駄なく効果的に利用することができ、プルームの収率を大幅に向上させることができる。その結果、成膜工程における生産性を向上させることができ、製造コストの低減を図ることができる。
【0043】
本発明の薄膜の形成装置によれば、処理容器内に、帯状の基材を巻回して搬送する搬送手段を設け、該搬送手段を、前記帯状の基材を巻回する巻回部材を複数個同軸的に配列してなる巻回部材群を少なくとも一対、対向配置したものとし、前記帯状の基材を、これらの巻回部材群を周回することにより、構成粒子の堆積領域内にて複数列とする構成としたので、帯状の基材上に、各層の厚みが略一定となるような複数層からなる薄膜を効率良くしかも容易に成膜することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の酸化物超電導体薄膜を示す断面図である。
【図2】本発明の一実施形態のレーザ蒸着装置を示す断面図である。
【図3】本発明の一実施形態のレーザ蒸着装置の搬送装置を示す斜視図である。
【図4】図3のA−A線に沿う断面図である。
【図5】従来のレーザ蒸着装置を示す断面図である。
【図6】従来のレーザ蒸着装置の要部を示す斜視図である。
【図7】従来のレーザ蒸着装置のプルームの形状を示す側面図である。
【符号の説明】
3…処理容器、5…ホルダ回転用シャフト(回転軸)、7…ターゲット、8…レーザ光、31…酸化物超電導体薄膜、32…基材、33…多結晶中間薄膜、34…薄膜積層体、41…レーザ蒸着装置(薄膜の形成装置)、42…搬送装置(搬送手段)、43…基板ホルダ(基台)、43a…壁部、44…ヒータ(加熱手段)、51、52…リール群(巻回部材群)、51a〜51g、52a〜52g…リール(巻回部材)、55…プルーム。
Claims (5)
- レーザ光をターゲットの表面に照射して、このターゲットの構成粒子を叩き出し若しくは蒸発させ、この構成粒子を帯状の基材上に堆積させることにより薄膜を形成する薄膜の形成方法であって、
前記帯状の基材を前記構成粒子の堆積領域内を複数回通過させて、この通過毎に前記帯状の基材上に前記構成粒子を堆積させ、前記帯状の基材上に複数層からなる薄膜を成膜することを特徴とする薄膜の形成方法。 - 前記帯状の基材が前記堆積領域内を通過する毎に、この帯状の基材の温度を変化させることを特徴とする請求項1記載の薄膜の形成方法。
- 前記ターゲットは、酸化物超電導体材料であり、前記薄膜は酸化物超電導体薄膜であることを特徴とする請求項1または2記載の薄膜の形成方法。
- 帯状の基材を収容する処理容器と、該処理容器内かつ前記帯状の基材の上方に配置されるターゲットホルダと、該ターゲットホルダに保持されるターゲットにレーザ光を照射するレーザ光発光手段とを備え、
前記レーザ光を前記ターゲットの表面に照射し、該ターゲットから叩き出され若しくは蒸発される構成粒子を前記帯状の基材上に堆積させる薄膜の形成装置であって、
前記処理容器内に、前記帯状の基材を巻回して搬送する搬送手段を設け、
該搬送手段は、前記帯状の基材を巻回する巻回部材を複数個同軸的に配列してなる巻回部材群を少なくとも一対、対向配置してなり、
これら一対の巻回部材群に巻回された前記帯状の基材は、これらの巻回部材群を周回することにより、前記構成粒子の堆積領域内にて複数列とされることを特徴とする薄膜の形成装置。 - 前記処理容器内に、複数列の前記帯状の基材を加熱する加熱手段を設け、該加熱手段に、放散される熱量を複数列の前記帯状の基材の配列方向に沿って変化させる熱量変化手段を設けてなることを特徴とする請求項4記載の薄膜の形成装置。
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