JP2015206576A - 脱ガス装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ロール・トゥ・ロール法によってフィルムの脱ガス処理を行う脱ガス装置において、小さなスペースで、十分なフィルムの搬送長を確保でき、かつ、メンテナンス性にも優れる脱ガス装置を提供する。
【解決手段】フィルムの脱ガス処理を行う真空チャンバ内に、互いに平行なローラを鉛直方向に向かって３本以上配列してなる第１ローラ列、および、第１ローラ列と水平方向に５０ｃｍ以上離間して配置される、第１ローラ列のローラと平行なローラを鉛直方向に向かって３本以上配列してなる第２ローラ列を有することにより、この課題を解決する。
【選択図】図１

Description

本発明は、フィルムから水分等の脱ガス処理を行う脱ガス装置に関する。詳しくは、ロール・トゥ・ロール法によって、フィルムの脱ガス処理を、安定して適正に行うことができる脱ガス装置に関する。

薄膜太陽電池やタッチパネルの製造において、基板となるフィルムに、スパッタリング等の気相成膜法によって、目的とする機能を発現するアモルファス半導体やＩＴＯ（Indium Tin Oxide(酸化インジウム錫)）などの薄膜を成膜することが行われている。
また、これらの薄膜を効率よく成膜する方法として、フィルムをロール状に巻回してなるロールからフィルムを送り出し、長手方向に搬送しつつ成膜や表面処理等の所定の処理を行い、成膜済のフィルムをロール状に巻き取る、いわゆるロール・トゥ・ロール法（Roll to Roll法 以下、ＲｔｏＲ法とも言う）が知られている。

ところで、気相成膜法では、意図的あるいは不可避的に、成膜基板となるフィルムが加熱される場合が多い。また、気相成膜法では、通常、真空チャンバ内を所定の圧力に減圧して成膜を行う。そのため、フィルムが水分等を含んでいると、成膜過程において、フィルムから水分等が放出され、これらの成分が不純物として膜中に混入する。また、このような不純物は、適正な成膜の阻害要因にもなる。
従って、アモルファス半導体等の成膜において、高品質な薄膜を成膜するためには、成膜基板となるフィルムに、水分などの揮発性成分が含まれていないことが重要である。

このような不都合を回避するために、薄膜太陽電池やタッチパネルの製造においては、アモルファス半導体やＩＴＯ等の成膜に先立ち、フィルム中に含まれる水分や、その他の揮発性成分を除去する、いわゆる脱ガス処理が行われる。

この脱ガス処理を適正に行うために、各種の脱ガス装置が提案されている。
例えば、特許文献１には、主に薄膜太陽電池の製造に利用されるＲｔｏＲ法による脱ガス処理装置において、脱ガス処理を行う真空チャンバを、フィルムが通過するスリットで連通する第１槽および第２槽に分けて、第１槽に不活性ガスを導入することにより、上流側の第１槽の圧力を、下流側の第２槽の圧力よりも高くする装置が記載されている。
特許文献１に記載される装置は、このような構成を有することにより、排出されるガスが多い第１槽では、フィルム表面へのガスの最付着を防止すると共に、熱伝達性を向上し、他方、排出されるガスが少なくなる第２槽では、圧力を低くして、フィルムからのガスの除去を好適に行うことができる。

特開２０００−２９９４８１号公報

このような脱ガス装置において、適正な脱ガス処理を行うためには、脱ガス処理を行うフィルムを、脱ガス処理に必要な時間、真空チャンバ内で搬送する必要がある。ここで、フィルムの搬送速度を遅くすれば、真空チャンバ内での搬送時間を確保できる。しかしながら、フィルムの搬送速度を遅くすると、生産性が低下する。従って、生産性を低下することなく、脱ガス処理の時間を長くするためには、真空チャンバ内において、十分なフィルムの搬送長を確保する必要が有る。
ところが、薄膜太陽電池やタッチパネルの製造設備では、脱ガス装置を設置するための場所が不十分である場合も多い。この際には、小型の真空チャンバの中に、フィルムを案内するローラを、多数、配置して、フィルムの搬送経路を何回も折り返すことにより、真空チャンバ内におけるフィルムの搬送長を長くする必要が有る。

一方で、脱ガス装置には、ローラのメンテナンス性が良好であることも要求される。
前述のように、脱ガス装置は、減圧した真空チャンバ中でフィルムを搬送しつつ、フィルムを加熱することにより、フィルムに含まれる水分等の揮発成分を除去する。従って、脱ガス装置のローラには、フィルムから排出された様々な物質が付着することが避けられない。
異物が付着したローラによってフィルムを搬送すると、ローラに付着した異物がフィルムに転写されて、フィルムが汚染されてしまう。

そのため、脱ガス装置では、必要に応じて、あるいは、定期的に、真空チャンバ内に作業員が入り、ローラの清掃や交換などのメンテナンスを行う必要が有る。

適正なメンテナンスを、良好な作業効率で行うためには、真空チャンバ内に、メンテナンスを行うための十分なスペース（空間）が必要である。
しかしながら、脱ガス装置では、フィルムを搬送するためのローラが、多数、配置されているため、メンテナンスを行うためのスペースを、十分に確保できない場合も多い。特に、小さな真空チャンバでは、前述のように、十分な搬送長を確保するために、より多くのローラを配置する必要が有るため、メンテナンスのためのスペースを十分に確保することは、困難である。

本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、例えば薄膜太陽電池やタッチパネルなど製造工程において、ＲｔｏＲ法によって基板となるフィルムの脱ガス処理を行う脱ガス装置であって、小型の真空チャンバでも、十分なフィルムの搬送長を確保でき、しかも、真空チャンバ内において、作業員がローラ等のメンテナンスを行うための十分なスペースを確保できる脱ガス装置を提供することにある。

このような目的を達成するために、本発明の脱ガス装置は、フィルムを長手方向に搬送しつつ、前記フィルムの脱ガス処理を行う脱ガス装置であって、
真空チャンバと、
前記真空チャンバ内を排気する真空ポンプと、
前記フィルムの加熱手段と、
前記真空チャンバ内に配置される、互いに平行なローラを鉛直方向に向かって３本以上配列してなる第１ローラ列と、
前記第１ローラ列と水平方向に５０ｃｍ以上離間して配置される、前記第１ローラ列のローラと平行なローラを鉛直方向に向かって３本以上配列してなる第２ローラ列とを有することを特徴とする脱ガス装置を提供する。

このような本発明の脱ガス装置において、前記第１ローラ列と第２ローラ列との間には、ローラを有さないのが好ましい。
また、前記第１ローラ列のローラが、前記真空チャンバの内壁と平行に配置されるのが好ましい。
また、前記真空チャンバが、前記真空チャンバの内壁に扉を有するのが好ましい。この際において、前記扉が、前記第１ローラ列と前記第２ローラ列との間に対応する位置に配置されるのがより好ましい。
さらに、前記第１ローラ列のローラの１以上、および、前記第２ローラ列のローラの１以上に、ローラを加熱するローラ加熱手段が設けられるのが好ましい。

このような本発明の脱ガス装置によれば、小型の真空チャンバでも、十分なフィルムの搬送長を確保でき、さらに、真空チャンバ内において、作業員がローラ等のメンテナンスを行うスペースも確保できる。
従って、本発明の脱ガス装置によれば、装置の小型化すなわち省スペースを実現した上で、十分なフィルム搬送長による適正な脱ガス処理を行うことができ、しかも、ローラ等のメンテナンス性も良好にできる。

本発明の脱ガス装置の一例を概念的に示す図である。 本発明の脱ガス装置の別の例を概念的に示す図である。

以下、添付の図面を基に、本発明の脱ガス装置について詳細に説明する。

図１に、本発明の脱ガス装置の一例を概念的に示す。なお、図１においては、上下方向は鉛直方向であり、従って、上下方向と直交する方向は水平方向となる。
図１に示す脱ガス装置１０は、ＲｔｏＲ法によって、フィルムＦの脱ガス処理を行うものである。すなわち、脱ガス装置１０は、例えば、薄膜太陽電池やタッチパネル等の製造において、フィルムＦの搬送方向の上流（以下、単に上流、逆側を下流とも言う）側の装置Ｘから供給されたフィルムＦ（ウェブ）を、長手方向に搬送しつつ脱ガス処理を行い、脱ガス処理を行ったフィルムＦを、下流側の装置Ｙに搬送する。

このような脱ガス装置１０は、基本的に、真空チャンバ１２と、真空ポンプ１４と、ローラ１６ａ〜１６ｊと、フィルム加熱手段２０と、チャンバ壁加熱手段２４とを有して構成される。また、ローラ１６ａ〜１６ｉは、ローラ加熱手段２６を内蔵している。
なお、脱ガス装置１０には、図示した部材以外にも、フィルムＦの搬送ガイド、温度測定手段、圧力測定手段、不活性ガスの導入手段、真空チャンバ１２の内部監視手段等、公知のフィルムからの脱ガス装置が有する各種の部材を有してもよい。

脱ガス装置１０において、上流側の装置Ｘから搬送されたフィルムＦは、底面に形成されたスリット１２ａから、所定の圧力に減圧された真空チャンバ１２内に搬送され、ローラ１６ａ〜１６ｂによって所定方向に案内されて搬送されつつ、フィルム加熱手段２０によって加熱され、脱ガス処理を行われる温度まで昇温される。
フィルム加熱手段２０によって温度に加熱されたフィルムＦは、ローラ１６ａ〜１６ｊによって所定の経路で搬送されつつ、脱ガス処理を施され、上面に形成されたスリット１２ｂを通り、真空チャンバ１２から排出されて、下流側の装置Ｙに搬送される。

なお、本発明の脱ガス装置１０において、脱ガス装置１０にフィルムＦを供給する上流側の装置Ｘ、および、脱ガス装置１０から脱ガス処理したフィルムＦを供給される装置Ｙは、脱ガス装置１０が製造に利用される製品等に応じて、各種の装置が利用可能である。
従って、装置Ｘは、フィルムＦを巻回してなるフィルムロールからフィルムＦを送り出す巻出し装置（アンワインダ）でも、フィルムＦに表面処理等を行う処理装置でも、フィルムＦに成膜を行う成膜装置でもよい。他方、装置Ｙも、脱ガス処理を施されたフィルムＦを巻き取る巻取り装置（ワインダ）でも、脱ガス処理を施されたフィルムＦに表面処理等を行う処理装置でも、脱ガス処理を施されたフィルムＦに成膜を行う成膜装置でもよい。

さらに、本発明の脱ガス装置１０で脱ガス処理を行うフィルムＦも、公知の樹脂フィルムが、各種、利用可能である。
具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、アクリル、ポリカーボネート等の各種の樹脂材料からなるフィルム等が好適に例示される。

図示例の脱ガス装置１０において、真空チャンバ１２は、内部を目的とする真空度に維持可能であれば、各種の脱ガス装置に利用される、ステンレス等で形成される公知の真空チャンバが利用可能である。真空チャンバ１２には、必要に応じて腐食防止等を目的にメッキ処理がなされていてもよい。
図示例の脱ガス装置１０においては、真空チャンバ１２は、一例として、略四角柱状の形状を有する。

真空チャンバ１２には、後述する図中左側の第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間に対応して、真空チャンバ１２の内部に作業員が入るための扉３４が設けられる。
この点に関しては、後に詳述する。

真空ポンプ１４も、真空チャンバ１２の内部における脱ガス処理により発生した気体を十分に排気することができ、目的とする真空度が得られるものであれば、公知の各種の真空ポンプが利用可能である。具体的には、油拡散ポンプ、油回転ポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ等が例示される。
また、脱ガス装置１０は、必要に応じて、真空チャンバ１２内の圧力を下げるために、補助手段として公知のクライオコイルを用いてもよい。なお、脱ガス装置１０は、クライオコイルを、１個のみ用いてもよく、複数のクライオコイルを用いてもよい。さらに、本発明においては、圧力を下げるための補助手段は、クライオコイル以外にも、公知の各種のものが利用可能である。

なお、脱ガス装置１０において、脱ガス処理を行う際の真空チャンバ１２内の圧力は、成膜装置において成膜を行う際の圧力や、フィルムＦの種類や厚さ、脱ガスを行う際のフィルムＦの温度等に応じて、脱ガス処理を好適に行うことができる圧力を、適宜、設定すればよい。

フィルム加熱手段２０は、長手方向に搬送されるフィルムＦを加熱して、フィルムＦを脱ガス処理に対応する所定温度にするものである。
上流の装置Ｘから搬送されたフィルムＦは、ローラ１６ａ〜１６ｂによって所定方向にガイドされて搬送され、ローラ１６ａの上流に配置されるフィルム加熱手段２０で加熱されて、脱ガス処理に対応する所定温度まで昇温される。

フィルム加熱手段２０は、フィルムＦを目的とする温度まで加熱可能であれば、公知の各種のフィルム状物（シート状物）の加熱手段が利用可能である。なお、フィルム加熱手段２０は、真空中でフィルムＦを加熱するものでも、大気圧下でフィルムＦを加熱するものでもよい。
具体的には、フィルム加熱手段２０は、加熱ローラ、温風による加熱手段、熱電ヒータを利用する加熱手段等の、公知のフィルム状物（シート状物）の加熱手段が、各種利用可能である。
また、図１に示す脱ガス装置１０においては、好ましい態様として、フィルム加熱手段２０は、真空チャンバ１２の内部に配置されている。しかしながら、本発明の脱ガス装置では、真空チャンバ１２へのフィルムＦの入り口となるスリット１２ａの直上流など、真空チャンバ１２の外部にフィルム加熱手段を設けてもよい。

フィルム加熱手段２０によるフィルムＦの加熱温度（脱ガス処理の温度）は、フィルムＦの種類や厚さ、脱ガス処理を行う際の真空チャンバ１２内の圧力、真空チャンバ１２内におけるフィルムＦの搬送長や搬送速度等に応じて、フィルムＦの脱ガス処理を確実に行える温度を、適宜、設定すればよい。
なお、図示例の脱ガス装置１０は、フィルム加熱手段２０を、フィルムＦの搬送方向の一カ所にしか配置していないが、必要に応じて、フィルムＦの搬送方向の複数箇所に、フィルム加熱ヒータを配置してもよい。

フィルム加熱手段２０で加熱されたフィルムＦは、ローラ１６ａ〜１６ｊによって所定の搬送経路に案内されて搬送され、スリット１２ｂから真空チャンバ１２（脱ガス装置１０）の外に搬送され、下流の装置Ｙに供給される。
ローラ１６ａ〜１６ｊは、ＲｔｏＲ法を利用する装置に用いられる、フィルムＦをガイド（搬送経路を変更）するための公知のローラである。

これらのローラ１６ａ〜１６ｊは、基本的に、フィルムＦを所定の搬送経路に案内（搬送経路を変更）する機能のみを有する、従動ローラ（フリーローラ）である。
しかしながら、ローラ１６ａ〜１６ｊの内の幾つかは、必要に応じて、駆動ローラであってもよい。また、ローラ１６ａ〜１６ｊの内の幾つかは、必要に応じて、フィルムＦの張力を検出するテンションピックアップ、フィルムＦの張力を調整するテンションコントローラなど、フィルムＦを所定経路に案内する以外の機能を有してもよい。

脱ガス装置１０において、ローラ１６ａ〜１６ｉは、ローラを加熱するためのローラ加熱手段２６を内蔵している。
また、脱ガス装置１０の真空チャンバ１２の上面、ならびに、左右の内壁面には、真空チャンバ１２の壁（以下、チャンバ壁とも言う）を加熱するチャンバ壁加熱手段２４が設けられる。

図示例の脱ガス装置１０においては、このようなロータ加熱手段２６によって加熱されたローラによるフィルムＦの搬送、および、チャンバ壁加熱手段２４によるチャンバ壁の加熱によって、フィルム加熱手段２０によって加熱されたフィルムＦの温度を維持しつつ、真空チャンバ１２内でフィルムＦを搬送できる。
すなわち、図示例の脱ガス装置１０は、このような、フィルムＦの加熱手段、ローラ加熱手段、および、チャンバ壁の加熱手段という、３種の加熱手段を有することにより、フィルムＦの温度を脱ガスに対応する所定温度以上に維持した状態で、真空チャンバ１２内を搬送して、適正な脱ガス処理を行うことができる。

ロータ加熱手段２６は、脱ガス装置等で利用されている公知のローラ加熱手段が、各種、利用可能である。
具体的には、電熱ヒータ、温媒循環手段等が例示される。なお、図示例の脱ガス装置１０では、ローラ加熱手段２６はローラ１６ａ等に内蔵されている。しかしながら、本発明の脱ガス装置では、外部からローラを加熱するローラ加熱手段も利用可能である。
なお、測定や制御の精度が低下するのを防止するために、駆動ローラ、および、テンションピックアップやテンションコントローラ等として機能するローラには、ロータ加熱手段２６は設けない方がよい。すなわち、図示例の脱ガス装置１０においては、ローラ１６ｊをテンションピックアップ等として利用するのが好ましい。

チャンバ壁加熱手段２４も、公知の板状物の加熱手段が、各種、利用可能である。
具体的には、シーズヒータ、リボンヒータ等が例示される。

なお、本発明の脱ガス装置１０において、ロータ加熱手段２６を設けるローラ、および、その数、ならびに、チャンバ壁加熱手段２４の位置、および、その数は、図示例に限定はされず、様々な構成が利用可能である。

前述のように、スリット１２ａから所定の圧力に減圧された真空チャンバ１２内に搬送されたフィルムＦは、ローラ１６ａ〜１６ｂによって案内されて搬送されつつ、フィルム加熱手段２０よって加熱され、また、ローラ１６ａ〜１６ｊによって案内されて真空チャンバ１２内を搬送されつつ、脱ガス処理を行われ、スリット１２ｂを通り、真空チャンバ１２から排出される。

ここで、図示例の脱ガス装置１０において、真空チャンバ１２の図中左側の内壁面の近傍で鉛直方向に向かって（真空チャンバ１２の天井面から底面に向かって（底面から天井面に向かって））配列されるローラ１６ａ、１６ｃ、１６ｅ、１６ｇおよび１６ｉは、本発明における第１ローラ列３０を構成する。従って、このローラ１６ａ、１６ｃ、１６ｅ、１６ｇおよび１６ｉは、互いに平行であり、好ましい態様として、図中左側の真空チャンバ１２の内壁面に平行である。
また、真空チャンバ１２の図中右側の内壁面の近傍で鉛直方向に向かって（真空チャンバ１２の天井面から底面に向かって（底面から天井面に向かって））配列されるローラ１６ｂ、１６ｄ、１６ｆ、１６ｈおよび１６ｊは、本発明における第２ローラ列３２を構成する。従って、ローラ１６ｂ、１６ｄ、１６ｆ、１６ｈおよび１６ｊは、第１ローラ列３０を構成するローラ１６ａ、１６ｃ、１６ｅ、１６ｇおよび１６ｉと、それぞれ平行であり、かつ、第２ローラ列３２は、第１ローラ列３０と水平方向に５０ｃｍ以上、離間して配置される。すなわち、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２とは、水平方向に最も近接するローラの間隔ａ（図示例では、全ローラの水平方向の間隔ａ）が、５０ｃｍ以上である。

なお、図１に示す脱ガス装置１０においては、第１ローラ列３０を構成するローラ１６ａ、１６ｃ、１６ｅ、１６ｇおよび１６ｉは、水平方向には、同位置に配置される（鉛直方向に直線状に配列される）。同様に、第２ローラ列３２を構成するローラ１６ａ、１６ｃ、１６ｅ、１６ｇおよび１６ｉも、水平方向には、同位置に配置される。
しかしながら、本発明は、これに限定はされない。すなわち、本発明において、第１ローラ列および／または第２ローラ列は、全てのローラが鉛直方向に直線状に配列（全てのローラの回転中心が、鉛直方向に延在する同一平面上に配置）されるのに限定はされない。
言い換えれば、第１ローラ列および／または第２ローラ列は、１以上のローラが水平方向に異なる位置（１以上のローラの回転中心が、他の２以上のローラの回転中心が成す平面と異なる位置）に配置されて、鉛直方向に向かって配列されるローラ列を形成してもよい。すなわち、本発明において、鉛直方向に向かって配列されるローラ列とは、３本以上のローラが、脱ガス装置の天井面から底面（底面から天井面）に向かって並んでいればよい。
例えば、図２に概念的に示すように、第１ローラ列３０ａは、ローラ１６ｉのみが水平方向（図中横方向）の右側にずれた位置に配置され、第２ローラ列３２ａは、ローラ１６ｂのみが水平方向の左側にずれた位置に配置されてもよい。あるいは、全てのローラの回転中心が、鉛直方向に対して傾斜して延在する同一平面上に位置するローラ列でもよい。
また、このように、第１ローラ列を構成するローラの１以上が水平方向に異なる位置に配置される場合、および／または、第２ローラ列を構成するローラの１以上が水平方向に異なる位置に配置される場合には、第１ローラ列と第２ローラ列とにおいて、水平方向に最も近接するローラ同士の水平方向の間隔を５０ｃｍ以上とする。例えば、図２に示す例のように、第１ローラ列３０ａのローラ１６ｉが水平方向の右側にずれた位置に配置され、第２ローラ列３２ａのローラ１６ｂが水平方向の左側にずれた位置に配置される場合には、水平方向に最も近接するローラ１６ｉとローラ１６ｂとの水平方向の間隔ａを５０ｃｍ以上とする。
なお、本発明の脱ガス装置において、第１ローラ列および／または第２ローラ列を構成する各ローラは、長手方向（回転軸の延在方向）に、異なる位置に配置されてもよく、長手方向の長さが異なってもよい。さらに、第１ローラ列および／または第２ローラ列を構成する各ローラは、１以上が、径が異なるものであってもよい。

本発明の脱ガス装置１０は、このようにローラを配置することにより、小型の真空チャンバ１２であっても、十分なフィルムＦの搬送長を確保し、さらに、作業員がローラの清掃等のメンテナンスを行うスペース（空間）を確保することを可能にしている。

前述のように、フィルムＦの脱ガス処理を行う脱ガス装置では、適正な脱ガス処理を行うためには、十分なフィルムＦの搬送長が必要である。しかしながら、脱ガス装置の設置スペースには、制限が有るのが通常であり、脱ガス装置を小型化せざるを得ない場合も多い。また、脱ガス装置に限らず、他の装置においても省スペースの点で装置は小型の方が有利である。
そのため、脱ガス装置、特に小型の脱ガス装置では、多数のローラを配置して、狭い空間の中で、フィルムＦの搬送経路を何回も折り返す必要が有る。
一方で、脱ガス装置では、脱ガスによってローラに付着した異物によるフィルムの汚染等を防止するためには、ローラの清掃等のメンテナンスが、必須である。しかしながら、多数のローラを配置した真空チャンバ内では、作業員が良好な作業性でメンテナンスを行えるだけのスペースを確保することは、困難である。

これに対し、本発明の脱ガス装置１０は、互いに平行な３本以上のローラを鉛直方向に向かって配列してなる第１ローラ列３０と、第１ローラ列３０と水平方向に５０ｃｍ以上離間して配置される、第１ローラ列３０のローラと平行な３本以上のローラを鉛直方向に向かって配列してなる第２ローラ列３２とを有する。
また、好ましくは、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間には、ローラは配置されず、さらに、第１ローラ列３０を構成する各ローラは、真空チャンバ１２の内壁面と平行である。

このような本発明の脱ガス装置１０によれば、図１に示すように、ローラ１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄ…１６ｊと、第１ローラ列３０および第２ローラ列３２のローラに交互にフィルムＦを通して、フィルムＦを横方向に往復搬送することで、真空チャンバ１２内におけるフィルムＦの搬送長を長くできる。従って、小さい真空チャンバ１２でも、十分なフィルムＦの搬送長を確保できる。
さらに、このように搬送長を確保した上で、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間に、ローラの清掃等のメンテナンスを行うためのメンテナンススペース４６を確保できるので、作業員がローラの清掃等のメンテナンスを行う際の作業性を向上できる。
従って、本発明の脱ガス装置１０によれば、装置の小型化すなわち省スペースを実現した上で、十分なフィルム搬送長による適正な脱ガス処理を行うことができ、しかも、ローラ等のメンテナンス性も良好にできる。

第１ローラ列３０は、互いに平行なローラが、水平方向に重複することなく鉛直方向に向かって３本以上、配列されていれば、ローラの本数や位置には、特に限定は無い。
他方、第２ローラ列３２は、第１ローラ列３０のローラに平行なローラが、水平方向に重複することなく鉛直方向に向かって３本以上、配列され、かつ、全てのローラが水平方向に第１ローラ列３０（第１ローラ列３０を構成するローラ）と５０ｃｍ以上、離間していれば、ローラの本数や位置には、特に限定は無い。
なお、第１ローラ列３０および第２ローラ列３２は、共に、鉛直方向に向かって配列されるローラを３本以上有するのが好ましく、５本以上有するのがより好ましい。これにより、フィルムＦの横方向の往復搬送回数を増やして、より長いフィルムＦの搬送長を確保できる。

また、第１ローラ列３０を構成するローラは、真空チャンバ１２の内壁面と平行であるのが好ましい。
これにより、真空チャンバ１２内におけるスペースの無駄を無くして、さらなる装置の小型化、長い搬送長の確保、広いメンテナンススペース４６の確保が可能になる。
なお、真空チャンバが角柱状ではなく、円柱状等で、真空チャンバの内壁面が曲面である場合には、その曲面の中心軸と直交する方向を、真空チャンバの内壁面と平行と見なせばよい。

本発明の脱ガス装置１０において、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間隔ａが、５０ｃｍ未満では、十分なメンテナンススペースを確保できない。
なお、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間隔ａは、５０ｃｍ以上であれば、真空チャンバの形状や大きさ等に応じて、適宜、決定すればよい。
ここで、本発明者らの検討によれば、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間隔ａは、６０ｃｍ以上が好ましい。
このような構成を有することにより、搬送長をより長くできると共に、メンテナンススペース４６もより広くできる。

本発明の脱ガス装置１０においては、好ましくは、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間には、ローラが配置されない。より好ましくは、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間には、メンテナンスの邪魔になる部材は、配置されない。
このような構成を有することにより、メンテナンススペース４６におけるメンテナンスの作業性を、より向上できる。
なお、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間とは、高さが第１ローラ列３０および第２ローラ列３２の最上部および最下部（すなわち、ローラ１６ｊの上端とローラ１６ａの下端）で、幅が間隔ａで、奥行きが最も長いローラの幅となる四角柱（直方体（あるいは立方体））が成す空間である。
また、同様の理由で、第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間（前記四角柱）を鉛直方向の上下に延長した空間内では、２００ｃｍ以下の高さの位置、特に、１８０ｃｍ以下の高さでの位置には、いずれのローラも配置されないのがより好ましい。また、同様の理由で、底面から５０ｃｍ以上の高さの位置にも、いずれのローラも配置されないのが好ましい。
さらに、この空間内の、高さ２００ｃｍ以下かつ５０ｃｍ以上の位置には、真空チャンバ１２の上面および底面に設けられた部材を除き、メンテナンスの邪魔になる部材は、配置されないのが特に好ましい。

本発明の脱ガス装置１０において、第１ローラ列３０および第２ローラ列３２の少なくとも一方は、全てのローラが真空チャンバ１２の内壁に近接しているのが好ましい。具体的には、第１ローラ列３０および第２ローラ列３２の少なくとも一方は、全てのローラが、真空チャンバ１２の内壁（あるいは内壁に固定される部材）からの距離が、１０ｃｍ以下であるのが好ましく、５ｃｍ以下であるのがより好ましく、２ｃｍ以下であるのがさらに好ましく、１．５ｃｍ以下であるのが最も好ましい。
なお、物理的な干渉を考慮すると、ローラと真空チャンバ１２の内壁（あるいは内壁に固定される部材）との距離は、１ｃｍ以上とするのが好ましい。
これにより、フィルムＦの搬送長を長くできると共に、メンテナンススペース４６を、より広く確保することができる。

図示例の脱ガス装置１０は、真空チャンバ１２の内壁に、メンテナンスを行う作業員が真空チャンバ１２内に入るための扉３４を有するのが好ましい。扉３４は、メンテナンススペース４６すなわち第１ローラ列３０と第２ローラ列３２との間の空間に対応する真空チャンバ１２の内壁に設けられるのがより好ましい。
このような扉３４を有することにより、作業員が容易にメンテナンススペース４６に入って、ローラの清掃等のメンテナンスを行うことが可能になる。

図示例の脱ガス装置１０は、第１ローラ列と第２ローラ列との組み合わせを、１つ有するものである。しかしながら、本発明の脱ガス装置は、これ以外にも、第１ローラ列と第２ローラ列との組み合わせを、複数、有するものでもよい。
また、第１ローラ列と第２ローラ列との組み合わせを、複数、有する場合には、第１ローラ列および第２ローラ列の一方もしくは両方が、チャンバ壁に近接しないローラ列の組み合わせを有してもよい。
さらに、第１ローラ列と第２ローラ列との組み合わせを、複数、有する場合には、真空チャンバ１２の内壁に設けられる扉は、１つの第１ローラ列と第２ローラ列との組み合わせのみに対応して形成してもよい。しかしながら、本発明の脱ガス装置における各ローラの配列上、真空チャンバ１２内において、一方のメンテナンススペースから、他方のメンテナンススペースに移動することが、困難である場合も多い。従って、目的とする到達真空度を確保できれば、複数もしくは全てのメンテナンススペースに対応して、作業員が真空チャンバ１２内に入るための扉を設けてもよい。

本発明の脱ガス装置１０において、フィルムＦの搬送経路、すなわちフィルムＦを案内するローラの配置位置は、第１ローラ列および第２ローラ列の条件を満たすものであれば、図示例以外にも、各種の搬送経路が利用可能である。さらに、フィルムＦが通過するスリットも、脱ガス装置１０（真空チャンバ１２）の所望の壁面に形成可能である。
また、ローラ１６ａ〜１６ｊのいずれかにフィルムＦを掛け回さない、ローラ１６ａ〜１６ｊにおけるフィルムＦを掛け回す順番を変更する等によって、真空チャンバ１２内におけるフィルムＦの搬送経路を変更できるようにしてもよい。
なお、脱ガス装置１０は、フィルムＦの搬送駆動源を有さず、装置Ｘや装置Ｙなど、脱ガス装置１０の上下流に配置される装置によるフィルムＦの搬送を、脱ガス装置１０におけるフィルムＦの搬送駆動源として利用してもよい。

以上、本発明の脱ガス装置について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。

薄膜太陽電池の製造やタッチパネルの製造など、樹脂フィルムを基板とする各種の製品の製造に、好適に利用可能である。

１０ 脱ガス装置
１２ 真空チャンバ
１４ 真空ポンプ
１６ａ〜１６ｊ ローラ
２０ フィルム加熱手段
２４ チャンバ壁加熱手段
２６ ローラ加熱手段
３０，３０ａ 第１ローラ列
３２，３２ａ 第２ローラ列
３４ 扉
４６ メンテナンススペース

Claims (6)

1. フィルムを長手方向に搬送しつつ、前記フィルムの脱ガス処理を行う脱ガス装置であって、
   真空チャンバと、
   前記真空チャンバ内を排気する真空ポンプと、
   前記フィルムの加熱手段と、
   前記真空チャンバ内に配置される、互いに平行なローラを鉛直方向に向かって３本以上配列してなる第１ローラ列と、
   前記第１ローラ列と水平方向に５０ｃｍ以上離間して配置される、前記第１ローラ列のローラと平行なローラを鉛直方向に向かって３本以上配列してなる第２ローラ列とを有することを特徴とする脱ガス装置。
2. 前記第１ローラ列と第２ローラ列との間には、ローラを有さない請求項１に記載の脱ガス装置。
3. 前記第１ローラ列のローラが、前記真空チャンバの内壁と平行に配置される請求項１または２に記載の脱ガス装置。
4. 前記真空チャンバが、前記真空チャンバの内壁に扉を有する請求項１〜３のいずれかに記載の脱ガス装置。
5. 前記扉が、前記第１ローラ列と前記第２ローラ列との間に対応する位置に配置される請求項４に記載の脱ガス装置。
6. 前記第１ローラ列のローラの１以上、および、前記第２ローラ列のローラの１以上に、ローラを加熱するローラ加熱手段が設けられる請求項１〜５のいずれかに記載の脱ガス装置。